450UPL V2中型钻石车削车床
概述
参数
- 光学器件尺寸范围 / Optics Dimension Range : 200 - 450 mm
- 最大重量 / Max Weight : 180kg
- 主轴转速 / Spindle Speed : 50 - 10000 RPM
规格书
厂家介绍
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Moore Nanotechnology Systems LLC
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EVG101高级抗蚀剂处理系统
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印刷技术: Grayscale Lithography
EVG101抗蚀剂处理系统在单室设计上执行R&D型工艺,与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101支持高达300 mm的晶圆,并可配置为旋涂或喷涂和显影。利用EVG先进的OmniSpray涂层技术,在3D结构晶片上实现了光致抗蚀剂或聚合物的共形层,用于互连技术。这确保了珍贵的高粘度光刻胶或聚合物的低材料消耗,同时改善了均匀性和光刻胶扩散选择。
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HERCULES光刻机轨道系统
光学类生产设备
EV Group (EVG)
印刷技术: Grayscale Lithography 最小 XY 特征尺寸: 500nm 最小垂直步长: 1000nm
基于模块化平台,Hercules将EVG已建立的光学掩模对准技术与集成的晶片清洗、抗蚀剂涂层、烘焙和抗蚀剂开发模块相结合。Hercules能够实现各种晶圆尺寸的盒式到盒式处理。Hercules可以安全地处理厚的、高度弯曲的、矩形的、小直径的晶片,甚至是器件托盘。精确的顶侧和底侧对准以及亚微米到超厚(高达300微米)抗蚀剂的涂覆可以应用于夹层和钝化应用。卓越的对准平台设计以高通量实现了高度精确的对准和曝光结果。
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