-
类型: White light interferometer 测量类型: Thickness 波长: 840 nm 应用: Thickness Measurement
Micro-Epsilon的IMS5400-TH45是一款白光干涉仪,专为工业厚度测量而设计。它可以测量0.035-1.4毫米的厚度,测量距离可达45毫米,频率可在100赫兹至6千赫兹之间连续调节。该干涉仪具有波长为840nm的NIR-SLED光源,甚至可以测量光学非致密物体(如抗反射镀膜玻璃)的厚度。IMS5400-TH45提供了与距离无关的测量的决定性优势,从而获得稳定的纳米精度厚度值。目标可以在其测量范围内移动而不影响精度。该干涉仪的厚度测量范围还允许测量薄层、平板玻璃和薄膜。它需要24 V直流电源,功耗为10 W.该干涉仪采用尺寸为Φ10 X 55 mm的铝制外壳。
-
类型: White light interferometer 测量类型: Thickness 波长: 840 nm 应用: Thickness Measurement
Micro-Epsilon的IMS5400-TH70是一款白光干涉仪,专为工业厚度测量而设计。它可以测量0.035-1.4毫米的厚度,测量距离可达70毫米,连续可调速率为100赫兹至6千赫兹。该干涉仪具有波长为840nm的NIR-SLED光源,甚至可以测量光学非致密物体(如抗反射镀膜玻璃)的厚度。IMS5400-TH70提供了与距离无关的测量的决定性优势,从而获得稳定的纳米精度厚度值。目标可以在其测量范围内移动而不影响精度。该干涉仪的厚度测量范围还允许测量薄层、平板玻璃和薄膜。它需要24 V的直流电源,功耗为10 W.该干涉仪采用尺寸为Φ10 X 55 mm的铝制外壳。
-
类型: Laser Interferometer 测量类型: Thickness, Length 波长: 632.8 nm 应用: Dimension Measurement, Gage Block Measurement
普惠测量系统公司(Pratt&Whitney Measurement Systems)的LMS200是一种激光干涉仪,通过将测量探头位置与632.8nm红色氦氖激光光源的波长进行比较来测量内部和外部尺寸。该专利激光路径与测量轴一致,消除了阿贝误差。它有一个花岗岩底座,其热膨胀系数比钢小十倍以上,使该干涉仪成为高度稳定的测量源。该干涉仪的精度为0.05+0.5Lµm,重复性为0.04µm.它的测量范围高达200 mm,直接读数范围为200 mm.LMS200干涉仪有一个碳化钨平板(1/10波)测量探头,带有Ø0.25金刚石尖端。探头是电动和远程控制的,以提高系统稳定性并消除操作员的影响。它可以测量最大尺寸为293 X 203 mm的样品,并具有14克的探针接触力。该干涉仪具有两步校准功能,这是一种先进的省时功能,允许使用两个实验室级别的可追踪量块进行校准,从开始到结束仅需30秒。它可以在直接读取或比较器模式下工作,并具有可编程自动循环功能,支持用户定义的恒定吞吐速率。该干涉仪根据命令存储所有测量结果的总和,并可显示统计数据,指示计算的平均值和一个标准偏差。LMS200需要110/120至220/240 V的交流电源,并消耗1-2 A的电流。它采用尺寸为56 X 41 X 79 cm的封装,非常适合测量球/球体、磁带/磁盘基板、光学元件、聚乙烯薄膜、量块/滑规、涂层厚度标准、塞规和销规、丝线、薄膜厚度、量块堆叠、网格厚度、纺织品和精密零件。
-
类型: Fizeau Interferometer 波长: 633 nm 聚焦范围: ± 2.5 m, ± 5.5 m 应用: Surface Measurement
Zygo公司的VeriFire是一款Fizeau干涉仪,具有专利的QPSI采集功能,并配有一个160 Hz的摄像机,可提供1200 X 1200像素的分辨率。它有一个有线和无线遥控编码焦点可切换偏振套件,具有1-5倍的光学放大倍率。该干涉仪具有633nm高功率稳定HeNe激光源,其产生最小3mW的IIIA类偏振输出。它的测试光束直径为4或6英寸,光学中心线为4.25英寸。该干涉仪需要81-188ms的采集时间,4英寸的光瞳聚焦范围为±2.5m,6英寸的光瞳聚焦范围为±5.5m.它可以通过高性能戴尔PC、Windows 1064位、MX™软件进行控制,并具有水平或垂直安装配置。VeriFire具有3种数据采集模式,即PSI(时间相移干涉测量法)、QPSI(振动稳健的时间相移干涉测量法)和可选的DynaPhase(振动不敏感的瞬时干涉测量)。它有一个带双点分划板的快速条纹采集系统(QFAS),需要100-240 V的交流电源。它采用尺寸为69 X 31 X 34 cm(4英寸)或92 X 31 X 34 cm(6英寸)的封装,是反射光学器件、透明光学器件和成像系统的理想选择。