Ge 锗

应用范围: Short Wavelength IR (SWIR) 波长范围: 1 - 1 nm

索亚的钽酸锂（LT）晶片生产将高质量晶片制造与中国晶棒增长的成本优势相结合，为我们SAW产品线中已有的石英晶片增加了价格具有吸引力的LT晶片。钽酸锂晶棒生产位于中国上海，晶片制造位于德克萨斯州康罗（休斯顿附近）。我们将以前为石英安装的相同高容量半导体生产线改造为用于SAW晶片应用的LT加工。

应用范围: Ultraviolet (UV), Visible (VIS), Near Infrared (NIR), Broadband 波长范围: 350 - 850 nm

从小批量研发到大批量生产，我们的激光光学商店可以提供内置打印或现成的*交钥匙激光光学产品。将您的需求发送给销售工程师或联系我们获取较新库存。报价通常在24小时内周转。

应用范围: Deep Ultraviolet (DUV), Ultraviolet (UV), Visible (VIS), Infrared (IR), Near Infrared (NIR), Short Wavelength IR (SWIR), Long Wavelength IR (LWIR), Broadband 波长范围: 632.8 - 632.8 nm

我们是一家提供定制、定制和标准激光光学和光学抛光组件的供应商。我们提供小批量定制研发制造激光光学解决方案，以及几乎所有类型的光学材料、形状和尺寸的大批量生产。所有基板均由蓝岭光学质量工程师进行测量和认证。根据客户的具体要求，我们提供全方位的测试，以确保符合较苛刻的光学要求和规格。

应用范围: Deep Ultraviolet (DUV), Ultraviolet (UV), Visible (VIS), Infrared (IR), Near Infrared (NIR), Short Wavelength IR (SWIR), Long Wavelength IR (LWIR), Broadband 波长范围: 190 - 15000 nm

蓝岭光学薄膜涂层已用于世界上较先进和较强大的激光系统。涂层可用于蓝岭光学或客户提供的材料。随着对研究开发和持续改进的重视，我们的能力不断发展，以满足客户的薄膜涂层需求。蓝脊光学薄膜镀膜沉积室配备了行业较新和较先进的真空和监测技术。使用光学和晶体监测技术来监测薄膜沉积过程，以确保在整个沉积过程中进行一致和可重复的测量。

应用范围: Ultraviolet (UV) 波长范围: 1 - 1 nm

蓝紫色滤光玻璃，具有各种规定的紫外线透射率，在可见光和红外范围内具有高吸收率，以及具有分级紫外线透射率的透明滤光片。所有滤光玻璃都经过边缘处理和热钢化处理。UVILEX®390 Z可阻挡人造光源的紫外线辐射。因此，有机材料可以暴露于辐射相当长的时间。主要用于商店橱窗和展示区。毛皮制成的服装暴露在日光下，亮度为1，000勒克斯日光。在这种情况下，不发生任何褪色的允许曝光时间约为300小时。使用传统的卤钨灯，可以使该曝光时间加倍（600小时）。通过使用UVILEX®390 Z，暴露时间增加了四倍之多，因此毛皮可以暴露在光线下总共1，200小时。