用于FEL应用的VLS减震光栅

分类：衍射光学元件

厂家： Inprentus

产地：美国

更新时间： 2024-08-30 06:17:17

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概述

Inprentus使用纳米级接触模式光刻技术（一种金属表面的受控机械变形方法）制造用于X射线和紫外线应用的闪耀衍射光栅。该技术特别适合于X射线和UV衍射光学器件，其中特征必须以0.1度的角度精度成形，并且在几十厘米的距离上以纳米精度定位。

参数

沟槽密度 / Groove Density : 5000l/mm
基底材料 / Substrate Material : Metallic
尺寸 / Dimension (Length) : 500mm

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厂家介绍

Inprentus设计、制造和销售用于同步辐射设施、半导体制造和增强现实（AR）波导的衍射光栅。世界500强企业、学术机构和政府实验室将这些Inprentus衍射光栅用于各种科学和商业应用。 Inprentus由伊利诺伊大学Urbana-Champaign物理学教授Peter Abbamonte于2012年6月成立，旨在将创新的双原子显微镜划线技术商业化，这是一种通过金属表面的机械变形进行纳米级光刻的技术。该技术是表面高精度图案化的通用方法，特别适用于x射线和EUV衍射光学，其中特征必须以0.1度角精度成形，并以纳米精度定位在数十厘米的距离上。

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