PINNACLE®无载体湿式工作站

分类：激光器模块和系统

厂家： Akrion Systems LLC

产地：美国

型号： PINNACLE® CARRIERLESS WET STATION

更新时间： 2024-12-04 09:40:50

标签：

自动化设备半导体设备集成电路湿法处理无载体技术

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概述

PINNACLE® CARRIERLESS WET STATION是一款专为数字和模拟集成电路制造设计的湿法处理站，具备自动化和无载体特性，确保最佳工艺结果。

参数

适用基板尺寸 / Substrate Size : 200 & 300 mm
应用化合物 / Application Compounds : Si and others
技术市场 / Technology Markets : Digital IC & Analog IC
批量大小 / Batch Size : 50 wafers

应用

1. 数字集成电路制造 2. 模拟集成电路制造

特征

1. 优越的颗粒和金属性能 2. 消除载体造成的缺陷—无阴影或接触痕迹 3. 采用齿条和小齿轮式机器人，具有绝对电机旋转编码以实现精确定位 4. 单点设施连接水、氮气和CDA 5. 多罐气体分配和模块化紧凑设计 6. 实时跟踪化学品、水和气体 7. 硅片转移系统提供清洁和污垢路径（Pinnacle 300）

详述

PINNACLE® CARRIERLESS WET STATION是一款先进的全自动湿法处理设备，专为数字和模拟集成电路制造商设计。该设备采用无载体技术，消除了由于载体引起的缺陷，确保在处理过程中不会出现阴影或接触痕迹。其批量处理能力高达50片硅片，支持200mm和300mm的基板尺寸，适用于多种应用化合物，如硅等。设备还具备实时跟踪化学品、水和气体的能力，可以有效优化生产流程。此外，齿条和小齿轮式机器人设计确保了精确的定位，为制造商提供了更高的生产效率和质量保障。无论是在数字集成电路还是模拟集成电路的制造过程中，PINNACLE® CARRIERLESS WET STATION都能提供卓越的性能和可靠性。

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