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CCD光束分析器 紫外线监测器K2 光束分析仪

CCD光束分析器 紫外线监测器K2

分类: 光束分析仪

厂家: Hanamura Optics Corp

产地: 日本

更新时间: 2024-08-30 14:47:33

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概述

紫外激光光束轮廓仪在工业应用中有着良好的记录,可用于半导体和显示器行业中加工激光材料的准分子激光器,以及Nd:YAG激光器的三次、四次和五次谐波。该产品的基本系统由基于UV探测器的相机和先进的BeamLux II软件组成。根据有效面积,可以测量从10um到100mm的光束直径。

参数

  • 传感器类型 / Sensor Type : CCD
  • 可衡量的来源 / Measurable Sources : CW
  • 波长范围 / Wavelength Range : 10 - 1100 nm
  • ADC / ADC : Other

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厂家介绍

公司成立于1994年,现有员工10人。

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图片 名称 分类 制造商 参数 描述
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    传感器类型: CCD 可衡量的来源: CW, Pulsed 波长范围: 350 - 1310 nm

    µBEAM是一种光束诊断测量系统,用于实时测量和显示亚微米范围内的小型CW或脉冲激光器、光纤和激光二极管光束轮廓。主要功能包括:测量小于0.5µm(FWHM)的光束,处理CW或脉冲,具有长工作距离,使用高分辨率CCD响应范围,用于快速光束搜索的光学变焦。µBeam应用于CD拾音器、激光二极管、拾音器透镜和光学元件的调整、各种光束参数的评估和测试。使用SAM3-HP光束采样器,还可提供高功率版本的µBeam。

  • µBeam High Power 光束分析仪 高功率µBeam 光束分析仪 Duma Optronics

    传感器类型: CCD 可衡量的来源: CW, Pulsed 波长范围: 350 - 1310 nm

    µBeam HP是一种光束诊断测量系统,用于实时测量和显示亚微米范围内的小型CW或脉冲激光器、光纤和激光二极管光束轮廓。主要功能包括:测量小于0.5µm(FWHM)的光束,处理CW或脉冲,具有长工作距离,使用高分辨率CCD响应范围,光学变焦用于快速光束查找。在当今的技术中,越来越多的工业高功率激光器被设计成具有几个微米的微观范围。在较重要的焦点测量这些激光束是一项艰巨的任务,其密度水平超过每平方毫米10兆瓦。新款µBeam HP配有气冷式光束采样器。这使得能够以1nm的分辨率测量微小光束。

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  • Beam Profiling And Beam Imaging For X-Ray 1-200 Nm 光束分析仪 用于1-200Nm的X射线的光束分析和光束成像 光束分析仪 Star Tech Instruments

    传感器类型: Other 可衡量的来源: CW 波长范围: 1 - 200 nm

    在X射线中可视化和测量光束的目标具有新的重要性。Star Tech Instruments开发了新的系统来分析这些光束的功率/能量、均匀性、高分辨率光束轮廓和图像分析。型号µBIP10X是一款真空兼容(1x10-10 Torr)光束轮廓仪和光束成像系统,设计用于1-10 nm的高分辨率。该系统适用于200nm。10倍MAG。1.5 mm的场具有0.6µm的分辨率,并且对非常低的能级敏感。该系统设计用于1.3 X 1.3传感器,但可以针对其他相机格式进行修改。可根据要求提供不同的放大倍率和相机。μBIP系列是STI较新的成像系统,专为使用软X射线而设计-#91;1-2 nm-#93;不应将其用于准分子激光器的较长波长,如193nm或248nm,这将导致严重的内部损伤。较重要的是,该系统设计用于高真空室,使用我们的定制真空法兰组件将光学系统连接到真空室。法兰的额定压力为10-8托。

  • BEAMAGE-3.0 -  CMOS Profiling Cameras 光束分析仪 BEAMAGE-3.0 - CMOS测绘相机 光束分析仪 Gentec-EO

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    BEAMAGE-4M激光束轮廓仪基于CMOS相机,并与CW和脉冲激光束特性一起使用。

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