• EKSMA KDP 磷酸二氘代钾 DKDP-402 晶体
    美国
    分类:晶体
    水晶类型: KD*P (Potassium Dideuterium Phosphate) 相位测量类型: Type I, Type II 安装: Unmounted 宽度: 15mm 高度: 15mm

    KDP薄晶体用于钛宝石激光辐射的二次谐波产生或单次自相关器中的脉冲宽度测量。对于800nm的SHG,KDP具有比BBO晶体大约2.4倍的光谱接受度和相应较小的群速失配,这有时是飞秒宽光谱脉冲的非常关键的参数。

  • EKSMA KDP 磷酸二氘代钾 DKDP-406 晶体
    美国
    分类:晶体
    水晶类型: KD*P (Potassium Dideuterium Phosphate) 相位测量类型: Type I, Type II 安装: Unmounted 宽度: 15mm 高度: 15mm

    KDP薄晶体用于钛宝石激光辐射的二次谐波产生或单次自相关器中的脉冲宽度测量。对于800nm的SHG,KDP具有比BBO晶体大约2.4倍的光谱接受度和相应较小的群速失配,这有时是飞秒宽光谱脉冲的非常关键的参数。

  • EKSMA Optics - BK7立方体偏振分光镜 分束器
    美国
    分类:分束器
    材料: N-BK7 波长范围: 1064 - 1064 nm 最大光束偏差: 3arcmin 尺寸: 10mm

    在立方体分束器的内表面上涂覆偏振膜。薄膜偏振器利用发生在偏离90°角的反射上的偏振。立方体偏振分束器可以针对特定波长进行优化,从而为激光应用提供优越的性能。有关eksmabeamsplitters的更多信息,请访问:http://eksmaoptics.com/optical-components/polarizing-optics/cube-polarizing-beamsplitters/#products

  • EKSMA Optics - UV FS立方体偏光分光镜 分束器
    美国
    分类:分束器
    材料: UV Fused Silica 波长范围: 280 - 280 nm 最大光束偏差: 3arcmin 尺寸: 15mm

    在立方体分束器的内表面上涂覆偏振膜。薄膜偏振器利用发生在偏离90°角的反射上的偏振。立方体偏振分束器可以针对特定波长进行优化,从而为激光应用提供优越的性能。

  • EKSMA Optics - 真空兼容翻译平台 - 860-0052V 手动台
    美国
    分类:手动台
    旅行范围: 25mm 负载能力: 20kg 负载能力: 5kg

    真空兼容的稳定钢平移台860-0052V具有大的安装表面,对于这种相对较小的尺寸具有大的行程范围,低轮廓,以及增加的稳定性和精度。箱式设计加强了舞台,减少了弯曲。钢作为一种材料,增加了稳定性。您可以在另一端安装第二个驱动螺钉(以在固定定位应用中锁定平台)。平台由弹簧预加载。这些级可以立即堆叠到其他单元,或者堆叠到它们自己的类型(例如,在X-Y配置中)。载物台可以倒置使用。为了立即连接,底座有2个用于M6螺钉的间隙孔。类似地,平台具有用于M4螺钉的4个间隙孔。将螺钉从顶部或下方穿过平台/底座上的检修孔。千分尺870-0040-25是标准配置。设计用于10-6托真空。

  • EKSMA UV FS立方体偏光分光镜 分束器
    美国
    分类:分束器
    材料: UV Fused Silica 波长范围: 280 - 280 nm 最大光束偏差: 3arcmin 尺寸: 10mm

    在立方体分束器的内表面上涂覆偏振膜。薄膜偏振器利用发生在偏离90°角的反射上的偏振。立方体偏振分束器可以针对特定波长进行优化,从而为激光应用提供优越的性能。欲了解更多详情,请访问EksmaOptics:http://eksmaoptics.com/optical-components/polarizing-optics/cube-polarizing-beamsplitters/#products

  • EKSMA - UV FS立方体偏光分光镜 -430-1205-M2P 分束器
    美国
    分类:分束器
    材料: UV Fused Silica 波长范围: 308 - 308 nm 最大光束偏差: 3arcmin 尺寸: 20mm

    在立方体分束器的内表面上涂覆偏振膜。薄膜偏振器利用在偏离90°角的反射上发生的偏振。立方体偏振分束器可以针对特定波长进行优化,从而为激光应用提供优越的性能。欲了解更多详情,请访问EksmaOptics:http://eksmaoptics.com/optical-components/polarizing-optics/cube-polarizing-beamsplitters/#products

  • EKSMA - 真空兼容的三维翻译平台 - 860-0052V-XYZ 手动台
    美国
    分类:手动台
    旅行范围: 25mm 负载能力: 25kg 负载能力: 5kg

    EksmaOptics提供多种手动翻译平台。真空兼容的稳定钢平移台860-0052V具有大的安装表面,对于这种相对较小的尺寸具有大的行程范围,低轮廓,以及增加的稳定性和精度。箱式设计加强了舞台,减少了弯曲。钢作为一种材料,增加了稳定性。您可以在另一端安装第二个驱动螺钉(用于在固定定位应用中锁定平台)。平台由弹簧预加载。这些级可以立即堆叠到其他单元,或者堆叠到它们自己的类型(例如,在X-Y配置中)。载物台可以倒置使用。为了立即连接,底座有2个用于M6螺钉的间隙孔。类似地,平台具有用于M4螺钉的4个间隙孔。将螺钉从顶部或下方穿过平台/底座上的检修孔。千分尺870-0040-25是标准配置。设计用于10-6托真空。

  • 电控衰减器 dd-100-11-1300/1550-9/125-S-40-xx-3-1-485:1-6 光纤衰减器
    加拿大
    分类:光纤衰减器
    厂商:OZ Optics
    通道数量: Single Channel 工作波长范围: 350 - 2050 nm 动态衰减范围: 60dB 插入损耗: 1dB 反射损耗: 40dB

    OZ Optics提供全系列低成本、紧凑型PC板可安装电机驱动的低背反射可变衰减器。这些衰减器具有出色的速度、可重复性和精度。单模和偏振保持(PM)衰减器利用新颖的阻塞式衰减技术,而多模衰减器使用可变中性密度滤波器来较小化模式相关损耗。这两种类型都具有归位传感器来校准衰减器,消除了使用外部抽头的需要,以及防干扰调谐机制。通常,OZ Optics在构建保偏元件和跳线时使用基于熊猫光纤结构的保偏光纤。然而,OZ光学器件可以使用其他PM光纤结构来构造器件。我们确实有一些替代纤维类型的库存,所以请联系我们的销售部门了解供货情况。如有必要,我们愿意使用客户提供的光纤来构建设备。

  • 电控衰减器 dd-100-11-1300/1550-9/125-S-40-xx-3-1-485:1-6-DR 光纤衰减器
    加拿大
    分类:光纤衰减器
    厂商:OZ Optics
    通道数量: Single Channel 工作波长范围: 350 - 2050 nm 动态衰减范围: 60dB 插入损耗: 1.0dB 反射损耗: 40dB

    OZ Optics提供全系列低成本、紧凑型PC板可安装电机驱动的低背反射可变衰减器。这些衰减器具有出色的速度、可重复性和精度。单模和偏振保持(PM)衰减器利用新颖的阻塞式衰减技术,而多模衰减器使用可变中性密度滤波器来较小化模式相关损耗。这两种类型都具有归位传感器来校准衰减器,消除了使用外部抽头的需要,以及防干扰调谐机制。通常,OZ Optics在构建保偏元件和跳线时使用基于熊猫光纤结构的保偏光纤。然而,OZ光学器件可以使用其他PM光纤结构来构造器件。我们确实有一些替代纤维类型的库存,所以请联系我们的销售部门了解供货情况。如有必要,我们愿意使用客户提供的光纤来构建设备。

  • 光电设备 电光调制器(EOM)
    中国大陆
    厂商:Castech Inc.
    孔径: 1064mm 峰值光功率密度: 1000MW/cm^2 波长范围: 1045 - 1080 nm 变速箱: 98% 消光比: >= 1000:1

    普克尔盒用于当向电光晶体(如KD*P、BBO、RTP等)的电极施加电压时,改变通过它的光的偏振态。Castech具有不同类型的BBO和DKDPQ开关,具有高损伤阈值和消光比。

  • ELMO高功率飞秒光纤激光器 激光器模块和系统
    德国
    厂商:Menlo Systems
    波长: 1560nm 重复频率: 100MHz 输出功率: 0.33W 脉冲持续时间: 90fs

    Menlo Systems的基于光纤的飞秒激光源将光纤技术的较新成就集成到易于使用的产品中。Menlo Systems独特的Figure 9®锁模技术可实现可重复的长期稳定运行。埃尔莫的全光纤设计保证了出色的稳定性和低噪音运行。作为光纤放大器的种子源,振荡器是免维护的,用户只需按下一个按钮即可安装和使用。简而言之:专为24/7操作设计的OEM激光器。

  • ELPP-1645-10-100-20 Er:YAG光纤泵浦模型激光器 激光器模块和系统
    美国
    厂商:IPG Photonics
    波长: 1645nm 重复频率: 200MHz 输出功率: 20W 脉冲持续时间: 100000fs

    IPG Photonics的Er:YAG锁模皮秒激光器可在1645 nm和80至200 MHz的重复频率下提供高达20 W的输出功率。锁模激光头由IPG高效可靠的铒光纤激光器泵浦。Er:YAG-1645皮秒脉冲激光器适用于非金属材料加工、科学和医疗应用。

  • ELS-2000高功率铒光纤激光器 激光器模块和系统
    美国
    厂商:IPG Photonics
    波长: 1567nm 输出功率: 2000W 运行模式: Continuous Wave (CW), Modulated

    IPG公司的新型高功率连续铒光纤激光器的中心波长为1567nm,输出功率高达2000W,功率稳定度为±2%,线宽<2nm。IPG的高功率铒激光器可用于研究、材料加工和低损耗功率传输应用,为应用开发开辟了新的令人兴奋的领域。在1500 nm波长范围内,只有IPG Photonics才能为您提供各种功率和配置的设备,从激光器到放大器,从可调谐激光器到宽带光源。我们先进的光纤设备是一个巨大的飞跃,提供了较佳的二极管泵浦固态可靠性和性能。我们在该领域拥有数千台设备,您可以放心,IPG产品是经过验证的可靠产品,适合您的苛刻应用。“眼睛安全”操作通常是指激光辐射在眼睛角膜和晶状体强烈吸收的波长范围内,因此不能到达明显更敏感的视网膜。然而,IPG建议较终用户考虑激光类型、介质和分类所需的所有安全预防措施。必须佩戴合适的眼镜,并遵守激光安全程序。

  • Eltec Hipercam I 科学和工业相机
    德国
    厂商:ELTEC Elektronik
    传感器类型: CMOS # 像素(宽度): 2592 # 像素(高度): 1944 像素大小: 2.2um 全帧速率: 14fps

    Hipercam I是一款数码相机模块,可与不同的CMOS传感器模块相结合,用于不同的应用。它旨在满足工业应用的要求,例如大型工业机器的过程监控。需要一根以太网电缆将Hipercam I连接到计算机或显示器,并通过Poe为模块供电。以太网连接允许电缆运行高达100米,在设计和布线监控基础设施时提供充分的灵活性,即使是在更大的范围内系统。

  • ELWI-GER 3000二维测量系统 计量配件

    ELWIMAT-AKF VIS是一种带有刻度显示的自动准直仪,用于在放大屏幕上进行视觉评估。到目前为止,只要使用过带有目镜的视觉自动准直仪,就可以使用它。它提供了一种在所有已知应用中使用自准直仪的简单而廉价的方法。

  • ELWIMAT-AKF Digi 2000自动准直仪 光束分析仪配件

    ELWIMAT-AKF DIGI 2000是一款紧凑型电子自准直仪,具有高精度、无畸变光学系统和集成摄像机以及强大的LED照明。

  • ELWIMAT-AKF VIS 1000自动准直仪 光束分析仪配件

    ELWIMAT-AKF VISIS是一种自动准直器,带有刻度显示,用于在放大屏幕上进行视觉评估。到目前为止,只要使用过带目镜的目视自动准直仪,就可以使用它。它提供了一种在所有已知应用中使用自准直仪的简单而廉价的方法。

  • 漆包线激光切割机 剥离线层 低功耗 激光器模块和系统
    激光类型: Nd:YAG 应用: Stainless Steel, Plastic, Plexiglass, Other

    可去除漆包线、电磁线、电感、线圈等电子元件的漆膜或其他涂层,有效解决生产效率的瓶颈,满足流水线作业的要求。由半导体侧面泵浦激光器、光学扫描系统、自动翻转装置和机械运动系统组成,配以专用工具,实现牙釉质的自动去除。包括激光及光学系统、控制系统和加工工作台三部分。由计算机结合PLC控制,实现移动、定位、扑动等功能,实现去釉

  • EOS高光谱相机 光谱仪
    加拿大
    分类:光谱仪
    厂商:Photon etc.
    成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: Custom 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: Custom 光谱分辨率: Not Applicable

    EOS系列高光谱成像仪采用了Photon ETC公司基于体布拉格光栅(VBG)的专利滤波技术。这项技术是高光谱成像的理想选择。微视场和宽视场平台都是为发光(光致发光或电致发光)和反射测量而设计的,并且可以适应宽带或单色光源。我们的过滤技术允许快速获取光谱分辨的高分辨率图像。基于色散光谱仪的推扫式(线扫描)系统一次采集一条线,而基于VBG的设备允许全局成像。这意味着使用基于VBG的技术,可以一次获取完整的单色图像,而不是逐行(或逐点)获取。由于相机捕获视场中的整个区域,因此可以实时收集光谱和空间信息,并可以记录光谱分辨的视频。V-EOS™在可见光谱上提供一系列单色图像,避免了繁琐的X-Y或线扫描。该系统通过提供光谱特征的大规模分布来进行前所未有的分析,无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化。我们的S-EOS™宽场高光谱成像仪集成了我们的新型Zephir相机,现在覆盖了高达2.5μm的短波红外光谱区域。该系统通过提供光谱特征的大规模分布,无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化,都可以进行前所未有的分析。Grand-EOS高光谱成像仪将高光谱显微镜系统与高光谱广域成像平台相结合,提供了VNIR(400-100 nm)和SWIR(900-2500 nm)光谱范围的微观和宏观模态。