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  • Applied Rigaku Technologies Inc Div of Rigaku Corp
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  • NEX CG - 能量色散型X射线荧光光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    Rigaku NEX CG可对各种类型的样品中的主要和次要原子元素进行快速定性和定量测定-较低标准:非破坏性分析NA至non-U固体、液体、粉末和薄膜检测下限的极化激发峰重叠的新颖处理减少了误差使用Ultracarry的含水样品的ppb检测极限带EZ分析的简化用户界面用于迹级灵敏度的极化笛卡尔几何学与传统的EDXRF分析仪不同,NEX CG采用了独特的紧密耦合笛卡尔几何(CG)光学内核,大大提高了信噪比。通过使用二次目标激励代替传统的直接激励,进一步提高了灵敏度。由此产生的背景噪声的显著降低和元素峰值的同时增加,使得光谱仪即使在困难的样品类型中也能够进行常规痕量元素分析。新颖的软件减少了对标准的需求NEX CG由新的定性和定量分析软件RPF-SQX提供支持,该软件采用了Rigaku Profile Fitting(RPF)技术。该软件允许在没有标准品的情况下对几乎所有样品类型进行半定量分析,并使用标准品进行严格的定量分析。

  • NEX DE能量色散型X射线荧光光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造,无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中,NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力,包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育,以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制(QC)还是其更复杂的变体(如分析质量控制(AQC)、质量保证(QA)或六西格玛等统计过程控制),NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。

  • NEX DE VS能量色散型X射线荧光光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    作为一款优质高性能、小型SPOT台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,新型Rigaku NEX DE VS通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体、浆料和RoHS材料。

  • NEX LS工艺能量色散型XRF(EDXRF)光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Chemical identification

    Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光(EDXRF)为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术,Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析,适用于从铝(Al)到铀(thickness U)的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计,能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上,并配备有位于滚轮上方的线性横动机构,以使头-面距离恒定。需要时,可直接测量涂层的元素组成。相反,涂层重量(或涂层厚度)可以直接测量(其中元素的计数率与厚度成比例)或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量(其中计数率与厚度负相关)。长期以来,台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描,用于更严格的过程控制公差,将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材,以改变产品(如标签)或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少,或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域,则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响,或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害,从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮,则制造的辊的成本增加,降低了盈利能力,并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。

  • NEX OL过程元素分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    Rigaku NEX OL采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了液流和固定位置网络或线圈应用的工艺元素分析的下一次进化。NEX OL的设计涵盖了从重工业到食品级的过程测量解决方案,可配置用于分类和非分类领域。从铝(Al)到铀(₂U)的分析为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX QC高分辨率台式仪器。凭借这一成熟的技术,Rigaku NEX OL可对从铝(Al)到铀(U)的元素进行快速、无损的多元素分析——从百万分率(ppm)水平到高重量百分比(wt%)浓度。Rigaku NEX OL配备50 kV X射线管和SDD探测器,以及标准化、优化的管式过滤器套件,旨在解决广泛的过程控制应用。

  • NEX QC - 能量色散型X射线荧光分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    Rigaku NEX QC能量色散X射线荧光(EDXRF)分析仪可快速定性和定量测定各种样品类型中的主要和次要原子元素:非破坏性分析NA至non-U固体、液体、合金、粉末和薄膜用于宽元素覆盖的50kV X射线管半导体探测器,数据质量高现代智能手机风格的“图标驱动”用户界面增强灵敏度的多个自动管过滤器方便的内置热敏打印机低成本,无与伦比的性价比

  • NEX QC MFA - 船舶燃料硫磺分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Contaminant detection and analysis

    Rigaku NEX QC能量色散X射线荧光(EDXRF)分析仪可快速定量测定各种船用燃料中的硫:非破坏性地分析硫(S)至低ppm水平分析镍(Ni)、钒(V)和铁(Fe)(如需要)分析锌(Zn)以确定燃油是否受到污染半导体探测器具有卓越的可靠性现代触摸屏“图标驱动”用户界面方便的内置热敏打印机低成本,无与伦比的性价比ASTM D4294和ISO 8754测定硫的方法

  • NEX QC+ QuantEZ - 能量色散型X射线荧光仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    基于Windows®的EDXRF用于快速元素分析作为一款优质的低成本台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,Rigaku NEX QC+Quantez通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体和泥浆。野外、工厂或实验室的元素分析NEX QC+Quantez系列专为重工业应用而设计,无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中,其卓越的分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增添了广泛的吸引力,包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育,以及工业和生产监控应用。无论需要的是基本质量控制(QC)还是其更复杂的变体(如分析质量控制(AQC)、质量保证(QA)或六西格玛等统计过程控制),NEX QC+Quantez系列都是常规元素分析的可靠选择。

  • NEX XT总硫过程分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Contaminant detection and analysis

    Rigaku的NEX XT是新一代工艺仪表,用于原油、船用燃料、燃料油和其他高粘度碳氢化合物(包括渣油)的高水平总硫测量(0.02%至6%S)。在线全硫测量仪这款多功能、紧凑且坚固耐用的X射线透射/吸收(XRT/XRA)过程测量仪专门针对炼油厂、管道、混合操作、加油终端和其他存储设施的总硫分析需求进行了优化。NEX XT的应用包括船用燃料混合以满足MARPOL附件六的硫限制,通过管道输送的不同等级燃料的界面检测,炼油厂原料混合和监测,以及远程收集和储存设施的原油质量监测。