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  EVK HELIOS EQ32 0.9-1.7µm高光谱成像系统

  奥地利

  分类：光谱仪

  厂商：EVK DI Kerschhaggl GmbH

  成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: Custom 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: 900 - 1700 nm 光谱分辨率: <2.5 nm

  Helios EQ32高光谱成像系统是一种强大的分析工具，基于非接触和非破坏性的实时红外成像光谱。EVK Helios系统分析物体的化学性质，并区分彩色相机不可见的材料类型。内部处理引擎提供物料流的定性和定量信息，例如分析物浓度或材料成分。摄像机作为一个即插即用组件提供了完整的内部校准。Helios EQ32采用紧凑、坚固的不锈钢外壳，具有应力解耦光学机械结构。该系统针对实际工业环境进行了优化，可在整个指定温度范围内提供稳定的校准数据。

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  EVK HELIOS NIR G2-320 0.9-1.7µm高光谱成像系统

  奥地利

  分类：光谱仪

  厂商：EVK DI Kerschhaggl GmbH

  成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: 900 nm 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: 900 - 1700 nm 光谱分辨率: Custom

  EVK Helios超光谱成像相机是一个强大的分类系统，基于非接触和非破坏性红外成像光谱。Helios NIR G2-320提供分类数据流，用于分析和监控在线和在线应用程序。由于太阳神系统分析物体的化学性质，并对彩色相机不可见的材料类型进行区分。内部分类引擎提供物料流的定性和定量信息。

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  HELIOS NIR G2 320 CORE 0.9-1.7µm高光谱成像系统

  奥地利

  分类：光谱仪

  厂商：EVK DI Kerschhaggl GmbH

  成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: 900 nm 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: 900 - 1700 nm 光谱分辨率: Custom

  EVK Helios超光谱成像相机是一个强大的分类系统，基于非接触和非破坏性红外成像光谱。Helios NIR G2-320提供分类数据流，用于分析和监控在线和在线应用程序。由于太阳神系统分析物体的化学性质，并对彩色相机不可见的材料类型进行区分。内部分类引擎提供物料流的定性和定量信息。