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模式场直径: 100um 波长范围: 1500 - 10000 nm 纤维芯材料: Chalcogenide Glass
硫族化物玻璃以硫族元素(硫、硒和碲)为基础,添加了其他元素,如砷、锑或锗。与二氧化硅相比,它提供了有希望的性质,例如在光谱的中和远红外区域的透射、较低的声子能量值、高折射率和非常大的非线性。硫系玻璃光纤是需要高功率激光传输、化学传感、热成像和温度监测的中红外应用的理想候选材料。Irflex的IRF-SE系列长波红外(LWIR)光纤由超高纯度硫族化物玻璃As2Se3制成,专门设计和制造用于产生和/或引导1.5至10µm的中红外波长,具有高传输效率和约1000倍于石英玻璃光纤的非线性。
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相机类型: Industrial, Other 阵列类型: InGaAs 光谱带: 0.9 - 1.7 um # 像素(高度): 250 (R) / 12.5 (SQ) 像素间距: 12.5um
基于全新的内部开发的InGaAs线性探测器,Manx是一款高性能短波红外(SWIR)相机,可提供高速和高质量的线扫描成像。在高达256 kHz(或128 kHz)的前所未有的线速率下,Manx是世界上较快的线扫描InGaAs摄像机。马恩岛能够提供高达2048像素的分辨率。它还提供了2048像素SWIR线性相机的较低噪声性能记录,以及出色的动态范围。使用CoaXPress接口可实现快速可靠的数据传输。马恩岛提供3种不同的分辨率,分别为512、1024或2048像素。Manx Rectangular(R)产品适用于光谱学和光谱域光学相干层析成像(Oct)。对于马恩岛广场(SQ),硅片检测、TFT屏幕检测、食品和农产品分类是一些工业应用,这些应用将受益于这一新系列的超快速线性SWIR相机。点击此处了解更多关于我们的马恩岛R线。点击此处了解更多关于我们马恩岛SQ线路的信息。
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致动器数量: 3 波前倾斜行程: 10um 学生人数: 2.4mm 反光涂层材料: Protected Silver
Mirrorcle Technologies公司的无万向架双轴扫描MEMS反射镜装置基于专有的ARI-MEMS制造技术,该技术较初是通过加州伯克利的亚得里亚海研究所(“ARI”)的研究项目开发的。它们在两个轴上提供非常快速的光束转向,同时需要超低功耗。反射镜将激光束或图像偏转到每个轴上高达32°的光学扫描角度(点对点或准静态模式)以及谐振模式中的更高角度。与体积庞大的基于检流计的光学扫描仪相比,这些设备所需的驱动功率要小几个数量级:驱动反射镜倾斜旋转的静电致动器的连续全速操作消耗的功率小于1mW。Mirrorcle Technologies MEMS反射镜完全由单片单晶硅制成,具有出色的可重复性和可靠性。平坦、光滑的镜面涂有一层具有高宽带反射率的金属薄膜。较小和中等尺寸的反射镜被制造为硅MEMS芯片的集成部分,而较大的反射镜被粘合到致动器上,从而允许定制反射镜尺寸。
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测量类型: Chemical identification
Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光(EDXRF)为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术,Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析,适用于从铝(Al)到铀(thickness U)的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计,能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上,并配备有位于滚轮上方的线性横动机构,以使头-面距离恒定。需要时,可直接测量涂层的元素组成。相反,涂层重量(或涂层厚度)可以直接测量(其中元素的计数率与厚度成比例)或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量(其中计数率与厚度负相关)。长期以来,台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描,用于更严格的过程控制公差,将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材,以改变产品(如标签)或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少,或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域,则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响,或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害,从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮,则制造的辊的成本增加,降低了盈利能力,并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。