光电查为您提供115个产品。下载资料，获取报价，实现功能、价格及供应的优化选择。
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照明类型: Panel, Plant, Other全息影像！线串式是用它的立方形底盘来实现的。连接全息图-它！在线无空间可根据需要扩展其大小。
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照明类型: Military, Other, Not Specified全息影像！并联串联式照明可以通过其立方体形状的底盘来实现。连接全息图-它！在没有空间的情况下，可以根据需要扩展其尺寸。
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发射光谱范围: 400 - 700 nm 应用: Miscellaneous全息影像！直线型产生线状照明光束。它可以在远处产生具有光束特性的线照明，一束光不会扩散，但另一束光会扩散。订购本产品时，请向我们提供设备展开方向的具体说明。
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发射光谱范围: 400 - 700 nm 应用: Industrial, Research and Development全息影像！远心照明，在距离50米的地方只有1米见方的狭窄区域，可以通过高质量的大口径光学系统来实现。全息影像！可以调整照明区域的角度和范围。我们有各种各样的全息图-它！LED照明，如紫外光-可见光-红外光。
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可用灯泡: Krypton or Xenon 氪的峰值波长: 116.5, 123.6, 145 NM 氙的峰值波长: 147, 172 NM 氪的VUV强度: 1x1017 Ph/sec./st. 氙的VUV强度: 2x1017 Ph/sec./st.Resonance Ltd.的RD-18-06是射频驱动的灯系统，是一款可靠且无需维护的高强度深紫外线（VUV）发光源，发射波长在116至200纳米之间。该源头可安装到4.5英寸CF法兰上，便于与高真空系统连接。灯具可重新进入，以实现最佳定位。通过MgF2窗口为真空应用提供超过100毫瓦/球面度的VUV通量，如光电离飞行时间质谱分析。灯泡可互换，便于更换。温控高速风扇无需水冷即可散热。通常情况下，该源头会使用氪或氙灯泡，这些灯泡可互换，也可根据客户需求提供其他灯泡或填充压力。适用于高真空系统和光电离飞行时间质谱分析。
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气体填充: Deuterium 峰值波长: 160, 260NM 全光谱范围: 110 to 7000NM VUV光强: 2 x 10^16 to 4 x 10^16Photons/sec/sr 输出角度范围: 22 to 34Degrees这是一个115到1000NM RF灯系统，它是一个可靠且免维护的发射源，发射范围从115到7000NM。该源头可以安装到6英寸CF上，方便连接到UHV系统。VUV通量通过镁氟输出窗口传输，用于真空应用，如光电离、光刻和质谱分析。内部D2的热源增强了灯管的使用寿命。该灯的低功率版本用于在HST上对WF/PC II相机进行UV/VUV平场校准。
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气体填充: Krypton 峰值波长: 116-170NM 全光谱范围: 116.5-7,000NM VUV光强: 4x1016-4x1017Photons/sec/sr 输出角度范围: 30-65DegreesResonance Ltd的KrCM-LHP氪气射频激发灯系统是一种可靠且免维护的深紫外线强光源，发射波长范围从116.5到170纳米。该源可安装到6英寸CF法兰或Acton/Mcpherson法兰，方便连接到超高真空系统。通过输出窗口提供超过100毫瓦的VUV通量，用于真空应用，如光电离、光刻和质谱分析。
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外径: 12mm 直流电压: 5V for PID-K12, 24V for PID-KMD-EX 交流电压: 1600V 射频频率: 100MHz for PID-KMD-EX 光子强度: 1x10^14 photons/second/steradian for PID-K12, 1x10^15 photons/second/steradian for PID-KMD-EXResonance Ltd.提供的低功率和中功率PID套件，分别用于不同强度的光子发射应用。PID-K12和PID-KMD-EX套件为低功率和中功率光子发射应用提供稳定的10.6eV能量输出，适用于精确的光电传感任务。
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气体填充: Argon 峰值波长: 116-140NM 全光谱范围: 116.5-7000NM VUV光强: 1x1016-1x1017Photons/sec/sr 输出角度范围: 30-65DegreesResonance Ltd的High Power Argon Vacuum Ultraviolet Continuum Source ArCM-LHP是一款适用于光电离、光刻和质谱分析的高强度深紫外发射源。这是一个可靠且免维护的高强度深紫外（VUV）发射源，适用于真空应用，如光电离、光刻和质谱分析。
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气体填充: Krypton 峰值波长: 116.5,123.6NM 全谱输出: 116.5-7000NM VUV光强: 3x1016-3x1017Photons/sec/sr 输出角度范围: 30-65DegreesKrLM-LHP是一款RF功率驱动的氪灯系统，提供可靠且无需维护的深紫外线（VUV）高强度光源，主要发射波长为116.5和123.6纳米。KrLM-LHP是Resonance Ltd出品的高功率氪真空紫外线线光源，适用于光电离、光刻和质谱等真空应用。
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气体填充: Xenon 峰值波长: 147.0NM 全光谱范围: 116.5-7000NM VUV光强: 5x1016-5x1017Photons/sec/sr 输出角度范围: 30-65DegreesXeLM-LHP是一个充满氙气的射频驱动的灯系统，是一个可靠且免维护的深紫外线(VUV)发射的高强度源，特别适用于147.0纳米的发射。这个源可安装在6英寸CF法兰或Acton/Mcpherson法兰上，方便连接到超高真空系统。通过输出窗口为真空应用提供超过100毫瓦的VUV通量，如光电离、光刻和质谱分析等。
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这是我们较受欢迎的中型系统，因为III-V和光子器件领域在比当前Si开发需求更小的晶片和批量尺寸下运行，这使得清洁泵送、手动装载的简单系统非常适合研发和生产。室18-22直径X 24-30高通常，更大的要求。CTI-8低温，双级旋转叶片式前级泵，一个速率控制器，多过程，热阻源可选，强大的PLC自动化与全手动操作，所有电动气动阀，SS歧管，电动起重机，各种夹具，包括旋转圆顶，行星齿轮和专用冷却，加热，阴影，提升。衬垫，RGA其他选项。
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能量范围: 5 - 1000 eV 最大光束电流: 0.002uA 最小横梁尺寸: 10000umKimball Physics EGA-1012电子枪及其匹配的EGPS-1012电源旨在用于各种UHV、表面物理和处理应用，在这些应用中需要低能量的高束流。它是一个完整的子系统，可以随时连接和打开。射束能量、射束电流和射束发散度均可独立调节。EGA-1012电子枪使用空间电荷限制的氧化物涂层阴极来产生均匀的泛光电子束。这种设计允许产生低能量和非常低电流的射束。特高压技术贯穿始终。电子枪可在移除电缆的情况下烘烤高达350°C。标准阴极是高电流、坚固的氧化钇涂层盘（Y2O3）。当冷时，阴极不会因反复暴露于大气气体或水蒸气而损坏。电子枪可以在10-11托到10-5托的真空中运行。阴极寿命是与阴极温度相关的真空条件和束流的函数。在良好真空中的低电流下的阴极寿命可以是数百小时，或者甚至超过一千小时。
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能量范围: 1 - 2000 eV 最大光束电流: 0.01uA 最小横梁尺寸: 500umKimball Physics ELG-2电子枪及其配套的EGPS-1022电源旨在用于电子受激脱附研究、二次电子发射系数测量研究、表面物理和其他真空物理研究。它是一个完整的子系统，可以随时连接和打开。射束能量、射束电流和光斑尺寸可在宽范围内独立调节。能量从1eV到2000eV是可变的，包括低范围以在较低能量下改进分辨率。通过使用多级和计算机设计的电子变焦透镜，在两个数量级的能量变化上保持恒定的束流，并且光斑尺寸也大致恒定。在2 cm工作距离和10 eV的条件下，该电子枪可以将1μA电流传输到大约1 mm的光斑中。电子枪使用单电位耐火阴极来产生低能量扩散的电子束。特高压技术贯穿始终。对于标准Ta圆盘阴极，电子枪可以在10-11托到10-5托的真空中运行。拆下电缆后，电子枪可烘烤至350°C。
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能量范围: 5 - 1000 eV 最大光束电流: 0.4uA 最小横梁尺寸: 2000umKimball Physics FRA-2X1-2电子枪及其匹配的EGPS-1011电源旨在用于各种UHV、表面物理、电荷中和和处理应用。它是一个完整的子系统，可随时连接到用户的真空系统并打开。束能量和束电流都可在宽范围内调节。FRA-2X1-2电子枪使用难熔金属阴极来产生均匀的泛光电子束。阴极是专门为低能量扩散而设计的。电子枪的设计允许产生低能量和极低电流的电子束。FRA-2x1-2可以在低至5eV的能量下产生适度的束流。它可以在5 eV和1000 eV时分别提供50μA和400μA的较大束流。FRA-2X1-2低能电子泛光枪采用平面三极管设计。加速栅在低能量下增强束流。由于施加到栅极的正电势（相对于阴极为0至+100V），可能在该栅极产生的二次电子不能离开电子枪。FRA-2x1-2电子枪在设计上增强了低能量下的泛光枪性能，在50eV下的半角发散度为11.5度。随着光束能量的增加，发散度降低。较大的斑点在低能量下可实现，但在较高能量下不一定可实现。