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波长: 1050nm 隔离范围: 30 - 60 dB 变速箱: 78%
EOT的1050nm至1080nm低功率法拉第旋转器使偏振光平面在正向方向上旋转45°,并在反向方向上旋转另外的45°非互易旋转,同时保持光的线性偏振。当放置在交叉偏振器之间时,法拉第旋转器变成光隔离器。光隔离器在正向方向上提供高透射率,并强烈衰减在反向方向上传播的任何光,从而有效地保护种子源免受背向反射的有害影响。EOT的1050 nm至1080 nm低功率隔离器可与分色玻璃偏振器或偏振分束器立方体一起订购。如果保护种子源免受Q开关激光器的背反射,EOT建议使用偏振分束器立方体,因为它们能够承受高脉冲能量。如果需要60dB隔离以确保背反射不会导致单频单种子激光器的频率不稳定,则可以串联使用两个隔离器。
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传感器类型: CCD 可衡量的来源: CW 波长范围: 340 - 1100 nm # 像素(宽度): 1388 # 像素(高度): 1036
LPM200设计用于激光的自动测定和监控。以及具有长瑞利长度的激光束的光束参数,其中标准光束轮廓仪不能提供足够的功能。LPM200系统包括用于对激光束焦散成像的光学系统以及用于扫描该图像的线性平台。两种不同放大率的选择以及各种光学滤波器完成了这个紧凑的测量系统。•数据的采集和分析由经过验证的BeamLux软件使用附带的M²工具进行处理,该工具根据标准ISO 11146进行了测量优化。直接或通过定制的BLFE软件前端远程提供用户控制。该系统与用于Metrolux测量设备的SAMM控制和评估模块相结合,可快速轻松地配置和集成到生产过程中。
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放大器类型: EDFA - Erbium-Doped Fiber Amplifier 波长范围: 1530 - 1562 nm 最大输出功率: 14dBm 标称增益: 2.0dB
Emcore Mafa 5000系列微型掺铒光纤放大器(μEDFA)增益块模块是OEM系统集成的理想构建模块,其中需要放大1550 nm信号,以满足各种应用,包括有线电视服务系统、RF/微波光纤链路、传感和控制系统等。MAFA 5000 EDFA增益块系列旨在满足光纤通信和控制系统较苛刻的噪声性能要求,并执行系统集成所需的光放大器的所有功能。MAFA 5000系列EDFA增益模块提供输入和输出光学隔离,以实现稳定的低噪声工作。检测输入和输出光信号以用于监视和控制。对于恒定输出功率电平,利用有源增益控制来放大输入光信号,或者对于恒定增益模式操作,利用有源输出功率控制来放大输入光信号。MAFA 5000系列EDFA增益块还为所有关键操作参数提供监视器和相关警报。MAFA 5000系列EDFA增益块的光输出可通过可选的内部分路器分为多个端口(2、3或4)。MAFA 5000紧凑的机械占地面积允许在有限的空间环境和高密度应用中使用该装置。
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放大器类型: EDFA - Erbium-Doped Fiber Amplifier 波长范围: 1530 - 1562 nm 最大输出功率: 14dBm
EMCORE MAFA 5000系列微型掺铒光纤前置放大器增益块模块是OEM系统集成的理想构建模块,其中需要为广泛的应用(包括RF/微波光纤链路、光纤延迟线、传感和控制系统等)前置放大1550 nm信号。MAFA 5000 EDFA增益块系列旨在满足光纤链路较苛刻的噪声性能要求,并执行系统集成所需的光学前置放大器的所有功能。为了实现极低的噪声系数(NF),必须将前置放大器的输入损耗降至较低。为此,MAFA 5000系列微型掺铒光纤前置放大器设计消除了传统功率放大器设计中常见的输入隔离和输入监控。MAFA 5000系列微型掺铒光纤前置放大器增益模块提供稳定工作的输出光隔离。对输出的光信号进行检测,以进行监测和控制。泵浦激光器偏置电流采用恒流控制。MAFA 5000具有针对所有关键操作参数的内置监视器,并在参数超过既定阈值时生成警报。MAFA 5000系列微型掺铒光纤前置放大器增益块的光输出可通过可选的内部分路器分为多个端口(2、3或4)。MAFA 5000紧凑的机械占地面积允许在有限的空间环境和高密度应用中使用该装置。
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传感器类型: CMOS # 像素(宽度): 2592 # 像素(高度): 1944 像素大小: 2.2um 峰值量子效率: 55%
Mako U-503B是一款单色USB3 Vision相机,配备ON Semiconductor(Aptina)MT9P031 CMOS传感器和滚动快门。所有Mako USB相机都具有相同的紧凑型外壳,外形尺寸为49.5 X 29 X 29 mm。即使在恶劣的工业环境中,螺丝锁也能确保安全的电气连接。每个型号都通过USB接口供电,并具有光电隔离I/O。GPIO为Mako U提供了较大的灵活性,以适应特定的需求。两条非隔离GPIO线路基于TTL,可编程为输入或输出。
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中心波长: 1064nm 重复频率: 10 - 10 kHz 脉冲能源: 0.01mJ 脉冲持续时间: 1000fs 极化: Unspecified
被动调Q微片固态激光器(微片激光器)是一种方便的短脉冲发射源(0.5至1ns),具有高脉冲能量(10μJ)和接近衍射极限的光束质量。微芯片激光器的应用可以通过使用一个或多个放大器级增加其脉冲能量和平均功率来显著扩展,但前提是放大器保持微芯片发射的固有光束质量和其他所需属性。我们已经证明,双通VHGM放大器可以将1064nm微芯片振荡器的脉冲能量和平均功率分别增加到500uJ和5W以上,同时保持微芯片激光器的光束质量和发射光谱。下图显示了2通放大器的平均1064nm输出功率与放大器驱动电流(在10kHz的脉冲率下)的关系,并且是注入到2通放大器中的1064nm种子功率的函数。放大器中的较大808nm泵浦功率为40W。考虑到将种子功率减少10倍(至约10mW)导致放大器输出功率减少不到2倍,2通放大器在100mW种子功率下很好地饱和。在2通放大器的输出端不需要法拉第隔离器,而在其他设计中经常需要法拉第隔离器来将2通放大光束与输入种子光束分离,从而导致更紧凑、更高效和更低成本的MOPA系统。在JG Manni,Optics Communications 252:117-126(2005)中提供了更多细节。微芯片激光振荡器现在是商业上可获得的,其可以在200ps脉冲持续时间中产生10nJ脉冲能量,并且在100ps脉冲中产生4nJ脉冲能量。(见www.batop.de)我们计划将这种微芯片激光器与我们的双通道VHGM放大器配对,并将在此网页上报告我们的结果。
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隔振系统高度: 788mm 垂直运动范围: 2.5mm 自动液位控制的精度: Not Specified mm 垂直谐振频率: 0.5Hz 水平谐振频率: 0.5Hz
更符合人体工程学的MK26振动控制工作站专为超低固有频率应用而设计。该系统采用负K负刚度隔振器,以提供紧凑的被动隔振工作站,该工作站具有超低的固有频率、较高的内部结构频率以及出色的垂直和水平隔振效率。MK26也进行了升级,以提供更好的用户舒适性和额外的腿部空间。负K隔离器,它们是完全被动的,不需要空气或电力。不需要计算机、压缩机或空气管路,也不会发生故障。Minus K制造的隔振器在低频隔振中采用了负刚度技术。这些机构将内部弹簧、挠性件和支柱压缩成完全机械振动。调整到1/2Hz的固有频率,该工作站在2Hz时达到约93%的隔离效率,在5Hz时达到99%,在10Hz时达到99.7%。MK26系列可针对各种应用进行配置,并可与我们的大多数隔振工作站配件进行定制。MK26系列为各种仪器提供先进性能,如激光、光学、分析天平、细胞注射、共焦显微镜、膜片钳、光学显微镜、晶片探测、传感器校准、原子力显微镜和半导体加工、电信、航空航天工程和医学研究等领域的其他敏感设备。
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隔振系统高度: 788mm 垂直运动范围: 2.5mm 自动液位控制的精度: Not Specified mm 垂直谐振频率: 0.5Hz 水平谐振频率: 0.5Hz
更符合人体工程学的MK52振动控制工作站专为超低固有频率应用而设计。该系统采用负K负刚度隔振器,以提供紧凑的被动隔振工作站,该工作站具有超低的固有频率、更高的内部结构频率以及出色的垂直和水平隔振效率。MK26也进行了升级,以提供更好的用户舒适性和额外的腿部空间。负K隔离器,它们是完全被动的,不需要空气或电力。不需要计算机、压缩机或空气管路,也不会发生故障。Minus K制造的隔振器在低频隔振中采用了负刚度技术。这些机构将内部弹簧、挠性件和支柱压缩成完全机械振动。调整到1/2Hz的固有频率,该工作站在2Hz时达到约93%的隔离效率,在5Hz时达到99%,在10Hz时达到99.7%。MK52系列可针对各种应用进行配置,并可与我们的大多数隔振工作站配件进行定制。标准尺寸可达8'X 4',也可定制尺寸。MK52系列为各种仪器提供先进性能,如激光、光学、分析天平、细胞注射、共焦显微镜、膜片钳、光学显微镜、晶片探测、传感器校准、原子力显微镜和半导体加工、电信、航空航天工程和医学研究等领域的其他敏感设备。