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XeLM-LHP 高功率氙气真空紫外(VUV)线源 紫外线系统
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XeLM-LHP 高功率氙气真空紫外(VUV)线源

分类: 紫外线系统

厂家: Resonance

产地: 美国

型号: XeLM-LHP

更新时间: 2024-08-27 03:53:36

光刻 高强度光源 真空应用 光电离 质谱分析 VUV发射

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概述

XeLM-LHP是一个充满氙气的射频驱动的灯系统,是一个可靠且免维护的深紫外线(VUV)发射的高强度源,特别适用于147.0纳米的发射。这个源可安装在6英寸CF法兰或Acton/Mcpherson法兰上,方便连接到超高真空系统。通过输出窗口为真空应用提供超过100毫瓦的VUV通量,如光电离、光刻和质谱分析等。

参数

  • 气体填充 / Gas Fill : Xenon
  • 峰值波长 / Peak Wavelengths : 147.0NM
  • 全光谱范围 / Full Spectral Range : 116.5-7000NM
  • VUV光强 / VUV Intensity : 5x1016-5x1017Photons/sec/sr
  • 输出角度范围 / Full Angle Output Cone : 30-65Degrees
  • 窗口材料 / Window Material : MgF2
  • 窗口清晰口径 / Clear Aperture Of Window : 0.4-1.8CM
  • 脉冲调制 / Pulse Modulation : to 1kHz available as option
  • 等离子体深度 / Plasma Depth Behind Face Of Front Flange : 2.0-4.0CM
  • 等离子体直径 / Plasma Diameter : 0.9-4CM
  • 等离子体长度 / Plasma Length : 3-10CM
  • 输入功率 / Input Power : 25-120Watts
  • 输入电压 / Input Voltage : 70-260VAC
  • 输入线频率 / Input Line Frequency : 50-65Hz
  • 安装法兰 / Mounting Flange : 6 inch Conflat is standard
  • 冷却 / Cooling : Forced air cooling with internal fan
  • 强度监控 / Intensity Monitor : available as an option
  • 热控制 / Thermal Control : na
  • 系统完整性 / System Complete : system includes power supply
  • 系统完整性 / System Complete : EMI shielded enclosure
  • 系统完整性 / System Complete : Vacuum flange and NIST Traceable calibration
  • 机械规格尺寸 / CF Flange : 6.0Inches
  • 射频激励器 / RF Exciter : na
  • 冷却风扇 / Cooling Fan : na
  • 灯泡尺寸 / Lamp Bulb : na
  • 尺寸公差 / Tolerances : ±0.005Inches
  • 窗口 / Window : Magnesium Flouride
  • 主体材料 / Body : Aluminum
  • Mass / Mass : 5kg
  • 真空适配器 / Vacuum Adapters : Stainless Steel

应用

1.光电离 2.光刻 3.质谱分析

特征

1.高强度深紫外线(VUV)发射 2.可靠且免维护 3.适用于多种真空应用 4.可选脉冲调制至1kHz 5.内置风扇强制空气冷却

详述

这款高功率氙气真空紫外线(VUV)线光源是一种可靠且免维护的高强度深VUV发射源,波长为147.0 NM。该光源安装在6英寸CF法兰或Acton/Mcpherson法兰上,方便连接到UHV系统。通过输出窗口提供大于100毫瓦的VUV通量,适用于真空应用,如光电离、光刻和质谱分析。系统包括电源、EMI屏蔽外壳、真空法兰和NIST可追溯校准。

规格书

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厂家介绍

Resonance有限公司提供全系列的极紫外(EUV)、真空紫外(VUV)、紫外(UV)、可见光(Vis)和红外(IR)组件和系统,专注于定制解决方案,并以现成产品的价格提供服务。凭借在光电技术领域超过35年的经验和高技能多样化的团队,我们能够为最苛刻的需求提供高水平和创新的解决方案。我们的产品广泛应用于全球各类项目,用于测试、测量和研究,深受学术界、航空航天、私人及企业机构的信赖。

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图片 名称 分类 制造商 参数 描述
  • High Power Argon Vacuum Ultraviolet (VUV) Continuum Source ArCM-LHP 紫外线系统 ArCM-LHP 高强度深紫外发射源 紫外线系统 Resonance

    气体填充: Argon 峰值波长: 116-140NM 全光谱范围: 116.5-7000NM

    Resonance Ltd的High Power Argon Vacuum Ultraviolet Continuum Source ArCM-LHP是一款适用于光电离、光刻和质谱分析的高强度深紫外发射源。这是一个可靠且免维护的高强度深紫外(VUV)发射源,适用于真空应用,如光电离、光刻和质谱分析。

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