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硫系As2S3和As2Se3玻璃光纤具有较宽的传输范围(1.5μm~6.5μm和1.5μm~10μm)和较低的传输损耗,具有较高的非线性系数、较小的负折射率温度变化(DN/DT)、良好的功率容量和化学稳定性,可用于制作SMA、FC/PC和FC/APC等传输电缆。然而,由于硫系玻璃的高折射率(As2S3约为2.4,As2Se3约为2.7),光纤在输入和输出面会发生较大的菲涅尔反射(17%和21%)。对于采用SMA或FC/PC终端的电缆,输入端的这种反射可能会对激光器或其他光学元件造成不良影响。对于需要消除这种反射的应用,必须使用隔离器。在输入面采用8°角的FC/APC终端并不能缓解背向反射问题。然而,由于这些反射造成的功率损耗,上述终端仍将经历较低的传输功率。Irflex的FC/B®终端允许输入光束在输入面几乎完全传输,这意味着除了消除不需要的背向反射外,更多的功率被耦合到光纤中。我们的FC/B®连接器利用透射材料的布儒斯特角特性,在输入面实现了几乎完全的透射和无反射。以布儒斯特角入射到材料上的光对于其电场平行于入射平面的光将不会经历反射;这被称为TM或P极化。具有TE或S偏振的光仍将经历反射;因此,该角度也被称为偏振角。
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波长范围: 190 - 1700 nm 决议: 0.3-2nm 最短扫描时间: 1sec
FilmTek™2000 PAR-SE组合计量生产线是我们较先进的台式计量解决方案,具有业内较高的准确度、精度和多功能性。FilmTek™2000 PAR-SE的设计旨在满足从研发到生产的几乎所有先进薄膜测量应用的需求。FilmTek™2000 PAR-SE结合了光谱椭圆偏振法和DUV多角度偏振反射法,具有宽光谱范围,可满足较具挑战性的测量需求。SCI的专利抛物面镜技术可实现低至50µm的小光斑尺寸,非常适合直接测量产品晶圆和图案化薄膜。FilmTek™2000 PAR-SE结合了专利多角度差分偏振(MADP)和差分功率谱密度(DPSD)技术,利用多角度偏振光谱反射计独立测量薄膜厚度和折射率。通过独立测量折射率和厚度,FilmTek™2000 PAR-SE对薄膜(尤其是多层堆叠中的薄膜)的变化比依赖于传统椭圆偏振或反射测量技术的现有计量工具更加敏感。FilmTek™2000 PAR-SE是一个完全集成的软件包,配有先进的材料建模软件,即使是较严格的测量任务也能可靠和直观地完成。硬件和软件都可以轻松修改,以满足客户的独特需求。
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波长范围: 240 - 1700 nm 决议: 0.3nm 最短扫描时间: 2sec
FilmTek™2000 SE台式计量系统具有无与伦比的测量性能、多功能性和速度,适用于无图案的薄膜到厚膜应用。它非常适合学术和研发环境。FilmTek™2000 SE结合了光谱椭圆偏振法和DUV多角度偏振反射法,可同时测量薄膜厚度、折射率和消光系数。我们先进的旋转补偿器设计可在整个Δ(Δ)范围内实现精度和准确度,包括接近0°和180°。当无法在布鲁斯特条件附近进行测量时,这可以实现较佳性能,这对于硅或玻璃衬底上非常薄的薄膜的精确测量是必不可少的。数千个波长可在几秒钟内同时收集,集成的自动对焦功能消除了同类椭偏仪所需的手动样品对准的繁琐任务。FilmTek™2000 SE是一个完全集成的封装,配有直观的材料建模软件,即使是较苛刻的测量任务也能简单可靠地完成。FilmTek™软件包括完全用户可定制的样本映射功能,可快速生成任何测量参数的2D和3D数据图。除了用户定义的图案外,标准贴图图案还包括极坐标、X-Y、Rθ或线性。
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应用范围: Deep Ultraviolet (DUV), Ultraviolet (UV), Visible (VIS), Infrared (IR), Near Infrared (NIR), Short Wavelength IR (SWIR), Long Wavelength IR (LWIR), Broadband 波长范围: 1 - 1 nm
精细退火光学玻璃,具有多达五个非机加工的铸态表面。切割毛坯:具有标准或增加的光学和内部性能以及尺寸公差要求。光学玻璃在出厂前要经过严格的质量检验。光学玻璃生产的所有阶段都受到持续监控。此外,还进行了详细的较终检查。根据DIN EN 10204的测试证书记录了标准供应质量。根据DIN ISO 10110测试交付批次的折射率散射、应力双折射、条纹和气泡。根据要求,我们还可以提供更高精度的测试证书。对于高度均匀的切割坯料,我们通过干涉测量法确认均匀性。
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基底材料: Ge 抗反射涂层: Coated, Uncoated 直径: 3-300mm 表面质量: 20-10 scratch-dig, 40-20 scratch-dig, 60-40 scratch-dig 表面平整度: lambda/2, lambda/4, lambda/6, lambda/8, lambda/10
锗(Ge)是8-12μm波段的高性能红外成像系统的优选透镜和窗口材料。由于其表面曲率较小,其高折射率使Ge成为低功率成像系统的理想选择。色差很小,通常不需要校正。锗较广泛地用于在2μm-12μm范围内工作的红外系统中的透镜和窗口。它的透射对温度非常敏感,在接近100°C时变得不透明。环境不会造成问题,因为锗是惰性的,机械坚固且相当坚硬。锗是一种高折射率材料,用于制造光谱学的衰减全反射(ATR)棱镜。其折射率使得锗在不需要涂层的情况下形成有效的自然50%分束器。它还广泛用作生产光学滤波器的衬底。锗覆盖了整个8-14微米热能带,并用于热成像的透镜系统中。它可以涂上金刚石,产生非常坚韧的前光学。应用于光谱仪和热成像中的窗口、透镜、分束器、ATR棱镜或滤光器。通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com联系我们|BZ-optical.com