- 日本
- Cyber Laser Inc
- Koshin Kogaku Co Ltd Sub of Yamaichi Electronics Co Ltd
- Kyosemi Opto America Corp
- Opto Science Inc
- Spectra Quest Lab Inc.
- 安立公司
- Furukawa Electric
- Gigaphoton
- Kimmon Koha
- Mitsubishi Electric
- Neoark Corporation
- Nichia Corporation
- NTT Electronics Corporation
- OXIDE Corporation
- Panasonic Corporation
- QD Laser
- Ricoh Company, Ltd.
- ROHM Semiconductor
- Santec Corporation
- Shinkoh Electronics
- Sony Semiconductor Solutions Corporation
- Spectronix
- Stanley Electric
- Toshiba Corporation
- 牛尾
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 248 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的G20K是波长为248nm、功率为20W、脉冲能量为10mJ的激光器。有关G20K的更多详细信息，请联系我们。
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 248 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的G21K是波长为248nm、功率为20W、脉冲能量为10mJ的激光器。有关G21K的更多详细信息，请联系我们。
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的G41A是波长为193nm、功率为20W、脉冲能量为5mJ的激光器。有关G41A的更多详细信息，请联系我们。
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 248 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的G41K-1H是波长为248nm、功率为40W、脉冲能量为10mJ的激光器。有关G41K-1H的更多详细信息，请联系我们。
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的G42A是波长为193nm、功率为20W、脉冲能量为5mJ的激光器。有关G42A的更多详细信息，请联系我们。
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类型: Laser System 技术: Excimer Laser 工作模式: Pulsed Laser 超快激光: Nanosecond Lasers 可调谐: No用于低温多晶硅平板显示行业的新型准分子激光器
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的GT40A是波长为193nm、功率为45W、脉冲能量为11.25mJ的激光器。GT40A的更多细节可以在下面看到。
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的GT60A是波长为193nm、功率为60W、脉冲能量为10mJ的激光器。GT60A的更多细节可以在下面看到。
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的GT61A是波长为193nm、功率为60W、脉冲能量为10mJ的激光器。GT61A的更多细节可以在下面看到。
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的GT62A是波长为193nm、功率为60至90W、脉冲能量为10至15mJ的激光器。有关GT62A的更多详细信息，请联系我们。
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的GT63A是波长为193nm、功率为60至90W、脉冲能量为10至15mJ的激光器。有关GT63A的更多详细信息，请联系我们。
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类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No来自Gigaphoton的GT64A是波长为193nm、功率为60至120W、脉冲能量为10至20mJ的激光器。有关GT64A的更多详细信息，请联系我们。
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波长: 193 nm 功率: ≥60 WGT65A作为采用注入锁定方式的第7代平台，引入了先进的技术，通过光谱带宽（E95）可变及稳定性提高实现的“曝光性能改善”、组件寿命延长实现的“高劳动效率”及无氦实现的“减轻环境负荷”，帮助客户进一步实现生产率（晶元输出）的提高。
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波长: 193 nm 功率: 60-90 W先进产品制造目前仍继续应用摩尔定律，技术节点日益微细化。这些尖端产品对转印到晶圆上的曝光图案、特别是EPE（Edge Placement Error）具有很高的要求。作为光源通过降低直接影响EPE的CD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)，为提高批量生产现场的成品率提供帮助。 新型浸没式曝光光源“GT66A”通过新开发的光学模块成功地将散斑对比度降低30%，减少了LER/LWR。还通过引入新的高度耐用零件，将模块的维护周期延长30%。由此实现进一步改善工序成品率、提高光源的可用性，为尖端节点批量生产的高生产性提供帮助。
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波长: 193 nm 功率: 45-90 WGT45A是一款基于先进的ArF浸没式光刻光源GT65A平台，具备高功能扩展性的机型。 通过搭载新型模块实现的“高运转率”、继承当前机型GT40A的“无氦气”技术，可以在提高生产率的同时，减轻环境负荷。 通过光谱宽度的稳定性改善、可变光谱技术、最高可达90W的高输出功率，满足客户的多样化需求。
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波长: 193 nm 功率: 45-90 WGT45A是一款基于先进的ArF浸没式光刻光源GT65A平台，具备高功能扩展性的机型。 通过搭载新型模块实现的“高运转率”、继承当前机型GT40A的“无氦气”技术，可以在提高生产率的同时，减轻环境负荷。 通过光谱宽度的稳定性改善、可变光谱技术、最高可达90W的高输出功率，满足客户的多样化需求。
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波长: 248 nm 应用行业: 下一代微细烧蚀加工KrF激光器“G300K”是加入GIGANEX产品阵容的一款新机型，它将微细等“加工优化”作为理念，在保持高输出、99%以上高开工率的同时，实现了客户ROI的最大化的型号。“G300K”采用累计出货量达900多台的本公司半导体光刻用KrF光源G41K作为基本平台，新开发并搭载了适合高输出的电源、激光腔室。从而为客户在半导体制造后端工序中下一代微细加工工序，通过提高生产性及减少COO以实现ROI的最大化提供帮助。
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波长: 248 nm 功率: 40-60 WKrF光刻光源G60K以继承Gigaphoton多年技术和积累经验的KrF光源技术为基础，支持超过300片/h的光刻机处理速度，通过输出功率达到以往产品的150%，并将模块寿命延长到最高200%，为改善可用性提供帮助。G60K还兼具扩展性，通过新开发的电源和模块来支持未来高输出、高频率等性能改进，满足对未来KrF曝光技术的要求。还标配无氦技术，有助于减少气体的消耗量。
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波长: 248 nm 功率: 40-50 W4kHz KrF准分子激光器系列的第3代机型G45K，是一款旨在提高最尖端存储芯片的生产效率、功率最高可达50W的高功率机型。该机型通过延长模块的使用寿命和绿色技术，可以同时实现“提高生产率”和“减轻环境负荷”两大目标。
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类型: Laser System 工作模式: CW Laser 波长: 325 nm 可调谐: No 激光颜色: Ultraviolet来自Kimmon Koha的IK3023R-BR是一款波长为325 nm、功率为0.002 W、输出功率（CW）为0.002 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。有关IK3023R-BR的更多详细信息，请联系我们。