光电查为您提供8个产品。下载资料，获取报价，实现功能、价格及供应的优化选择。

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  GIGANEX系列

  日本

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Gigaphoton

  类型: Laser System 技术: Excimer Laser 工作模式: Pulsed Laser 超快激光: Nanosecond Lasers 可调谐: No

  用于低温多晶硅平板显示行业的新型准分子激光器

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  GT63A

  日本

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Gigaphoton

  类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No

  来自Gigaphoton的GT63A是波长为193nm、功率为60至90W、脉冲能量为10至15mJ的激光器。有关GT63A的更多详细信息，请联系我们。

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  GT64A

  日本

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Gigaphoton

  类型: Laser System 技术: Excimer laser 工作模式: Pulsed Laser 波长: 193 nm 可调谐: No

  来自Gigaphoton的GT64A是波长为193nm、功率为60至120W、脉冲能量为10至20mJ的激光器。有关GT64A的更多详细信息，请联系我们。

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  GT65A

  日本

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Gigaphoton

  波长: 193 nm 功率: ≥60 W

  GT65A作为采用注入锁定方式的第7代平台，引入了先进的技术，通过光谱带宽（E95）可变及稳定性提高实现的“曝光性能改善”、组件寿命延长实现的“高劳动效率”及无氦实现的“减轻环境负荷”，帮助客户进一步实现生产率（晶元输出）的提高。

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  GT66A

  日本

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Gigaphoton

  波长: 193 nm 功率: 60-90 W

  先进产品制造目前仍继续应用摩尔定律，技术节点日益微细化。这些尖端产品对转印到晶圆上的曝光图案、特别是EPE（Edge Placement Error）具有很高的要求。作为光源通过降低直接影响EPE的CD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)，为提高批量生产现场的成品率提供帮助。 新型浸没式曝光光源“GT66A”通过新开发的光学模块成功地将散斑对比度降低30%，减少了LER/LWR。还通过引入新的高度耐用零件，将模块的维护周期延长30%。由此实现进一步改善工序成品率、提高光源的可用性，为尖端节点批量生产的高生产性提供帮助。

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  GT45A

  日本

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Gigaphoton

  波长: 193 nm 功率: 45-90 W

  GT45A是一款基于先进的ArF浸没式光刻光源GT65A平台，具备高功能扩展性的机型。 通过搭载新型模块实现的“高运转率”、继承当前机型GT40A的“无氦气”技术，可以在提高生产率的同时，减轻环境负荷。 通过光谱宽度的稳定性改善、可变光谱技术、最高可达90W的高输出功率，满足客户的多样化需求。

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  G300K

  日本

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Gigaphoton

  波长: 248 nm 应用行业: 下一代微细烧蚀加工

  KrF激光器“G300K”是加入GIGANEX产品阵容的一款新机型，它将微细等“加工优化”作为理念，在保持高输出、99%以上高开工率的同时，实现了客户ROI的最大化的型号。“G300K”采用累计出货量达900多台的本公司半导体光刻用KrF光源G41K作为基本平台，新开发并搭载了适合高输出的电源、激光腔室。从而为客户在半导体制造后端工序中下一代微细加工工序，通过提高生产性及减少COO以实现ROI的最大化提供帮助。

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  G60K

  日本

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Gigaphoton

  波长: 248 nm 功率: 40-60 W

  KrF光刻光源G60K以继承Gigaphoton多年技术和积累经验的KrF光源技术为基础，支持超过300片/h的光刻机处理速度，通过输出功率达到以往产品的150%，并将模块寿命延长到最高200%，为改善可用性提供帮助。G60K还兼具扩展性，通过新开发的电源和模块来支持未来高输出、高频率等性能改进，满足对未来KrF曝光技术的要求。还标配无氦技术，有助于减少气体的消耗量。