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  用于化合物半导体的AIX 2800G4-TM IC2沉积系统

  德国

  分类：材料类生产设备

  厂商：AIXTRON SE

  基底尺寸: 203.2 - 152.4 mm 工艺类型: Pulsed Laser Deposition (PLD)

  AIX 2800G4-TM，用于基于GaAs/InP的光电子学和P-HEMT/HBT器件。