aplanoXX_NA0.5\0.8_D9
微加工 光学元件 激光应用 高数值孔径 纳米制造 激光刻蚀
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严格把控产品质量,呈现理想的光电产品,确保每一件产品都能满足您的专业需求。
参数
- 数值孔径 / Numerical Aperture : 0.8/0.5
- 通光孔径 / Clear Aperture : 20/9
- 焦距 / Focal Length : 12.5/8.5
- 保护窗口D12, 可更换, 安装在Holder L9333.06 / Protective Window D12, Replaceable, Installed In Holder L9333.06 : 1.6/4.4
- 工作距离 / Working Distance : 2.5/5.5
- 在熔融石英中的聚焦深度范围*, µm / Range Of Focusing Depth In Fused Silica* : 0 ... 4000/0 ... 1000
- 光谱带 / Spectral Band : _1030: 1020 – 1100/_800: 770 - 900/_515: 510 – 545
- 视场角* / Angular Field Of View : ± 0.3°/± 1°
- 推荐最大脉冲能量 / Recommended Maximum Pulse Energy : 100 mJ at 5 ns/25 mJ at 5 ns/300 µJ at 1 ps/100 µJ at 1 ps
- 直径 / Diameter : 44/32
- 带窗口支架的长度, mm / Length With Window Holder : 54/42 with Adapter C-Mount Ext/Int 6mm
应用
1. 微加工蓝宝石、熔融石英、玻璃、硅、碳化硅 2. 3D微纳制造 3. 光学数据存储和记录极化转换器中的纳米结构化 4. 选择性激光刻蚀 5. 波导记录 6. 切割 7. 显微镜
特征
1. 具有补偿球面像差的功能 2. 可更换的保护窗口 3. 适用于多种透明介质的聚焦
详述
aplanoXX是一款高性能的光学元件,专为在透明介质中聚焦激光束而设计。它的独特之处在于能够有效补偿在聚焦过程中产生的球面像差,从而确保激光加工的高精度和高质量。该产品适用于多种应用,包括蓝宝石、熔融石英、玻璃、硅和碳化硅等材料的微加工,以及3D微纳制造和光学数据存储中的纳米结构化。其可更换的保护窗口设计使得用户在使用过程中更加灵活,能够适应不同的实验需求。无论是在科研还是工业应用中,aplanoXX都能提供卓越的性能,帮助用户实现更精细的加工效果。
图片集
规格书
厂家介绍
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