纳米薄膜_EP4BAM是EP4成像椭偏平台的一种特殊配置。是一种理想的薄膜成像系统，可升级为成像椭偏仪。这是一个完全无需动手的计算机控制系统，使用专有的电机控制电路。Nanofilm_EP4BAM可直接在显示器上显示样品的实时图像，并具有重要的图像处理功能。物镜扫描仪为整体聚焦图像提供了扩展的景深。高功率绿色激光器和出色的物镜相结合，可实现1微米的横向分辨率，这是目前CCD光学探测器的极限。强大的软件使操作变得简单方便。作为一个完整的解决方案，该系统包括计算机、电子设备和所有必要的软件，用于在您现有的槽上或使用我们的集成槽之一开始测量。水槽是一个单独的项目，不包括在标准中。

FilmTek™2000 SE台式计量系统具有无与伦比的测量性能、多功能性和速度，适用于无图案的薄膜到厚膜应用。它非常适合学术和研发环境。FilmTek™2000 SE结合了光谱椭圆偏振法和DUV多角度偏振反射法，可同时测量薄膜厚度、折射率和消光系数。我们先进的旋转补偿器设计可在整个Δ（Δ）范围内实现精度和准确度，包括接近0°和180°。当无法在布鲁斯特条件附近进行测量时，这可以实现较佳性能，这对于硅或玻璃衬底上非常薄的薄膜的精确测量是必不可少的。数千个波长可在几秒钟内同时收集，集成的自动对焦功能消除了同类椭偏仪所需的手动样品对准的繁琐任务。FilmTek™2000 SE是一个完全集成的封装，配有直观的材料建模软件，即使是较苛刻的测量任务也能简单可靠地完成。FilmTek™软件包括完全用户可定制的样本映射功能，可快速生成任何测量参数的2D和3D数据图。除了用户定义的图案外，标准贴图图案还包括极坐标、X-Y、Rθ或线性。

新一代显微薄膜、表面和材料计量工具采用自动归零椭圆偏振术和显微镜相结合的方法，能够以小至1微米的横向分辨率进行表面表征。这能够分辨比大多数非成像椭偏仪小1000倍的样品区域，即使它们使用微点光谱选项。Nanofilm_EP4使用各种独特的功能，允许实时可视化您的表面。您将在微观尺度上看到样品的结构，并测量厚度、折射率和吸收等参数。可以记录选定区域的3D剖面图。与AFM、QCM-D、反射计、拉曼光谱等其他技术的仪器组合有可能从您的样品中获得更多信息。

Nanofilm_RSE是一种特殊类型的椭偏仪，它将样品与参考进行比较。以这种方式，可以测量样品和参考之间的椭圆偏振差。由于参考的取向，在测量过程中不需要移动或调制任何光学元件，并且可以在单次测量中获得完整的高分辨率光谱。通过这种方式，每秒可获得100个光谱。同步X-Y平台能够在几分钟内采集大视场薄膜厚度图。参考光谱椭偏仪将椭偏仪的高灵敏度和层厚区域（0.1nm-10µm）与市场上可用的较高速度相结合。与激光椭偏仪相比，它包括450和900nm之间的光谱信息。这在处理层的一个以上参数是可变的情况下是重要的，例如厚度和光密度。

Semilab 提供的 SE-2000 是一种独有的模块化光学平台，配备有旋转补偿器光学元件的分光椭偏仪。它可以对单层和多层样品以及基片进行非接触式和非破坏性光学测量，从而获得单独的薄膜厚度和光学特性。