EUV光刻机面临的较大问题是解决RLS权衡：同时提高分辨率、线宽粗糙度（LWR）和光敏性。AL412旋涂辅助层材料已经显示出降低线边缘粗糙度（LER）和图案塌陷、平坦化形貌、保护下面的层免受高能EUV光子损伤、改善粘附性以及改善图案转移蚀刻选择性。

基于模块化平台，Hercules将EVG已建立的光学掩模对准技术与集成的晶片清洗、抗蚀剂涂层、烘焙和抗蚀剂开发模块相结合。Hercules能够实现各种晶圆尺寸的盒式到盒式处理。Hercules可以安全地处理厚的、高度弯曲的、矩形的、小直径的晶片，甚至是器件托盘。精确的顶侧和底侧对准以及亚微米到超厚（高达300微米）抗蚀剂的涂覆可以应用于夹层和钝化应用。卓越的对准平台设计以高通量实现了高度精确的对准和曝光结果。

用于接触掩模对准器的356型光刻UV强度和能量计是一种基于微处理器的监视器，允许存储和调用从曝光系列（400 MW/cm2，9999 MJ/cm2，较大9999秒）收集的多个曝光参数（强度、能量和时间）。它计算百分比偏差并平均能量。对于220、254、260、310、365、380、400、420、436和540nm波长。其他波长也是可用的。

掺钛蓝宝石（Ti3+：Sapphire）作为一种光泵浦的固体激光晶体，被广泛应用于波长可调谐激光器中，其调谐范围为650-1100nm，峰值波长为800nm，是目前波长较宽的可调谐激光晶体之一。钛宝石的高能态寿命仅为3.2ms，饱和功率很高，很难用灯、氩离子激光器或倍频Nd：YAG激光器等来泵浦。通常是适应的。利用自锁模技术，钛宝石激光器可以直接输出脉宽为6.5fs的激光脉冲，这是所有直接从谐振腔输出的激光脉冲中较窄的。通过倍频技术，激光束的波长可以覆盖从蓝光到深紫外的宽波段，产生的193nm激光已用于光刻机。

掺钛蓝宝石（Ti3+：Sapphire）作为一种光泵浦的固体激光晶体，被广泛应用于波长可调谐激光器中，其调谐范围为650-1100nm，峰值波长为800nm，是目前波长较宽的可调谐激光晶体之一。钛宝石的高能态寿命很短，只有3.2ms，由于饱和功率很高，很难用灯、氩离子激光器或倍频Nd：YAG激光器等来泵浦。通常是适应的。利用自锁模技术，钛宝石激光器可以直接输出脉宽为6.5fs的激光脉冲，这是所有直接从谐振腔输出的激光脉冲中较窄的。通过倍频技术，激光束的波长可以覆盖从蓝光到深紫外的宽波段，产生的193nm激光已用于光刻机。

KrF光刻光源G60K以继承Gigaphoton多年技术和积累经验的KrF光源技术为基础，支持超过300片/h的光刻机处理速度，通过输出功率达到以往产品的150%，并将模块寿命延长到最高200%，为改善可用性提供帮助。G60K还兼具扩展性，通过新开发的电源和模块来支持未来高输出、高频率等性能改进，满足对未来KrF曝光技术的要求。还标配无氦技术，有助于减少气体的消耗量。

偏振保持光纤耦合405nm二极管激光器具有极高的亮度，并结合了完美的光束形状和几乎完美的高斯强度分布。405nm有效地用于UV立体光刻，否则-3D打印。占地面积小，灵活的光纤传输使这种激光器易于集成到紧凑型立体光刻机中。这种激光的其他应用包括荧光光谱或成像、光漂白等。405nm激光器由集成光学器件提供，具有标准化的超紧凑封装、方便的+5电源和宽的热工作范围-从15度到45度。通过保持相同的功率和波长稳定性。