• 0°入射的193纳米准分子激光镜 MR1020 光学反射镜
    基底材料: Fused Silica 波长范围: 187 - 200 nm 平整度: lambda/10 表面质量: 10-5 scratch-dig 反射率: 97%

    这些高性能反射镜旨在用于基于ARF准分子激光器的应用和系统中的通用光束控制任务。

  • 0°入射的193纳米准分子激光镜 MR1060 光学反射镜
    基底材料: Fused Silica 波长范围: 187 - 200 nm 平整度: lambda/10 表面质量: 10-5 scratch-dig 反射率: 97%

    这些高性能反射镜旨在用于基于ARF准分子激光器的应用和系统中的通用光束控制任务。

  • 用于45°入射的193纳米准分子激光器反射镜 MR1040 光学反射镜
    基底材料: Fused Silica 波长范围: 187 - 197 nm 入射角: 45deg 平整度: lambda/10 表面质量: 10-5 scratch-dig

    这些高性能反射镜旨在用于基于ARF准分子激光器的应用和系统中的通用光束控制任务。

  • 193纳米高输出-低重复型GIGANEX 600W型激光器 激光器模块和系统
    日本
    厂商:Gigaphoton Inc.
    混合气体: ArF 波长: 193 nm 脉冲能源: 1000mJ 平均功率: 600W 最大重复率: 600Hz

    我们相信,通过整合Gigaphoton从制造准分子激光器作为半导体光刻光源中获得的技术和专有技术,并将该技术和专有技术与其客户的技术相结合,新创建的Giganex也可以在半导体光刻以外的领域产生新的创新,作为高性能DUV光源。由于Giganex系列是在Gigaphoton&Aposs GT平台上设计的,并且是为较大限度的通用性而设计的,因此可以预期它是高度可靠的。此外,它继承了GT系列的高输出和高振荡频率的特点,并有望实现更适合激光退火的设计。

  • 193纳米高重复型GIGANEX 600W型激光器 激光器模块和系统
    日本
    厂商:Gigaphoton Inc.
    混合气体: ArF 波长: 193 nm 脉冲能源: 100mJ 平均功率: 600W 最大重复率: 6000Hz

    我们相信,通过整合Gigaphoton从制造准分子激光器作为半导体光刻光源中获得的技术和专有技术,并将该技术和专有技术与其客户的技术相结合而新创建的Giganex,也可以在半导体光刻以外的领域产生新的创新,作为高性能DUV光源。由于Giganex系列是在Gigaphoton&Aposs GT平台上设计的,并且是为较大限度的通用性而设计的,因此可以预期它是高度可靠的。此外,它继承了GT系列的高输出和高振荡频率的特点,有望实现更适合激光退火的设计。

  • 248纳米高输出-低重复型GIGANEX 600W型激光器 激光器模块和系统
    日本
    厂商:Gigaphoton Inc.
    混合气体: KrF 波长: 248 nm 脉冲能源: 1000mJ 平均功率: 600W 最大重复率: 600Hz

    我们相信,通过整合Gigaphoton从制造准分子激光器作为半导体光刻光源中获得的技术和专有技术,并将该技术和专有技术与其客户的技术相结合,新创建的Giganex也可以在半导体光刻以外的领域产生新的创新,作为高性能DUV光源。由于Giganex系列是在Gigaphoton&Aposs GT平台上设计的,并且是为较大限度的通用性而设计的,因此可以预期它是高度可靠的。此外,它继承了GT系列的高输出和高振荡频率的特点,有望实现更适合激光退火的设计。

  • 308纳米高输出-低重复型GIGANEX 600W型激光器 激光器模块和系统
    日本
    厂商:Gigaphoton Inc.
    混合气体: XeCl 波长: 308 nm 脉冲能源: 1000mJ 平均功率: 600W 最大重复率: 600Hz

    我们相信,通过整合Gigaphoton从制造准分子激光器作为半导体光刻光源中获得的技术和专有技术,并将该技术和专有技术与其客户的技术相结合而新创建的Giganex,也可以在半导体光刻以外的领域产生新的创新,作为高性能DUV光源。由于Giganex系列是在Gigaphoton&Aposs GT平台上设计的,并且是为较大限度的通用性而设计的,因此可以预期它是高度可靠的。此外,它继承了GT系列的高输出和高振荡频率的特点,有望实现更适合激光退火的设计。

  • 351纳米高输出-低重复型GIGANEX 600W型激光器 激光器模块和系统
    日本
    厂商:Gigaphoton Inc.
    混合气体: XeF 波长: 351 nm 脉冲能源: 1000mJ 平均功率: 600W 最大重复率: 600Hz

    我们相信,通过整合Gigaphoton从制造准分子激光器作为半导体光刻光源中获得的技术和专有技术,并将该技术和专有技术与其客户的技术相结合,新创建的Giganex也可以在半导体光刻以外的领域产生新的创新,作为高性能DUV光源。由于Giganex系列是在Gigaphoton&Aposs GT平台上设计的,并且是为较大限度的通用性而设计的,因此可以预期它是高度可靠的。此外,它继承了GT系列的高输出和高振荡频率的特点,并有望实现更适合激光退火的设计。

  • Alkor CaF2窗口 光学窗口片
    俄罗斯
    分类:光学窗口片
    基底材料: Sapphire 抗反射涂层: Coated 直径: 6.00mm 表面质量: 60-40 scratch-dig 表面平整度: Other

    欢迎来到我们新的CAF2 Windows目录。我们生产由准分子、UV或IR级氟化钙制成的CaF2窗口。提供定制尺寸和规格的CaF2窗口、钻孔CaF2单元窗口和用于光谱学的拉曼级CaF2载玻片、用于真空室的CaF2观察口、CaF2楔形。我们有从CaF2晶体生长到抛光CaF2窗口的全过程。这就是为什么我们可以提供市场上较好的价格之一。

  • Alkor MgF2窗口 光学窗口片
    俄罗斯
    分类:光学窗口片
    基底材料: MgF2 抗反射涂层: Uncoated 直径: 12.7mm 表面质量: 40-20 scratch-dig, 60-40 scratch-dig 表面平整度: Not Specified

    氟化镁(MgF2)窗口提供从深紫外到中红外的出色宽带传输。DUV传输使它们非常适合用于氢莱曼-阿尔法线和紫外线辐射源和接收器,以及准分子激光应用。通常用作UV视口。晶体的标准取向是C-切割,以使Beence较小化。

  • AMF光学解决方案的非球面透镜 光学透镜
    美国
    分类:光学透镜
    直径: 8mm 材料: N-BK7, Ge, ZnSe, CaF2, Other

    我们使用较先进的5轴研磨和加工设备以及传统的抛光技术,为商业和国防工业制造定制精密镜片。AMF Optical Solutions使用BK-7、准分子级熔融石英、锗和硅等材料制造0.250Ø至8Ø的球面和非球面金刚石车削透镜。表面光洁度通常为1/10λ球形和/或1/10λ平面,具有20/10或更好的划痕深度。我们的红外热成像镜头是透射式光学器件,是红外应用的理想选择。

  • Baf2红外光谱仪气室窗口 光学窗口片
    基底材料: BaF2 直径: 300mm 表面质量: 60-40 scratch-dig 厚度: 300mm

    BaF2(氟化钡)BaF2从紫外到红外,从150-200nm到11-11.5μm都是透明的,可用作制造透镜等光学元件的材料。它用于红外光谱的窗口,特别是在燃油分析领域。其在200nm处的透射率相对较低(0.60),但在500nm处的透射率上升到0.96-0.97,并保持在该水平直到9μm,然后透射率开始下降(10μm为0.85,12μm为0.42)。从700nm到5μm,折射率约为1.46。氟化钡用作预遮光剂,并用于搪瓷和上釉玻璃料的生产。它也用于冶金,作为精炼铝的熔池。本征晶体科技有限公司是氟化钙的制造商和加工商,符合RoHS环保要求,可提供深紫外(准分子级)、紫外和红外级氟化钙材料和组件。我们有各种方向,如111,110,100等。我们有各种形状的材料,如圆棒,方板,阶梯,棱柱,楔子等。我们有各种传统的板材,球形和楔形在我们的库存。我们有尺寸为4mm-200mm的单晶和多晶材料和光学元件。请通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com|;BZ-optical.com与我们联系

  • 用于1-200Nm的X射线的光束分析和光束成像 光束分析仪
    美国
    分类:光束分析仪
    传感器类型: Other 可衡量的来源: CW 波长范围: 1 - 200 nm ADC: Other

    在X射线中可视化和测量光束的目标具有新的重要性。Star Tech Instruments开发了新的系统来分析这些光束的功率/能量、均匀性、高分辨率光束轮廓和图像分析。型号µBIP10X是一款真空兼容(1x10-10 Torr)光束轮廓仪和光束成像系统,设计用于1-10 nm的高分辨率。该系统适用于200nm。10倍MAG。1.5 mm的场具有0.6µm的分辨率,并且对非常低的能级敏感。该系统设计用于1.3 X 1.3传感器,但可以针对其他相机格式进行修改。可根据要求提供不同的放大倍率和相机。μBIP系列是STI较新的成像系统,专为使用软X射线而设计-#91;1-2 nm-#93;不应将其用于准分子激光器的较长波长,如193nm或248nm,这将导致严重的内部损伤。较重要的是,该系统设计用于高真空室,使用我们的定制真空法兰组件将光学系统连接到真空室。法兰的额定压力为10-8托。

  • Bojen Optics CaF2晶体 激光晶体
    中国大陆
    分类:激光晶体
    水晶类型: CaF2 AR 涂层: Both sides

    氟化钙窗口在0.13-10μm的极宽波长范围内是透明的,它作为光谱窗口具有广泛的红外应用,特别是纯级氟化钙FID在紫外和紫外准分子激光窗口中的有用应用。

  • CaF2窗口 光学窗口片
    中国大陆
    分类:光学窗口片
    厂商:Union Optic Inc.
    基底材料: CaF2 抗反射涂层: Uncoated 直径: 25.4mm 表面质量: 80-50 scratch-dig 表面平整度: 1 lambda

    准分子激光应用的理想选择180nm至8um的高透射率提供定制尺寸

  • CaF2窗口 光学窗口片
    中国大陆
    分类:光学窗口片
    厂商:Crysmit
    基底材料: CaF2 抗反射涂层: Coated 直径: 20mm 表面质量: 10-5 scratch-dig 表面平整度: lambda/10

    氟化钙(CaF2)晶体在0.13~10μm的波长范围内具有良好的性能,光宽范围宽,从紫外(UV)到红外(IR)频率范围内都是透明的。氟化钙(CaF2)用于制造光学元件,如窗口和透镜,用于热成像系统、光谱学、准分子激光器、傅里叶分析、测试仪器、气体液体激光系统、天文望远镜、MIR/NIR成像系统等。

  • 氟化钙平凸透镜 光学透镜
    美国
    分类:光学透镜
    材料: CaF2 直径: 12.50mm 焦距: 18.00mm 边缘厚度,Te: 1.17mm 镜头类型: Plano-Convex

    TechSpec®氟化钙平凸透镜非常适合要求苛刻的应用,这些应用需要从紫外线到中波红外光谱的卓越性能。TechSpec氟化钙PCX透镜具有低折射率、高激光损伤阈值和低轴向和径向应力双折射,非常适合与准分子激光器一起使用或集成到红外系统中。此外,氟化钙具有低溶解度的特点,并提供优于同类氟基基材的硬度,使这些PCX镜片能够承受恶劣的环境和暴露在自然环境中。

  • CCD光束分析器紫外线监测器 光束分析仪
    日本
    分类:光束分析仪
    传感器类型: CCD 可衡量的来源: CW 波长范围: 193 - 1100 nm ADC: Other

    紫外激光光束轮廓仪在工业应用中有着良好的记录,可用于半导体和显示器行业中加工激光材料的准分子激光器,以及Nd:YAG激光器的三次、四次和五次谐波。该产品的基本系统由基于UV探测器的相机和先进的BeamLux II软件组成。根据有效面积,可以测量从10um到100mm的光束直径。

  • CCD光束分析器 紫外线监测器 10 光束分析仪
    日本
    分类:光束分析仪
    传感器类型: CCD 可衡量的来源: CW 波长范围: 157 - 308 nm ADC: Other

    紫外激光束轮廓仪在工业应用中有着良好的记录,可用于半导体和显示器行业中加工激光材料的准分子激光器,以及Nd:YAG激光器的三次、四次和五次谐波。该产品的基本系统由基于紫外探测器和高级BeamLux II软件的相机组成。根据有效面积,可以测量从10um到100mm的光束直径。

  • CCD光束分析器 紫外线监测器K2 光束分析仪
    日本
    分类:光束分析仪
    传感器类型: CCD 可衡量的来源: CW 波长范围: 10 - 1100 nm ADC: Other

    紫外激光光束轮廓仪在工业应用中有着良好的记录,可用于半导体和显示器行业中加工激光材料的准分子激光器,以及Nd:YAG激光器的三次、四次和五次谐波。该产品的基本系统由基于UV探测器的相机和先进的BeamLux II软件组成。根据有效面积,可以测量从10um到100mm的光束直径。