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衰减时间常数: 90ns 排放峰值: 520nm
铈掺杂的多组分钆铝镓石榴石晶体,称为Ce:GaGG,化学式为Ce:Gd3Al2Ga3O12,属于较重要的发现,其提供了优异的闪烁性能,并在较近十年进入了闪烁体市场。有效原子序数为54.4,发射光谱峰值波长为520nm。Ce:GAGG晶体除了具有高光产额、良好的能量分辨率、高的有效原子序数、快的闪烁响应外,化学稳定性、坚固性和大晶体生长能力也是非常重要的性质。Ce:GAGG晶体对γ量子的线性响应表明,Ce:GAGG晶体在X射线成像、X射线计算机断层扫描(CT)、正电子发射断层扫描(PET)等医学成像技术中具有良好的应用前景。单晶闪烁体经常用于扫描电子显微镜(SEM)。
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活动区域: 25mm 活动区域: 17mm
我们的传统SDD在密封TO-8封装内使用结栅场效应晶体管(JFET)以及外部前置放大器,与此不同的是,快速SDD在TO-8封装内使用互补金属氧化物半导体(CMOS)前置放大器,并用金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)取代JFET。这显著降低了电容,大大降低了串联噪声,并在非常短的峰化时间内提高了分辨率。快速SDD®使用相同的检波器,但带有前置放大器,在较短的峰值时间内提供较低的噪声。改进的(较低的)分辨率使得能够隔离/分离具有接近的能量值的荧光X射线,否则峰值将重叠,从而允许用户更好地识别其样品中的所有元素。短的峰值时间也产生计数率的显著改进;更多的计数提供更好的统计数据。
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测量类型: Contaminant detection and analysis, Chemical identification, Other 最低电平检测: 1 - 1 ppm
与XUL系列一样,XRF光谱仪Fischerscope®X-Ray XAN®非常适合分析形状简单的样品。然而,XanSeries的一大优势在于其高质量的半导体探测器。X射线荧光(XRF)不仅可以测量涂层的厚度,还可以分析合金的成分(例如,G。铜)。XanSeries总共包括5台台式XRF光谱仪,涵盖了广泛的应用。XAN215具有高性价比的PIN检测器。它非常适合简单的涂层厚度任务,例如铁或Au/Ni/Cu上的锌。对于使用合金或贵金属的更复杂的应用,我们建议使用我们的带有硅漂移探测器的XRF设备(例如Xan220):由于其分辨率高得多,它可以可靠地区分金和铂。当您需要检测微量重金属和其他有害物质时,Xan250是您的解决方案。
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测量类型: Contaminant detection and analysis, Chemical identification, Other 最低电平检测: 1 - 1 ppm
FISCHERSCOPE®X光XUL®系列是每个电镀车间真正的基础设备。这些简单且经济实惠的能量色散X射线荧光XRF分析仪非常适合监测镀液成分,但在质量控制方面,它们也是不可或缺的帮手:坚固耐用,非常适合测量螺母和螺栓等批量生产零件上的电镀层。XUL/XULM系列中的所有XRF光谱仪操作简单直观。较大的样品可以用手简单地放置在测量室中;或者,对于较小的项目,如插头,仪器可以配备手动样品台。虽然测量设备很紧凑,但它们为您的试件提供了足够的空间-高达17厘米。如果您有几个不同的测量任务,FischerScope X射线XULM具有可更换的过滤器和准直器,因此您可以为所有应用创建较佳的测量条件。此外,XULM具有内置的微聚焦管,即使测量点很小,测量层很薄,也能提供精确的结果。