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光束质量分析仪V1.0
厂家：World Star Tech
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激励源: Incoherent 火焰: 638nm 带通: 900 - 1600 nm 检测: InGaAs PhotodetectorThens Minitracer是应用纳米荧光有限责任公司（Applied Nanofluorescence，LLC）纳米光谱分析仪创新系列的较新成员。其设计经过优化，可对含有近红外荧光团（如单壁碳纳米管或量子点）的各种样品进行快速、简单和高灵敏度的分析测量。Minitracer是环境和生物样品中SWCNT定量的理想选择，也是任何SWCNT研究实验室常规样品表征的理想选择。
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激励源: Laser 火焰: 532nm 带通: 900 - 1600 nm 检测: InGaAs PhotodetectorANF提供NS1 NanoSpectralyzer®，这是一种基于较先进的纳米管光谱学研究的独特自动荧光分析仪。该仪器将专门的光学系统与定制软件相结合，以实现对大块单壁碳纳米管（SWCNT）样品的高效、交钥匙分析。NS1纳米光谱分析仪对于调整SWCNT生长反应器中的工艺条件、质量控制、指导纳米管分选和分离方法以及需要快速时间尺度的详细组成数据的广泛研究应用很有价值。
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测量类型: Elemental analysisRigaku NEX CG可对各种类型的样品中的主要和次要原子元素进行快速定性和定量测定-较低标准：非破坏性分析NA至non-U固体、液体、粉末和薄膜检测下限的极化激发峰重叠的新颖处理减少了误差使用Ultracarry的含水样品的ppb检测极限带EZ分析的简化用户界面用于迹级灵敏度的极化笛卡尔几何学与传统的EDXRF分析仪不同，NEX CG采用了独特的紧密耦合笛卡尔几何（CG）光学内核，大大提高了信噪比。通过使用二次目标激励代替传统的直接激励，进一步提高了灵敏度。由此产生的背景噪声的显著降低和元素峰值的同时增加，使得光谱仪即使在困难的样品类型中也能够进行常规痕量元素分析。新颖的软件减少了对标准的需求NEX CG由新的定性和定量分析软件RPF-SQX提供支持，该软件采用了Rigaku Profile Fitting（RPF）技术。该软件允许在没有标准品的情况下对几乎所有样品类型进行半定量分析，并使用标准品进行严格的定量分析。
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测量类型: Elemental analysis作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造，无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中，NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力，包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育，以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制（QC）还是其更复杂的变体（如分析质量控制（AQC）、质量保证（QA）或六西格玛等统计过程控制），NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。
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测量类型: Elemental analysis作为一款优质高性能、小型SPOT台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE VS通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体、浆料和RoHS材料。
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测量类型: Chemical identificationRigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光（EDXRF）为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术，Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析，适用于从铝（Al）到铀（thickness U）的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计，能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上，并配备有位于滚轮上方的线性横动机构，以使头-面距离恒定。需要时，可直接测量涂层的元素组成。相反，涂层重量（或涂层厚度）可以直接测量（其中元素的计数率与厚度成比例）或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量（其中计数率与厚度负相关）。长期以来，台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描，用于更严格的过程控制公差，将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材，以改变产品（如标签）或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少，或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域，则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响，或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害，从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮，则制造的辊的成本增加，降低了盈利能力，并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。
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测量类型: Elemental analysisRigaku NEX OL采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了液流和固定位置网络或线圈应用的工艺元素分析的下一次进化。NEX OL的设计涵盖了从重工业到食品级的过程测量解决方案，可配置用于分类和非分类领域。从铝（Al）到铀（₂U）的分析为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX QC高分辨率台式仪器。凭借这一成熟的技术，Rigaku NEX OL可对从铝（Al）到铀（U）的元素进行快速、无损的多元素分析——从百万分率（ppm）水平到高重量百分比（wt%）浓度。Rigaku NEX OL配备50 kV X射线管和SDD探测器，以及标准化、优化的管式过滤器套件，旨在解决广泛的过程控制应用。
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测量类型: Elemental analysisRigaku NEX QC能量色散X射线荧光（EDXRF）分析仪可快速定性和定量测定各种样品类型中的主要和次要原子元素：非破坏性分析NA至non-U固体、液体、合金、粉末和薄膜用于宽元素覆盖的50kV X射线管半导体探测器，数据质量高现代智能手机风格的“图标驱动”用户界面增强灵敏度的多个自动管过滤器方便的内置热敏打印机低成本，无与伦比的性价比
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测量类型: Contaminant detection and analysisRigaku NEX QC能量色散X射线荧光（EDXRF）分析仪可快速定量测定各种船用燃料中的硫：非破坏性地分析硫（S）至低ppm水平分析镍（Ni）、钒（V）和铁（Fe）（如需要）分析锌（Zn）以确定燃油是否受到污染半导体探测器具有卓越的可靠性现代触摸屏“图标驱动”用户界面方便的内置热敏打印机低成本，无与伦比的性价比ASTM D4294和ISO 8754测定硫的方法
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测量类型: Elemental analysis基于Windows®的EDXRF用于快速元素分析作为一款优质的低成本台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，Rigaku NEX QC+Quantez通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体和泥浆。野外、工厂或实验室的元素分析NEX QC+Quantez系列专为重工业应用而设计，无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中，其卓越的分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增添了广泛的吸引力，包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育，以及工业和生产监控应用。无论需要的是基本质量控制（QC）还是其更复杂的变体（如分析质量控制（AQC）、质量保证（QA）或六西格玛等统计过程控制），NEX QC+Quantez系列都是常规元素分析的可靠选择。
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测量类型: Contaminant detection and analysisRigaku的NEX XT是新一代工艺仪表，用于原油、船用燃料、燃料油和其他高粘度碳氢化合物（包括渣油）的高水平总硫测量（0.02%至6%S）。在线全硫测量仪这款多功能、紧凑且坚固耐用的X射线透射/吸收（XRT/XRA）过程测量仪专门针对炼油厂、管道、混合操作、加油终端和其他存储设施的总硫分析需求进行了优化。NEX XT的应用包括船用燃料混合以满足MARPOL附件六的硫限制，通过管道输送的不同等级燃料的界面检测，炼油厂原料混合和监测，以及远程收集和储存设施的原油质量监测。
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测量类型: Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Chemical identification 最低电平检测: 0.1 - 1000000 ppm 决议: 35eV2830 ZT波长色散X射线荧光（WDXRF）晶片分析仪提供了测量薄膜厚度和成分的先进能力。2830 ZT晶片分析仪专为半导体和数据存储行业而设计，可用于测定厚度达300 mm的各种晶片的层成分、厚度、掺杂剂水平和表面均匀性。请求报价
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测量类型: Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Chemical identification 最低电平检测: 0.1 - 100 ppm 决议: 35eV秒级多元素化学成分分析由于时间关键的过程控制或运行样品高通量，您是否需要在几秒钟内对化学成分进行无损分析？马尔文PAnalytical Axios Fast SimultaneousWDXRF光谱仪可同时测量多达28种元素，浓度范围从ppm到100%，是理想的解决方案。准确而强大的分析、经验较少的员工的轻松操作以及高正常运行时间与低拥有成本齐头并进。在时间关键型应用程序中实现快速结果Axios快速元素分析仪可在几秒钟内获得分析结果，是时间关键型应用和高样品通量分析环境的理想工具。主要应用领域包括钢铁和金属合金生产，以及每天需要分析数百个样品的地质或商业实验室。
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测量类型: Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Chemical identification 最低电平检测: 1 - 1000000 ppm 决议: 135eV小型、功能强大的便携式XRF分析仪Epsilon 1是一款完全集成的能量色散XRF分析仪，由光谱仪、内置计算机、触摸屏和分析软件组成。在激发和检测技术的较新进展的支持下，Epsilon 1是低成本台式仪器类中的明星产品。Epsilon 1产生快速、经济、精确和准确的数据，对操作员和样品制备的依赖性较小。因此，总运行成本比其他分析技术低得多，例如AAS、ICP和湿化学方法，这些方法成本高并且还需要专门的熟练操作员。
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测量类型: Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis 最低电平检测: 1 - 1000000 ppm 决议: 135eV基于成熟的Epsilon 3系列XRF光谱仪的经验和成功，Epsilon 4是一款多功能台式XRF分析仪，适用于从研发到过程控制领域需要从氟（F）到镅（Am）元素分析的任何行业。将较新的激发和检测技术与成熟的软件和智能设计相结合，Epsilon 4的分析性能接近更强大的落地式XRF光谱仪。
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测量类型: Elemental analysis 最低电平检测: 1 - 1000000 ppm 决议: 135eVEpsilon XFlow的在线液体分析为快速准确地控制工艺参数提供了解决方案。法规和质量规范的增加推动了对连续流程的需求。Epsilon XFlow可实现实时洞察，以更高效地管理生产流程并降低运营成本。
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测量类型: Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis 最低电平检测: 0.1 - 100 ppm 决议: 35eV通过将SUMxCore技术（WDXRF、EDXRF和XRD的集成）整合到Zetium平台中，实现了科学合理、利益驱动的创新，提供了先进灵活性、性能和多功能性，并有望彻底改变XRF世界。
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标准测量范围: 625 - 5000 cm-1 最大分辨率: 4cm-1这款便携式遥感现场和工业仪器比我们的101型仪器更轻，功能更多，自1991年以来，101型仪器一直满足世界各地科学家和工程师的研究需求。
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测量类型: Contaminant detection and analysis, Chemical identification, Other 最低电平检测: 1 - 1 ppm与XUL系列一样，XRF光谱仪Fischerscope®X-Ray XAN®非常适合分析形状简单的样品。然而，XanSeries的一大优势在于其高质量的半导体探测器。X射线荧光（XRF）不仅可以测量涂层的厚度，还可以分析合金的成分（例如，G。铜）。XanSeries总共包括5台台式XRF光谱仪，涵盖了广泛的应用。XAN215具有高性价比的PIN检测器。它非常适合简单的涂层厚度任务，例如铁或Au/Ni/Cu上的锌。对于使用合金或贵金属的更复杂的应用，我们建议使用我们的带有硅漂移探测器的XRF设备（例如Xan220）：由于其分辨率高得多，它可以可靠地区分金和铂。当您需要检测微量重金属和其他有害物质时，Xan250是您的解决方案。
