精密级平板分束器具有更高的平面度和平行规格，尤其适用于激光和成像应用。这些精密分束器的两面都经过抛光，平面度高达 λ/4，表面质量极佳。精密分束器由高质量的光学抛光 BK7 制成，两个表面的平行度都很高。 我们库存的精密分光器可用于可见光、近红外和电信波长，分光比为 50/50。 分光器涂层为高质量电介质涂层，分束器的非分光面为多层抗反射涂层，以消除第二面鬼影效应。

精密级平板分束器具有更高的平面度和平行规格，尤其适用于激光和成像应用。这些精密分光镜的两面都经过抛光，平面度高达 λ/4，表面质量极佳。精密分束器由高质量的光学抛光 BK7 制成，两个表面的平行度都很高。 我们库存的精密分束器可用于可见光、近红外和电信波长，分光比为 50/50。 分束器涂层为高质量电介质涂层，分束器的非分光面为多层抗反射涂层，以消除第二面鬼影效应。

这些通用型板式分束器的使用角度为 45°。我们的平板分光镜可用于可见光、近红外和电信应用。我们备有用于可见光应用（如成像）的 50/50 板式分光镜和 70/30 板式分光镜，以及用于近红外应用（如医疗、激光应用和干涉仪）的 50/50 板式分光镜。 分束器多层介质涂层沉积在具有较好平整度和表面质量的标准白浮法玻璃上。所有通用级分束器的背面都有一层多层宽带抗反射涂层，以消除二次反射问题。 奈特光学的平板分光镜有 1 毫米和 3 毫米两种厚度。1 毫米厚的分光镜适用于对紧凑性和重量有要求的场合。所用的白色浮法玻璃可避免强烈的红外吸收，因此在近红外板式分束器中特别有用。

这些通用型板式分束器的使用角度为 45°。我们的平板分束器可用于可见光、近红外和电信应用。我们备有用于可见光应用（如成像）的 50/50 板式分光镜和 70/30 板式分束器，以及用于近红外应用（如医疗、激光应用和干涉仪）的 50/50 板式分光镜。 分束器多层介质涂层沉积在具有较好平整度和表面质量的标准白浮法玻璃上。所有通用级分束器的背面都有一层多层宽带抗反射涂层，以消除二次反射问题。 奈特光学的平板分束器有 1 毫米和 3 毫米两种厚度。1 毫米厚的分束器适用于对紧凑性和重量有要求的场合。所用的白色浮法玻璃可避免强烈的红外吸收，因此在近红外板式分光镜中特别有用。

这些火抛光非球面镜片是通过简单的模制过程制造的玻璃镜片，抛光时只需加热到足以熔化表面，让表面张力将缺陷磨平。与焦距相比，这些镜片的直径通常很大。火抛光非球面透镜具有较大的孔径，因此非常适合集光应用，如 LED 投影仪中的聚光透镜。 平凸透镜的第二个面经过光学抛光，质量更好。 奈特光学备有全系列热增韧非球面镜片和未增韧火抛光非球面镜片。

这些火抛光非球面镜片是通过简单的模制过程制造的玻璃镜片，抛光时只需加热到足以熔化表面，让表面张力将缺陷磨平。与焦距相比，这些镜片的直径通常很大。火抛光非球面透镜具有较大的孔径，因此非常适合集光应用，如 LED 投影仪中的聚光透镜。 平凸透镜的第二个面经过光学抛光，质量更好。 奈特光学备有全系列热增韧非球面镜片和未增韧火抛光非球面镜片。

XLR 900ix 引入了新的斑点减少技术，可将斑点对比度降低 30%，显著改善局部 CDU。它还提高了生产率，降低了拥有成本，使服务间隔时间延长了 25%，每年只需进行一次触摸。这得益于赛默公司经过现场测试的新型腔体和光学模块，这些模块已在 140 多套 XLR 系统中投入生产。该系统还采用了新的机器学习技术，通过减少校准和气体刷新事件来提高可用性，同时通过降低功耗和气体消耗来实现可持续发展。

氩氦射线干式光刻技术在芯片制造过程中至关重要。ArF 干法光刻光源（如赛默公司的 XLA 105）可对晶片上的大量中间关键层进行图案化，同时延长模块寿命并加强关键尺寸 (CD) 控制。 随着 CD 的不断缩小，以及对最关键层更精细分辨率的需求，ArF 干光刻工具也开始对非关键层进行图案化，而这些非关键层历来是由 KrF 光源进行图案化的。赛默公司的干式光刻光源具有可靠性和成本效益，是大批量生产的理想选择。

GT65A作为采用注入锁定方式的第7代平台，引入了先进的技术，通过光谱带宽（E95）可变及稳定性提高实现的“曝光性能改善”、组件寿命延长实现的“高劳动效率”及无氦实现的“减轻环境负荷”，帮助客户进一步实现生产率（晶元输出）的提高。

先进产品制造目前仍继续应用摩尔定律，技术节点日益微细化。这些尖端产品对转印到晶圆上的曝光图案、特别是EPE（Edge Placement Error）具有很高的要求。作为光源通过降低直接影响EPE的CD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)，为提高批量生产现场的成品率提供帮助。 新型浸没式曝光光源“GT66A”通过新开发的光学模块成功地将散斑对比度降低30%，减少了LER/LWR。还通过引入新的高度耐用零件，将模块的维护周期延长30%。由此实现进一步改善工序成品率、提高光源的可用性，为尖端节点批量生产的高生产性提供帮助。

GT45A是一款基于先进的ArF浸没式光刻光源GT65A平台，具备高功能扩展性的机型。 通过搭载新型模块实现的“高运转率”、继承当前机型GT40A的“无氦气”技术，可以在提高生产率的同时，减轻环境负荷。 通过光谱宽度的稳定性改善、可变光谱技术、最高可达90W的高输出功率，满足客户的多样化需求。

GT45A是一款基于先进的ArF浸没式光刻光源GT65A平台，具备高功能扩展性的机型。 通过搭载新型模块实现的“高运转率”、继承当前机型GT40A的“无氦气”技术，可以在提高生产率的同时，减轻环境负荷。 通过光谱宽度的稳定性改善、可变光谱技术、最高可达90W的高输出功率，满足客户的多样化需求。

KrF激光器“G300K”是加入GIGANEX产品阵容的一款新机型，它将微细等“加工优化”作为理念，在保持高输出、99%以上高开工率的同时，实现了客户ROI的最大化的型号。“G300K”采用累计出货量达900多台的本公司半导体光刻用KrF光源G41K作为基本平台，新开发并搭载了适合高输出的电源、激光腔室。从而为客户在半导体制造后端工序中下一代微细加工工序，通过提高生产性及减少COO以实现ROI的最大化提供帮助。

KrF光刻光源G60K以继承Gigaphoton多年技术和积累经验的KrF光源技术为基础，支持超过300片/h的光刻机处理速度，通过输出功率达到以往产品的150%，并将模块寿命延长到最高200%，为改善可用性提供帮助。G60K还兼具扩展性，通过新开发的电源和模块来支持未来高输出、高频率等性能改进，满足对未来KrF曝光技术的要求。还标配无氦技术，有助于减少气体的消耗量。

4kHz KrF准分子激光器系列的第3代机型G45K，是一款旨在提高最尖端存储芯片的生产效率、功率最高可达50W的高功率机型。该机型通过延长模块的使用寿命和绿色技术，可以同时实现“提高生产率”和“减轻环境负荷”两大目标。

世界各地的顶尖研发科学家都在使用 LightMachinery 准分子激光器。 IPEX-700 系列激光器专为工业和研发环境中的中等工作周期操作而设计，具有高功率紫外激光加工和最先进的性能。IPEX 激光器采用 LightMachinery 的 exciPure™ 专利技术，具有超长的气体寿命、卓越的光学稳定性和精确的激光操作参数控制。 性能提高 10 倍、功能强大、可靠、结构紧凑、操作简单 操作准分子激光器的最大成本是激光气体消耗量（也称为动态气体寿命*）。 凭借我们的 exciPure™ 专利技术，LightMachinery 的气体使用量比同类激光器提高了 10 倍。 这一技术突破大大降低了激光器的运行成本。

IPEX 系列激光器专为制造环境中的高占空比操作而设计，可提供高功率紫外激光加工，并具有先进的性能。 IPEX 激光器采用 LightMachinery 的 exciPure™ 技术，具有超长的气体寿命、卓越的光学稳定性和精确的激光器运行参数控制。 准分子激光器最大的运行成本是激光气体消耗量（也称为动态气体寿命*）。凭借exciPure™ 技术，LightMachinery 已将气体使用量提高到同类激光器的 10 倍。 这一技术突破大大降低了激光器的运行成本。 安装在光学器件端口的 EasyClean 自动阀门可以密封激光器腔体，并在移除谐振器光学器件进行清洁和维护时保留气体填充。IPEX-800 激光器使用方便、维护简单、运行经济，将高精度准分子加工的优势与当今市场上较低的总拥有成本和最长的正常运行时间相结合。

Impact-2000 系列激光器非常适合选择性去除或加工沉积在金属底层上的非金属层。与传统的 CO2 激光器不同，TEA CO2 激光器的脉冲短、峰值功率高，因此在去除（"烧蚀"）表层时，对底层金属基材几乎没有影响，而且对周围聚合物材料的热损伤（"热影响区 "或 "HAZ"）极小。

IMPACT®-3000 系列激光器是高功率（高达 300W）、短脉冲、TEA CO2 激光器，专为材料加工、无损检测、光化学和科学研究领域的高级应用而设计。 重复率最高的型号（3400）主要用于激光超声波测试。

完全可配置的 IMPACT 4000 系列激光器专为更科学、更专业的应用而设计。IMPACT 4000 的短脉冲是超声波应用和红外化学应用的理想选择。IMPACT 4000 可配置可调谐选件，并可设置为主振荡器功率放大器（MOPA）配置和附加放大器，从而在合适的波长上实现合适的功率，满足您的应用需求。