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MESO 图像传感器

MESO

分类： 图像传感器

厂家： Axiom Optics

产地： 美国

型号： MESO

更新时间： 2025-01-03 15:20:54

标签：

光学测量 过程控制 高性能设备 平面光学 测量解决方案

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概述

MESO是一种先进的光学测量解决方案，适用于各种环境中的平面光学测试和过程控制。

参数

  • 相位点分辨率 / Phase Point Resolution : 680 x 500, 160 x 128
  • 最小曝光时间 / Minimum Exposure Time : 27 ms
  • 校准范围 / Calibrated Range : 405 nm to 830 nm, 1050 nm to 1700 nm
  • 工作输出波长 / Working Output Wavelengths : 405, 488, 520, 635, 785, 830 nm custom, 1050, 1300, 1550 nm custom
  • 输出极化 / Output Polarization : optional linear
  • 输出极化 / Output Polarization : circular
  • 操作系统及软件 / Operating System & Software : Windows 10 & 11, WAVESURFTM acquisition control & analysis software
  • 光学配置 / Optical Configuration : double-pass
  • 测试光束直径 / Test Beam Diameters : from 1.5’’ (38.1 mm) up to 6’’ (152 mm)
  • 光轴 / Optical Axis : 4.25” (108 mm)
  • 外形尺寸 / Dimensions : 29.6 x 31 x 78.9 cm3
  • 重量 / Weight : 27 kg
  • 安装配置 / Mounting Configuration : horizontal or vertical
  • 相机 / Camera : 4096 x 3000 pixels, 10 bits
  • 接口 / Interface : USB 3.0
  • 保修 / Warranty : 1 year system & laser standard, extendable
  • 振动隔离 / Vibration Isolation : not necessary
  • 压缩空气 / Compressed Air : not necessary
  • 样品反射率 / Sample Reflectivity : 1% - 100 %, no attenuation required
  • 样品最小厚度 / Sample Min. Thickness : 100 mm
  • RMS波前重复性 / RMS Wavefront Repeatability : 1 nm
  • 附件 / Accessories : High performance DellTM computer, 24’’ touchscreen

应用

1. 新型测量解决方案 2. 实时过程控制 3. 平面光学特性测试 4. 透射波前质量测量 5. 表面形状与平整度测量 6. 大型光学元件测试 7. 楔形测量 8. 并行光学 9. 屏幕 10. 滤光片，分色镜 11. 镜子

特征

1. 不敏感于振动 2. 现场独立设置 3. 适用于现场测量 4. 无需样品表面准备 5. 智能维护：现场用户安装或更换光源 6. 自动控制最多4个光源

详述

MESO是一款针对光学测量的创新设备，专门设计用于在各种环境下进行高效的平面光学测试。它的优势在于不需要对样品进行表面准备，极大地简化了测量过程。同时，MESO的快速单次采集技术使其对振动不敏感，确保了测量的准确性和可靠性。该设备支持多种波长的测试，能够满足不同光学元件的需求。通过用户友好的接口，操作员可以轻松地进行波前和表面特性测量。无论是在实验室还是生产现场，MESO都是理想的测量解决方案。其自动化程度高，能有效减少人为错误，提升工作效率，是光电行业不可或缺的工具。

图片集

MESO图1

规格书

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厂家介绍

Axiom Optics提供较新的先进成像和光学计量产品。我们的团队为研究人员和工程师提供专业知识和支持。

智推产品

相关产品

图片 名称 分类 制造商 参数 描述
  • 3390 MCP/RAE SENSOR HEAD 图像传感器 3390 MCP/RAE传感器头 图像传感器 Quantar Technology Inc

    有效面积直径: 25mm 空间分辨率: 0.25mm 多氯联苯俱乐部数量: 2

    3300系列是开面、微通道板（MCP）、电阻式阳极编码器（Rae）位置敏感探测器头，用于带电粒子和高能光子探测，包括标准或涂层（如CSI、KBr）MCP表面上的电子、正电子、离子、高能中性粒子、EUV和软X射线，在真空中运行（完全UHV兼容）。位置灵敏MCP/Rae探测头使用精密氧化铝陶瓷和镀金不锈钢制造，以获得较大的UHV兼容性真空压力；在操作中，单个入射事件（粒子或光子）撞击MCP检测器表面并导致电子级联，其中倍增增益因子取决于MCP的数量和类型、偏置电压和MCP配置。通过适当的偏置，MCP在增益饱和模式下工作，以帮助确保事件间相对恒定的增益，从而优化这些MCP成像探测器的位置灵敏度和空间分辨率。

  • EDS SEM Applications FAST SDD And C2 Window 图像传感器 EDS SEM应用FAST SDD和C2窗口 图像传感器 Amptek Inc

    活动区域: 25mm

    Amptek很高兴提供我们改进的硅漂移探测器（SDD）系列，用于扫描电子显微镜（SEM）中的能量色散谱（EDS）。使用我们获得专利的C系列氮化硅（Si3N4）X射线窗口，我们的FAST SDD®的低能量响应可向下延伸至铍（Be）。具有高本征效率的快速SDD®适用于EDS，也称为能量色散X射线光谱（EDX或XEDS）和能量色散X射线分析（EDXA）或能量色散X射线微量分析（EDXMA）。

  • FAST SDD 25mm Ultra High Performance Silicon Drift Detector 图像传感器 FAST SDD 25毫米超高性能硅漂移检测器 图像传感器 Amptek Inc

    活动区域: 25mm 活动区域: 17mm

    我们的传统SDD在密封TO-8封装内使用结栅场效应晶体管（JFET）以及外部前置放大器，与此不同的是，快速SDD在TO-8封装内使用互补金属氧化物半导体（CMOS）前置放大器，并用金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）取代JFET。这显著降低了电容，大大降低了串联噪声，并在非常短的峰化时间内提高了分辨率。快速SDD®使用相同的检波器，但带有前置放大器，在较短的峰值时间内提供较低的噪声。改进的（较低的）分辨率使得能够隔离/分离具有接近的能量值的荧光X射线，否则峰值将重叠，从而允许用户更好地识别其样品中的所有元素。短的峰值时间也产生计数率的显著改进；更多的计数提供更好的统计数据。

  • Large Stitched X-Ray CMOS Image Sensor 图像传感器 大型缝合式X射线CMOS图像传感器 图像传感器 Forza Silicon Corp

    图像分辨率: 1024800lp/mm 图像大小: 854Pixels

    大型拼接X射线CMOS图像传感器。

  • Patented C1 Low Energy X-Ray Windows 图像传感器 获得专利的C1低能量X射线窗 图像传感器 Amptek Inc

    活动区域: 6.3mm 活动区域: 30mm

    Amptek获得专利的“C系列”X射线窗口利用带有铝涂层的氮化硅（Si3N4），将我们的硅漂移探测器（SDD）的低能量响应扩展到硼（B）。它们仅适用于我们的FASTSDD®。Amptek在推出先进款热电冷却探测器时提供了液氮的替代品。现在有了专利的“C系列”，我们为一般的XRF分析提供了铍（Be）窗口的替代方案，与用于软X射线分析的聚合物窗口相比，我们提供了优越的性能。

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