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沟槽密度: 1000.0 - 1841.6l/mm 闪耀波长: 1030nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm用于脉冲压缩的高效光栅
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沟槽密度: 1200.5 - 1841.6l/mm 闪耀波长: 800nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm用于脉冲压缩的高效光栅
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沟槽密度: 800.0 - 1379.3l/mm 闪耀波长: 1150 - 1450nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm为您的应用定制的高效光栅
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沟槽密度: 1379.3 - 2500.0l/mm 闪耀波长: 450 - 750nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm为您的应用定制的高效光栅
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沟槽密度: 1000.0 - 1739.1l/mm 闪耀波长: 1064nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm高效率熔融石英光栅
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沟槽密度: 800.0 - 1200.5l/mm 闪耀波长: 1550nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm高效率熔融石英光栅
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沟槽密度: 800.0l/mm 闪耀波长: 1840 - 2050nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm为您的应用定制的熔融石英光栅
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沟槽密度: 1200.5 - 1841.6l/mm 闪耀波长: 975nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm高效率熔融石英光栅
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沟槽密度: 1000.0 - 1379.3l/mm 闪耀波长: 810 - 930nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm为您的应用定制的熔融石英光栅
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沟槽密度: 1000.0l/mm 闪耀波长: 1550nm 基底材料: Fused Silica 尺寸: 3/6.35mm高效率熔融石英光栅
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光谱范围: 830 - 910 nmHolographix成功地推进了透射光栅的设计和制造工艺，使我们能够生产出始终达到或超过体光栅性能的表面浮雕组件，但成本只是体光栅的一小部分。
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沟槽密度: 1200l/mm 光谱范围: 900 - 1100 nm 火焰: Blazed 尺寸: 240mm 基底材料: Custom目前，全息衍射光栅被广泛应用于各种控制激光辐射参数的系统中，由于全息方法允许光栅足够大且具有较大的空间频率，因此当这种光栅被用于激光脉冲的形成和压缩以及产生输出光场的系统中时，人们特别感兴趣。这些光栅增加了对衍射效率（DE）和抗辐射性的要求。
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光谱范围: 0 - 2500 nm 火焰: Blazed 闪耀波长: 1500nm 尺寸: 200mm 基底材料: Custom衍射光栅是衍射光谱器件中的色散元件。它是一种金属或透明材料的光学表面，是以某种方式沉积的一种或另一种沟槽，在相干光束上分割入射光波的前沿，并改变其振幅和相位。这些相干光束的干涉决定了所产生的辐射能量在空间中的分布和光栅的光谱特性。较近，在光谱设备中仅使用刻划衍射光栅，其凹槽在具有金刚石刀具的特殊机器的帮助下切割。这些光栅是以相等距离间隔的平行凹槽；横截面的形状由金刚石刀具的切削刃轮廓决定。凹槽的形式可能不同，但光栅元件——凹槽——以严格相等的间隔重复，称为光栅周期。较近，通过在光刻胶中形成激光辐射的干涉图案，开发了一种新的衍射光栅制造技术。这些被称为全息衍射光栅。如果光栅沉积在一个平面上，这样的光栅被称为平面。如果凹槽显示为凹球面，则这种凹面光栅。它们具有聚焦效应。在现代光谱设备中，平面衍射光栅和凹面衍射光栅都有使用，JSC在制造全息衍射光栅时使用了自己开发的独特的无机光刻胶。该光致抗蚀剂具有低的光散射水平和高的分辨率。基于使用这种光致抗蚀剂的技术允许产生具有各种形状和表面曲率的准正弦槽轮廓全息衍射光栅（其中一个轮廓在下图中）。目前，全息光栅正开展利用离子刻蚀技术获得预定三角形槽形和矩形槽形全息衍射光栅的研究。
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分散: 8nm/mm 波长范围: 200 - 400 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 600l/mmIV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上，使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的，并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正，这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时，通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上，并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散，因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 16nm/mm 波长范围: 400 - 800 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 300l/mmIV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上，使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的，并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正，这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时，通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上，并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散，因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 24nm/mm 波长范围: 200 - 800 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 200l/mmIV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上，使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的，并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正，这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时，通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上，并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散，因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 36nm/mm 波长范围: 300 - 1170 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 138l/mmIV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上，使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的，并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正，这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时，通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上，并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散，因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 40nm/mm 波长范围: 200 - 1200 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 120l/mmIV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上，使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的，并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正，这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时，通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上，并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散，因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 48nm/mm 波长范围: 200 - 1400 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 100l/mmIV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上，使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的，并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正，这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时，通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上，并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散，因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
