光电查为您提供3个产品。下载资料，获取报价，实现功能、价格及供应的优化选择。

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  XLR 900ix

  美国

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Cymer

  波长: 193 nm 功率: 60-90 W

  XLR 900ix 引入了新的斑点减少技术，可将斑点对比度降低 30%，显著改善局部 CDU。它还提高了生产率，降低了拥有成本，使服务间隔时间延长了 25%，每年只需进行一次触摸。这得益于赛默公司经过现场测试的新型腔体和光学模块，这些模块已在 140 多套 XLR 系统中投入生产。该系统还采用了新的机器学习技术，通过减少校准和气体刷新事件来提高可用性，同时通过降低功耗和气体消耗来实现可持续发展。

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  XLR 700ix

  美国

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Cymer

  波长: 193 nm 功率: 60-90 W

  基于 XLR 平台的循环环技术，700ix 在带宽、波长和能量稳定性方面都有所改进，为先进的芯片制造提供了更高的扫描仪吞吐量和工艺稳定性。 XLR 700ix 为芯片制造商提供了更严格的带宽控制（晶圆平均带宽为 300 +/- 5 fm），从根本上消除了带宽作为晶圆性能工艺变化源的问题。Cymer 的技术在逐个脉冲的基础上应用高速闭环控制，从而实现极其稳定的性能。

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  XLA 105

  美国

  分类：激光器模块和系统

  厂商：Cymer

  波长: 193 nm 功率: 45 W

  氩氦射线干式光刻技术在芯片制造过程中至关重要。ArF 干法光刻光源（如赛默公司的 XLA 105）可对晶片上的大量中间关键层进行图案化，同时延长模块寿命并加强关键尺寸 (CD) 控制。 随着 CD 的不断缩小，以及对最关键层更精细分辨率的需求，ArF 干光刻工具也开始对非关键层进行图案化，而这些非关键层历来是由 KrF 光源进行图案化的。赛默公司的干式光刻光源具有可靠性和成本效益，是大批量生产的理想选择。