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HELIOS NIR G2 320 CORE 0.9-1.7µm高光谱成像系统 光谱仪

HELIOS NIR G2 320 CORE 0.9-1.7µm高光谱成像系统

分类: 光谱仪

厂家: EVK DI Kerschhaggl GmbH

产地: 奥地利

更新时间: 2024-08-26 17:36:28

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概述

EVK Helios超光谱成像相机是一个强大的分类系统,基于非接触和非破坏性红外成像光谱。Helios NIR G2-320提供分类数据流,用于分析和监控在线和在线应用程序。由于太阳神系统分析物体的化学性质,并对彩色相机不可见的材料类型进行区分。内部分类引擎提供物料流的定性和定量信息。

参数

  • 成像模式 / Imaging Mode : Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman
  • 激发波长 / Excitation Wavelength : 900 nm
  • 光谱范围 / Spectral Range (Raman Imaging) : Not Applicable
  • 光谱范围 / Spectral Range (PL, EL, DR Imaging) : 900 - 1700 nm
  • 光谱分辨率 / Spectral Resolution (Raman Imaging) : Custom
  • 空间分辨率 / Spatial Resolution : Nanometer Range

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厂家介绍

EVK DI Kerschhaggl GmbH是一家在回收、采矿、食品工业、制药和化学工业中开发和制造基于传感器的分类和分析系统的#领先#企业。 自成立以来,EVK一直致力于开发散装材料分析和分类的解决方案-制定新标准的解决方案。 除了能够分析和分类物流中的对象并实时做出准确决策的独特传感器系统外,EVK还设计了数据分析应用程序,用于分类、检查、过程监控和过程控制。 EVK团队的技术支持,从概念构思到调试和售后支持,完成了EVK作为整体解决方案提供商提供的一系列服务。

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图片 名称 分类 制造商 参数 描述
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  • 1250M Series II 光谱仪 1250M系列II 光谱仪 HORIBA Scientific

    单色仪类型: Czerny-Turner 有效焦距: 1250mm 衍射光栅: 1200lines/mm

    该光谱仪的焦距为1000 mm,非常适合需要极低杂散光水平的应用,例如拉曼荧光激发或发射结构分析需要超高分辨率时。大机械范围允许在更长的波长下使用高密度光栅,以获得最大的分辨率潜力——1200 G/mm的光栅可以扫描到1500 nm,分辨率为0.008 nm。长期以来,M系列一直是经过验证的研究级光谱仪系列,提供了任何同类焦距光谱仪所没有的系统自动化程度和多功能性。新的II系列产品系列提供了与M系列光谱仪相关的可靠性和无挑战的分辨率,并具有改进的功能,包括高速USB 2.0兼容性、完整的可互换光栅库,以及与HORIBA Scientific' s Synapse™CCD、全系列单通道探测器、光电倍增管和附件的兼容性。

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    单色仪类型: Not Specified

    CO2光谱分析仪是一种独特的光栅分光镜,可同时显示CO2激光器的所有激光发射事件。它在波长和旋转线指定方面都进行了校准,以允许轻松识别9.1和11.3µ之间的140个可能的激光跃迁。这些跃迁通过使用紫外激发的热敏屏直观显示,该热敏屏在红外激光束照射的区域变暗。光谱分析屏的响应时间为1/4秒,允许仪器分辨所有的CO2转动线。型号16A重量轻,便于携带,可以很容易地引入实验室设置。

  • 16A220 CO2 Spectrum Analyzer 光谱仪 16A220 CO2频谱分析仪 光谱仪 Macken Instruments Inc

    单色仪类型: Not Specified

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