• OWI 60 HP 干涉仪
    美国
    分类:干涉仪
    重量: 130 kg 接口: Reference sphere with bayonet interface 应用: 球体的非接触式测试和测量

    标准设置,干涉仪模块位于花岗岩工作台底部,与Z轴对齐 - 测量球形部件的理想工具。 多种选件使这些测量设备能够适应不同的测量任务。 - 微型光学元件的测量范围可达直径60mm。 - 设计紧凑,可用于生产 安装在减震花岗岩台面上。带4个减震元件的被动减震系统。 全面的模块化系统允许所有轴的配置,在轴承(摩擦或交叉滚柱轴承)和通过滚珠丝杠主轴的工作台驱动(手动或电动)方面,可根据具体应用进行理想的定制。 OptoTech干涉仪模块 检查微型EL-F数字式,带60毫米扩束器 使用高质量的OptoTech 60mm基准球测量微光学元件,测量精度为 λ/20 - 集成数字位置传感器(海德汉线性光栅尺),分辨率为 1µm,用于测量测试半径。

  • OWI 100 ECO 干涉仪
    美国
    分类:干涉仪
    重量: 825 kg 接口: 4” bajonett interface 应用: 非接触式测量球体

    刚性花岗岩塔架,通过四个减震器被动隔振 - 用于无级调节测量工作台的操纵杆,线性滑轨采用无游隙轴承 - 工作台由伺服电机和滚珠丝杠主轴驱动 工作台由伺服电机和滚珠丝杠主轴驱动,速度可通过操纵杆调节(无级调节) - 手动微调,使用细牙螺杆,带 高精度滚柱导轨 - 3轴工作台(基本型机床只有Z轴;可选配不同的X-Y轴型号 不同的X-Y轴选项) - 各种干涉仪模块: MarOpto 4", Zygo VeriFire - 用于参考球的4 "卡口接口,与Zygo、Zeiss F-Aplanar等兼容。Zygo、Zeiss F-Aplanar等。

  • OWI 150 XT 1500 干涉仪
    美国
    分类:干涉仪
    重量: 1600 kg 接口: 4“ or 6“ Bayonet-Interface (depending on interferometer module) 应用: 车间干涉仪 球面和非球面 光学元件

    - 优化用于生产 测量支架由花岗岩制成,具有高的精度和刚度 - 不锈钢机器底座。被动式空气减震元件安装在稳定的钢制底座上。 - 3个带花岗岩塔架的被动空气减震元件,具有最高的精度和刚度。 - 弧度滑块,带无间隙预应力摩擦轴承,由伺服电机驱动。带无间隙预应力摩擦轴承的半径滑块,由伺服电机驱动。操纵杆用于变 操纵杆用于变速行走,最大行程1500mm。 - 三轴精密可调工作台(多种X/Y测量选项 三轴精密可调工作台) - 海德汉玻璃光栅尺,测量精度为5微米。海德汉玻璃光栅尺,总行程测量精度为5 µm,用于半径的绝对测量精度、 光栅尺靠近光轴安装(阿贝原理) - 通过激光对中测量半径轴(包括 测量协议) - 创新性地安装当前类型的干涉仪(MAHR MarOpto FI 1100 Z, Zygo 4 通过激光对中测量半径轴,包括测量协议。 英寸和6英寸,Äpre S100/150 HR),包括分析软件。 软件 - 通过镜子系统重新定向半径轴,节省空间 安装方便 - 包括带集成电气柜和存储系统的移动式 包括带集成电气柜和存储系统的移动式 PC 工作站

  • OWI 150 XLC 干涉仪
    美国
    分类:干涉仪
    重量: 8000 kg 接口: 6“ Bayonet-Interface 应用: 干涉仪,用于测量 圆柱和平面光学元件

    优化用于生产 测量装置由天然硬石制成,门式结构,被动气浮,水平调节 干涉仪模块反向安装在X轴上 X/Y/Z/B轴可通过电机调节。可通过操纵杆移动。测量位置可保存 适用于CX和CV圆柱和平面光学元件 通过使用计算机生成的全息图(CGH)将准直波面分割为一维,以创建圆柱波面。 包括集成 PC 工作站 OptoTech软件与Zygo MX相结合 全自动测量单个圆柱段

  • MIS 60 干涉仪
    美国
    分类:干涉仪
    重量: 800 kg 应用: 多功能缝合干涉仪

    刚性花岗岩底座和被动式空气阻尼器 Z轴配置的高精度半径滑轨 安装在B轴上的反向设计的干涉仪模块 高分辨率旋转轴(B 轴),用于将干涉仪单元垂直于基片表面定位 直接驱动旋转轴(C轴),用于旋转光路中的高孔径球面和平面 OptoTech Inspect Mini EL-F 数字式 2" 菲佐干涉仪模块 设计紧凑,集成 PC 工作站 操作: 传统(手动)或使用μStitch MSI软件进行自动轴控制 OptoTech干涉仪软件 μShape OWI用于自动透镜评估

  • OWI 150 XT invers 干涉仪
    美国
    分类:干涉仪
    重量: 1600 kg 接口: 4“ or 6“ Bayonet-Interface (depending on interferometer module) 应用: 用于测量球面和非球面光学元件的干涉仪

    用于球面和非球面检测的高精度Fizeau车间干涉仪。 高精度运动学和高达150毫米的工作范围使该测量机成为高端光学产品生产不可或缺的工具。 测量支架由减震花岗岩制成,具有高的精度和刚度 被动空气减震元件安装在稳定的钢制底座上 半径滑块,带预载无间隙抗摩擦轴承,由伺服电机驱动,通过操纵杆变速,行程1050毫米 三轴工作台(可选配五轴工作台) 海德汉玻璃光栅尺,总行程测量精度为5 μm,实现半径的绝对测量精度,光栅尺安装在光轴附近(阿贝原理) 创新的、便于维护的现有类型干涉仪安装,包括分析软件(MAHR MarOpto FI 1100 Z、Zygo GPI/Verifire 4英寸和6英寸干涉仪)

  • MIS 300 干涉仪
    美国
    分类:干涉仪
    重量: 2500 kg 应用: 多功能缝合干涉仪

    新型多功能缝合干涉仪MSI 300专为测试直径达300毫米的高孔径球体而设计。可选配最大300毫米的平面光学测量仪 刚性花岗岩底座和无源空气轴承 Z轴调整中的高精度半径滑块 MAHR MarOpto FI 1100 Z干涉仪模块 带X/Y轴十字滑台的反向设计干涉仪模块 高分辨率旋转轴(B轴),用于在光路中定位高孔径球体 直接驱动旋转轴(C轴),用于旋转光路中的高孔径球和可选平面 标准工件夹头HD-40(可选配其他夹头) OptoTech Inspect Mini EL-F数字式4 "菲佐干涉仪模块(其它模块可根据要求提供) 设计紧凑,集成PC工作区 操作 传统(手动)或使用μStitch MSI软件进行自动轴控制

  • OWI 150 Plan 干涉仪
    美国
    分类:干涉仪
    重量: 600 kg 应用: 平面非接触测试和测量

    高精度减震花岗岩底座,安装在被动式4点减震系统上 通过对称门户结构避免静态相关的干扰因素 节省空间的显示器集成。监测台不直接安装在测量结构上,以获得更好的测量结果。 通过带集成三轴微调的空气轴承滑台平稳、精确地定位测试对象 可调节的监测器支架 提供不同的功能强大的干涉仪模块(MAHR MarOpto FI 1100 Z 或 Zygo Verifire)和舒适的软件解决方案,用于评估测量结果。

  • OWI 300 Plano 干涉仪
    美国
    分类:干涉仪
    重量: 1228 kg 应用: 平面非接触测试和测量

    刚性门式结构上的垂直梁导向 安装在减震花岗岩底座上 被动式空气减震器 用于放大干涉图像的电动变焦装置 用于横向定位的空气轴承台 尖端和倾斜装置 安全气壳

  • 光电阴极X射线管 光电二极管
    电源: Without Be window ≤ 40W With Be window≤ 100W

    冷阴极X射线管(PRT)使用内置光电倍增管(PMT)作为电子源,而不是传统的阴极。X射线由照射在PMT光电阴极上的光进行调节。发光二极管、灯或任何其他光源均可用作光源。PRT可应用于医学(X射线断层扫描)、生物学、X射线空间通信、X射线结构和X射线光谱分析设备。

  • PMT-175 光电二极管
    暗电流: ≤2·10-8A

    PMT-175具有SbKCs光电阴极和线性14个阳极倍增系统。该装置用于多光谱研究,也可用于专用设备和气体传感器。

  • 准分子腔输出耦合器(XOC) 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    通光孔径: > 85% of diameter 厚度公差: < ± 0.25 mm 基底/材料: UV grade MgF₂ UV grade CaF₂ 表面质量: < 20 / 10 直径公差: < + 0.00 / – 0.20 mm

    输出波长为193nm、248nm和308nm的激光器为准分子激光器。这些波长可用于微光刻、微制造和医疗设备等应用。在这些波长下,建议使用氟化钙或氟化镁基板作为腔内透射光学元件。用户可指定输出耦合器的反射率。请注意,Lambda 的高质量准分子激光器腔体涂层专为耐酸/氟而设计。

  • 准分子腔后视镜(XRM) 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    通光孔径: > 85% of diameter 厚度公差: < ± 0.25 mm 基底/材料: UV Grade CaF2, MgF2 表面质量: < 20 / 10 直径公差: < + 0.00 / – 0.20 mm

    有193纳米、248纳米和308纳米准分子激光器。这些波长可用于微光刻、微制造和医疗设备等应用。在这些波长下,建议使用氟化钙或氟化镁基板作为腔内透射光学元件。后腔反射镜在激光波长下的反射率至少为99.5%。请注意,Lambda 的高质量准分子激光器腔体涂层是专为耐酸/氟而设计的。

  • Sol™ 2.2A 光谱仪
    美国
    分类:光谱仪
    厂商:B&W Tek, Inc.
    波长范围: 900-2200 nm 光谱分辨率: 9 nm

    B&W Tek 的 Sol™ 2.2A 是一款高性能线性 InGaAs 阵列光谱仪,具有 256 个像素,提供宽动态范围和高吞吐量,通过集成的三级冷却器可将 TE 冷却到 -15 °C。 所有光谱仪均内置 16 位数字转换器和 SMA 905 光纤输入,同时兼容 USB 2.0 即插即用。集成的自动归零功能可自动降低暗不均匀度和暗电流,从而提高信噪比。 通过软件控制,用户可以选择四种操作模式--最大灵敏度、最大动态、高灵敏度和高动态。此外,还提供定制的光谱分辨率和应用支持。

  • Sol™ 1.7 光谱仪
    美国
    分类:光谱仪
    厂商:B&W Tek, Inc.
    波长范围: 900-1700 nm 应用: 近红外光谱仪 材料鉴定 质量控制 在线分析仪 过程监控 光谱分辨率: 0.35 nm

    Sol 1.7 是一款高性能线性 InGaAS 阵列光谱仪,具有 256、512 或 1024 个像素,TE 冷却温度低至 -10°C。它兼容 USB 2.0 即插即用,内置 16 位数字转换器和 SMA 905 光纤输入。可使用光谱采集软件在预配置的光谱范围内选择高动态范围模式或高灵敏度。可提供应用支持和定制光谱分辨率。

  • Glacier™ T 光谱仪
    美国
    分类:光谱仪
    厂商:B&W Tek, Inc.
    数字化仪速度: 16 -bit

    B&W Tek 的 Glacier® T 系列是一款高分辨率、双通道透射式热电冷却 (TEC) 线性 CCD 阵列光谱仪,特别适用于拉曼光谱。 Glacier T 光谱仪已预先配置为 785 nm 或 532 nm 激发,具有宽光谱范围或高分辨率选项。 该 TE 冷却光谱仪还具有高速 USB 2.0 接口、内置 16 位数字转换器和 2048 个元素,从而不断提高高通量结果。 将 Glacier T 光谱仪与其等效的激发激光系统和拉曼探针集成,可提供 OEM 构建模块或模块级拉曼系统。此外,还可为 OEM 应用提供应用支持和系统开发服务

  • MPA II 光谱分析仪
    德国
    分类:光谱分析仪

    在解决特定分析任务时,选择理想的取样技术至关重要。布鲁克公司的 MPA II 为用户的日常质量保证/质量控制工作以及复杂的方法开发研究提供了全面的解决方案。 开始时,用户往往不清楚哪种取样方法最理想。有了 MPA II,只需运行几种方法,然后选择最合适的选项即可。 由于 MPA II 采用模块化设计,因此可以很容易地根据用户需求对仪器进行改装。仪器坚固耐用,既可用于实验室,也可用于工厂车间。它甚至可以放置在多功能推车上进行移动应用。

  • SOLSTIS PI 激光器模块和系统
    英国
    厂商:M Squared
    输出功率(CW): >5 W

    SolsTiS PI 是基于我们在工业半导体应用领域的传统而发展起来的,它将我们屡获殊荣的 SolsTiS 钛蓝宝石激光器与 Equinox 绿光泵浦激光器结合到一个单一的集成平台中,提供了前所未有的稳定性、紧凑性和易用性,同时保留了 SolsTiS 众所周知的连续波、超窄线宽和宽调谐架构的所有优点。

  • SiBrickScan (SBS) 光谱分析仪
    德国
    分类:光谱分析仪

    布鲁克公司的 SiBrickScan (SBS) 是一种专用的在线系统,用于对完整硅锭中的间隙氧进行傅立叶变换红外定量,从而得到沿纵轴的浓度曲线。无需锯开硅片或测试样品即可获得这些信息,这被认为是节省成本的一大优势。

  • CryoSAS 光谱分析仪
    德国
    分类:光谱分析仪

    布鲁克光学公司的低温硅分析系统 (CryoSAS) 是用于硅的低温(<15K)杂质分析的一体化系统。CryoSAS 可在工业环境下运行。 CryoSAS 将布鲁克公司的高性能傅立叶变换红外光谱仪与无需液氦的集成式封闭循环低温冷却方法相结合。CryoSAS 的所有组件都非常精密,利用成熟的技术在充满挑战的硅生产环境中完成高难度分析。 CryoSAS 可实现高度自动化操作,包括准确报告分析结果。