MSA-130单色仪的主要特点是它能够在加色散和减色散两种模式下工作。它是世界上先进能够提供两种模式而无需任何额外校准和校准的仪器。通过将选择器旋钮从“加法”位置手动切换到“减法”位置，或从“减法”位置手动切换到“加法”位置，即可切换加法和减法模式。

致动器提供非常坚硬的设计，能够产生高达1000N（MTP-15）的阻挡力。这一特性使致动器能够在Z轴上驱动较大10kg（MTP-15）的负载。在标称范围内驱动MTP执行器只需要一个0V至120VDC高压放大器。但是，如果需要，可以通过使用-30V至150VDC的高压放大器来实现额外的范围。如果需要小尺寸和闭环性能，MTP可以与Queensgate的位置测量系统结合使用。这提供了用于亚纳米精度的电容性位置感测，具有与致动器独立放置传感器的优点。这允许将传感器板自由地安装在主机固定装置上的任何方便的点。

PSH 1至PSH 4系列基于压电直接驱动系统。这些系统的构造类似于三脚架配置。PSH 1至PSH 4系统可同时控制所有三个执行器。可实现33µm范围内的Z轴活塞运动。有两种不同的托板尺寸可供选择。“A”型的尺寸为25 X 25mm²。顶板类型“B”，提供38 X 38mm²，主要设计用于1½"镜子。作为选项，集成反馈传感器在闭环控制下提供绝对、可重复的位置测量。

MX系列电动定位系统由Zolix设计和制造，基于4轴或多轴电动组合产品，在有限的空间内提供较灵活的调整或定位。典型的应用场景包括精细光路对准和人体姿态模拟。

Nano-HL系列单轴台是重型压电纳米定位器，设计用于承载重达10千克的负载。Nano-HL由一块近2英寸（50毫米）厚的铝块制成，具有足够的物理刚性来抵消较大的离轴负载，同时继续产生精确、高分辨率的运动。内部位置传感器采用专有的PicoQ®技术，可在闭环控制下以亚纳米分辨率提供绝对、可重复的位置测量。Nano-HL系列载物台可在任何方向上操作，并可定制以满足特定安装和特殊安装要求。

Nano-LR200设计用于提供大范围的单轴平移，具有绝对较小的轴外运动。Nano-LR200的独特设计可产生小于5 nm的平面外运动；在200μm运动范围内的整个移动平台上进行测量。Nano-LR200设定了单轴精度和定位性能的较高水平。内部位置传感器采用专有的PicoQ®技术，在闭环控制下以亚纳米精度提供绝对、可重复的位置测量。Nano-LR200非常适合需要极高并行性的应用，如计量、AFM和MEMS。

Nano-M3Z是一种紧凑的三轴（Z，θx，θy）压电纳米定位系统，由铝制成。Nano-M3Z的紧凑设计使其能够集成到空间受限的现有仪器中。Nano-M3Z非常适合需要精确对准能力的苛刻应用。内部位置传感器采用专有的PicoQ®技术，在闭环控制下以皮米和纳级精度提供绝对、可重复的位置测量。相关型号Thenano-Man5将线性X和Y运动与Nano-M3Z的功能相结合。

Nano-Man5是一个五轴（X，y，Z，θx，θy）压电纳米定位系统，具有用于绝对位置测量的闭环反馈控制。Nano-Man5的紧凑设计使其能够轻松集成到现有仪器中，用于纳米光刻和SEM等应用。Nano-Man5非常适合需要三个线性运动轴以及“高端”和“倾斜”（θxθy）的对准应用。内部位置传感器采用专有的PicoQ®技术，在闭环控制下以皮米和纳级精度提供绝对、可重复的位置测量。Nano-Man5还提供高真空（不可烘烤）兼容型号。与Nano-Man5类似，Nano-M350具有相同的物理尺寸，但只有三个运动轴（XYZ）。

Nano-Mini是目前较小的弯曲导向压电纳米定位平台之一。该载物台采用创新的微型截面多层压电陶瓷，可在小尺寸上实现较佳性能，使刚性载物台能够以皮米精度平移10微米。这种独特的设计使其成为精密计量和显微镜应用的理想选择。内部位置传感器采用专有的PicoQ®技术，在闭环控制下提供皮米精度的绝对、可重复位置测量。可提供钛或不胀钢。

Nano-OP系列是一组多功能紧凑型压电纳米定位器，可配置为适合各种应用。单独的单轴级可以组合以形成多轴系统。Nano-OP系列可提供30、65和100微米的运动范围。它们可以由铝、殷钢或钛制成，并且可以定制以满足独特的要求。内部位置传感器采用专有的PicoQ®技术，在闭环控制下以皮米分辨率提供绝对、可重复的位置测量。

与Nano-OP系列一样，Nano-OPH系列是一组多功能紧凑型单轴压电纳米定位器，可配置为适合各种应用。通过平台增加一个直径为1.3英寸的孔，使纳米OPH在光学实验中的精确运动中特别有用。单独的单轴级可以组合以形成多轴系统。Nano-OPH系列可提供30、50和100微米的运动范围。它们可以由铝、殷钢或钛制成，并且可以定制以满足独特的要求。内部位置传感器采用专有的PicoQ®技术，在闭环控制下以皮米分辨率提供绝对、可重复的位置测量。

Nano-P系列是压电驱动、闭环、线性纳米定位器，采用独特的柔性铰链设计。使用先进的放电加工工艺，柔性铰链完全由单块高强度钛加工而成。该铰链首次在管状压电纳米定位器上使用，确保了较高程度的可重复性和负载能力。与市场上外观类似的产品不同，Nano-P系列没有内置碟形弹簧。贝氏弹簧不是无摩擦的，因此不能提供真正的纳米精密定位器的高度可重复性。纳米P系列的导向机构是一个真正的弯曲弹簧-消除机械摩擦和静摩擦。Nano-P系列由Invar和钛制成，具有热稳定性和机械强度的较佳组合，是较苛刻的纳米定位和计量应用的理想选择。Nano-P系列提供三种标准运动范围，集成位置传感器，采用专有的PicoQ®技术，在闭环控制下提供皮米精度的绝对、可重复位置测量。提供定制系统。

Nano-YT500是一种长距离、单轴、精密压电纳米定位系统，其中心孔径非常适合样品的光学扫描。内部位置传感器采用专有的PicoQ®技术，可在闭环控制下以纳米分辨率提供绝对、可重复的位置测量。Nano-YT500的真正挠曲导向运动将整个500μm运动范围内的端对端行程差异降至小于1μm（0.2%）。Nano-YT500可在任何方向上操作，并已经过超过1，000，000个完整周期（每个周期1000μm的总行程）的可靠性测试。

NanoCam SQ动态光学轮廓仪可测量超光滑光学和精密表面的表面粗糙度。非接触式NanoCam SQ是对传统工作站光学轮廓仪所需的杂乱复制方法的巨大改进，并为测量大型光学器件提供了出色的便携性。通过启用机器上的粗糙度计量，NanoCam SQ提高了产量。通过消除运输昂贵的关键任务光学器件的需要，NanoCam降低了损坏的风险。NanoCam SQ光学轮廓仪采用动态干涉测量法（Dynamic Interferometry®），集成了高速光学传感器，测量速度比传统光学轮廓仪快数千倍。由于采集时间非常短，NanoCam SQ可以在振动的情况下进行测量，因此可以将仪器安装在抛光设备、台架或机器人末端执行器上。NanoCam SQ结构紧凑，重量轻，可直接放置在大型光学器件上。有了这种定位的自由度，NanoCam可以测量大型光学器件上任何位置的表面光洁度。NanoCam SQ动态光学轮廓仪包括4Sight高级分析软件。业界领先的4Sight报告ISO 25178表面粗糙度参数（S参数），并提供广泛的2D和3D分析选项、数据过滤、屏蔽、数据库和导入/导出功能。

PU转换器由单个金属部件组成，该金属部件包括弯曲引导系统。这种设计意味着PU平移台表现出极好的机械稳定性，并且因为它们是预加载的，所以可以动态地工作。FEA建模的挠性件保证了零摩擦和高鲁棒性。在高负载版本中，这些致动器可以支持高达240 N的负载，并产生40至100微米的单轴运动。它们很容易适应，因为它们既可以水平安装，也可以垂直安装。坚固耐用的设计使PU系列非常适合需要可靠的亚纳米精度的各种工业应用。

PU转换器由包括弯曲引导系统的单个金属部件组成。这种设计意味着PU平移台表现出极好的机械稳定性，并且因为它们是预加载的，所以可以动态地工作。FEA建模的挠性件保证了零摩擦和高鲁棒性。在高负载版本中，这些致动器可以支持高达240 N的负载，并产生40至100微米的单轴运动。它们很容易适应，因为它们既可以水平安装，也可以垂直安装。坚固耐用的设计使PU系列非常适合需要可靠的亚纳米精度的各种工业应用。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。介质镜全介质镜由陶瓷材料而不是金属层制成，并依靠相长干涉来产生高反射率。因此，它们在比金属镜窄得多的波长范围内工作，并且是角度敏感的。然而，与金属镜相比，它们具有极高的耐用性，并且可以在高温环境中有效地工作。此外，它们比金属镜更环保。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。