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  • 美国
  • Cymer
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  • XLR 900ix 激光器模块和系统
    美国
    厂商:Cymer
    波长: 193 nm 功率: 60-90 W

    XLR 900ix 引入了新的斑点减少技术,可将斑点对比度降低 30%,显著改善局部 CDU。它还提高了生产率,降低了拥有成本,使服务间隔时间延长了 25%,每年只需进行一次触摸。这得益于赛默公司经过现场测试的新型腔体和光学模块,这些模块已在 140 多套 XLR 系统中投入生产。该系统还采用了新的机器学习技术,通过减少校准和气体刷新事件来提高可用性,同时通过降低功耗和气体消耗来实现可持续发展。

  • XLR 700ix 激光器模块和系统
    美国
    厂商:Cymer
    波长: 193 nm 功率: 60-90 W

    基于 XLR 平台的循环环技术,700ix 在带宽、波长和能量稳定性方面都有所改进,为先进的芯片制造提供了更高的扫描仪吞吐量和工艺稳定性。 XLR 700ix 为芯片制造商提供了更严格的带宽控制(晶圆平均带宽为 300 +/- 5 fm),从根本上消除了带宽作为晶圆性能工艺变化源的问题。Cymer 的技术在逐个脉冲的基础上应用高速闭环控制,从而实现极其稳定的性能。

  • XLA 105 激光器模块和系统
    美国
    厂商:Cymer
    波长: 193 nm 功率: 45 W

    氩氦射线干式光刻技术在芯片制造过程中至关重要。ArF 干法光刻光源(如赛默公司的 XLA 105)可对晶片上的大量中间关键层进行图案化,同时延长模块寿命并加强关键尺寸 (CD) 控制。 随着 CD 的不断缩小,以及对最关键层更精细分辨率的需求,ArF 干光刻工具也开始对非关键层进行图案化,而这些非关键层历来是由 KrF 光源进行图案化的。赛默公司的干式光刻光源具有可靠性和成本效益,是大批量生产的理想选择。