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  • ORPHEUS-PS 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:Light Conversion
    可调谐: 640 – 1000 nm(信号光) 1060 – 2600 nm(闲频光) 应用行业: 飞秒受激拉曼光谱 (FSRS) 和频拉曼光谱(SFG) 脉冲宽度: 800 fs – 3 ps

    ORPHEUS-PS是一款窄带光参量放大器(OPA),专为PHAROS和CARBIDE激光器设计。该器件由二次谐波带宽压缩器SHBC产生的皮秒脉冲泵浦,并由飞秒脉冲产生的白光连续波作为种子。与其他产生可调谐皮秒脉冲的方法相比,这种方法具有极高的脉冲能量稳定性。白光发生装置与放大装置集成在同一外壳中,因此具有长期稳定性高和易于使用的特点。该系统具有高转换效率、带宽和衍射限制输出以及全计算机控制等特点。 部分泵浦激光辐射可分流,同时泵浦飞秒OPA,从而获得飞秒受激拉曼光谱(FSRS)和和频发生(SFG)光谱等多功能光谱应用所需的全套光束。

  • TOPAS-PRIME 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:Light Conversion
    偏振: Vertical (Signal) Horizontal (Idler) 可调谐: 1160 – 1600 nm(信号光) 1600 – 2600 nm(闲频光) 脉冲宽度: (1 – 1.5)× pump pulse duration @ 1160 – 1550 nm < 2× pump pulse duration @ 1550 – 2600 nm

    TOPAS-PRIME是专为Ti:Sapphire激光器设计的准飞秒光参量放大器。 标准TOPAS-PRIME型号可接受高达3.5 mJ @ 20 - 70 fs的泵浦脉冲能量(高达4 mJ @ 70 - 200 fs),而TOPAS-PRIME-PLUS可接受更高的泵浦脉冲能量,高达6 mJ @ 70 - 200 fs。两种型号都有波长扩展选项,波长范围从189 nm到20 μm。

  • TOPAS-PRIME-HE 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:Light Conversion
    脉冲能量: 60 mJ

    TOPAS-PRIME-HE是一款高能飞秒光参量放大器,以TOPAS-PRIME为基础,增加了一个高能低色散放大级,允许使用高达60 mJ的泵浦脉冲能量,同时在输出端保持尽可能短的脉冲。 标准型号TOPAS-PRIME-HE可接受高达15 mJ @ 35 - 70 fs(高达27 mJ @ 100 - 200 fs)的泵浦脉冲能量,而TOPAS-PRIME-HE-PLUS可接受更高的泵浦脉冲能量,高达35 mJ @ 35 - 70 fs(高达60 mJ @ 100 - 200 fs)。60 mJ的泵浦脉冲能量可通过更长的脉冲实现,约150 fs。两种型号都有波长扩展选项,TOPAS-PRIME-HE的波长范围为189 nm至20 μm,TOPAS-PRIME-HE-PLUS的波长范围为240 nm至20 μm。

  • TOPAS-TWINS 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:Light Conversion
    偏振: Vertical (Signal) Horizontal (idler) 可调谐: 1160 – 1600 nm(信号光) 1600 – 2600 nm(闲频光) 能量稳定性: < 3% RMS deviation @ 1160 – 1550 nm 脉冲宽度: (1 – 1.5)× pump pulse duration @ 1160 – 1550 nm < 2× pump pulse duration @ 1550 – 2600 nm

    TOPAS-TWINS由两个独立可调的光参量放大器(OPA)组成,集成在一个外壳中。两台OPA共享相同的白光光源,为两路输出提供出色的稳定性,并在4.5 - 15 μm的调谐范围内提供CEP稳定的中红外脉冲。 两种OPA都有波长扩展选项,波长范围从240 nm到20 μm。每种OPA的输出规格与TOPAS-PRIME相同。最大泵浦脉冲能量取决于脉冲持续时间;详情请参见规格书。

  • TOPAS-SHBC-400 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:Light Conversion
    偏振: Vertical (Signal) Horizontal (Idler) 可调谐: 480 – 800nm(信号光) 800– 2400 nm(闲频光) 脉冲能量: 0.2 – 2.5 mJ 能量稳定性: < 6% RMS deviation @ 500 – 700 nm, 900 – 2000 nm 脉冲宽度: 20 – 200 fs

    TOPAS-SHBC-400结合了二次谐波带宽压缩器(SHBC)和光参量放大器(OPA),在光谱带宽为150 - 500 cm-1的飞秒脉冲泵浦下产生光谱带宽为3 - 20 cm-1的可调谐脉冲。该装置由飞秒Ti:Sapphire激光器的基谐波泵浦,波长范围为480-2400 nm。可选的混频器将调谐范围扩展至240 nm,最高可达10 μm。

  • TOPAS-PS-800 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:Light Conversion
    偏振: Vertical (Signal) Horizontal (Idler) 可调谐: 1160 – 2600 nm 脉冲能量: 0.2 – 5 mJ 脉冲宽度: (0.7 – 1) × pump pulse duration

    TOPAS-PS-800是一款皮秒光参量放大器,由皮秒Ti:Sapphire激光器的基谐波泵浦,波长范围从1160 nm到2600 nm。 可选的混频器将调谐范围扩展至235 nm,最高可达20 μm。

  • ORPHEUS-OPCPA 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:Light Conversion
    重复率: 1 kHz – 1 MHz 脉冲能量: 0.2 – 8 mJ 泵浦功率: 20 – 320 W

    得益于 PHAROS 和 CARBIDE 激光器的工业级稳定性和可靠性,ORPHEUS-OPCPA 在与我们的标准参量放大器一样紧凑的封装中提供少周期、CEP 稳定的脉冲。所有ORPHEUS OPCPA型号均采用相同的基本结构,可在800 nm、1600 nm、2000 nm和3000 nm四个中心波长之一产生CEP稳定的少周期脉冲。ORPHEUS-OPCPA可带脉冲压缩器或不带脉冲压缩器,因此可用作种子源,提供无背景脉冲,带宽接近单周期,具有出色的光谱相干性和CEP稳定性。 使用同步工业级CARBIDE或PHAROS激光器,泵浦功率可达320 W,泵浦脉冲能量可达8 mJ。可根据要求使用其他泵浦源来获得更高功率,例如薄盘激光器或innoslab激光器。

  • OPCPA-HE 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:Light Conversion
    重复率: 10 Hz – 1 kHz

    高能阿秒脉冲产生、固体目标高次谐波产生和激光电子加速等应用都受益于少周期脉冲持续时间和出色的脉冲对比度,同时需要多毫焦脉冲能量。我们强大的高能OPCPA系统可在千赫兹重复率下扩展到多TW峰值功率,同时保持几周期的脉冲持续时间。因此,它们能够满足苛刻的要求,同时提供这种规模的系统前所未有的稳定性和可靠性。 此外,无需复杂和有损的非线性脉冲清洗技术,即可获得> 10¹²的预脉冲对比度,同时在全天运行过程中保持< 250 mrad的CEP稳定性和< 1.5%的脉冲能量稳定性,使其成为一个坚固可靠的多TW系统。

  • CRONUS-3P 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:Light Conversion
    类型: Laser System 可调谐: Yes 工作模式: Pulsed Laser 应用行业: Scientific 超快激光: Femtosecond Lasers

    CRONUS-2P是一款飞秒激光器,提供瓦级三同步输出,具有高重复率、短脉冲持续时间和GDD控制,是非线性显微镜的终极光源。在标准配置中,两个独立的可调谐输出可单独或同时工作,分别覆盖680 - 960 nm和960 - 1300 nm,而第三个输出固定在1025 nm,可并行访问。因此,CRONUS-2P可用于在多个荧光探针、钙离子指示剂或锇蛋白的吸收最大值处同时激发它们,而二次和三次谐波发射(SHG和THG)可进行光谱偏移,以方便检测或共振增强。 两个可同时调谐的通道还可实现先进的相干反斯托克斯和受激拉曼散射(CARS和SRS)应用,包括双波段成像、更广泛的振动共振频率选择、恒差双光束调谐、共振增强等。

  • SOLSTIS PI 激光器模块和系统
    英国
    厂商:M Squared
    输出功率(CW): >5 W

    SolsTiS PI 是基于我们在工业半导体应用领域的传统而发展起来的,它将我们屡获殊荣的 SolsTiS 钛蓝宝石激光器与 Equinox 绿光泵浦激光器结合到一个单一的集成平台中,提供了前所未有的稳定性、紧凑性和易用性,同时保留了 SolsTiS 众所周知的连续波、超窄线宽和宽调谐架构的所有优点。

  • SOLSTIS DOUBLET 激光器模块和系统
    英国
    厂商:M Squared
    波长: 350-525 nm 偏振: Vertical ±3 degrees 光束发散度: <1.1 mrad full angle, FW @ 1/e^2 points 偏振比: >100:1 输出功率(CW): 0.2W-1.5W

    全自动、自对准、密封、大功率、连续波、SHG 腔体,能够在紫外和可见光波段快速精确地进行宽波长调谐和扫描,波长可达 150 纳米。

  • CAVILUX Smart UHS 激光器模块和系统
    芬兰
    厂商:Cavitar Ltd

    Cavitar 的 CAVILUX Smart UHS 是一种坚固耐用的脉冲二极管激光光源,具有极短的脉冲和极高的重复率。它非常适用于高达 10 MHz 的超高速相机。 CAVILUX Smart UHS 能够产生高达数百瓦的脉冲光功率,脉冲时间最短可达 10 毫微秒。通常情况下,光输出是单色的,相干性较低。这一特性使 CAVILUX Smart UHS 适用于照明目的,因为不会出现斑点或色差。

  • CAVILUX Smart 激光器模块和系统
    芬兰
    厂商:Cavitar Ltd

    CAVILUX Smart 是一种坚固耐用的多功能脉冲二极管激光光源。它非常适用于机器视觉和高速相机,既适用于工业领域,也适用于科学研发领域。 CAVILUX Smart 光源可产生数百瓦的脉冲光功率。光输出通常是单色的,相干性较低。这使得 CAVILUX Smart 适合用于照明目的,因为它不会产生斑点或色差。 CAVILUX Smart 还能产生脉冲串或随机脉冲,每个脉冲的长度和脉冲之间的延迟时间都可精确调节。

  • TLS VIS 激光器模块和系统
    加拿大
    厂商:Photon etc.
    工作温度: 10-40 Degree C 光束直径: 2-3 mm 电源: 100 - 240 V

    Photon 等公司的可调激光源 (TLS) 结合了超连续光源(宽带光)和广泛的激光线可调滤波器 (LLTF)。TLS 采用独特的光学滤波技术,具有卓越的带外抑制能力。这项技术对于开发尖端光谱技术中使用的可调谐激发光源至关重要,因为这些技术对光谱纯度要求极高。此外,这种多功能工具还是表征光学和光电设备光谱响应的理想工具。

  • XLR 900ix 激光器模块和系统
    美国
    厂商:Cymer
    波长: 193 nm 功率: 60-90 W

    XLR 900ix 引入了新的斑点减少技术,可将斑点对比度降低 30%,显著改善局部 CDU。它还提高了生产率,降低了拥有成本,使服务间隔时间延长了 25%,每年只需进行一次触摸。这得益于赛默公司经过现场测试的新型腔体和光学模块,这些模块已在 140 多套 XLR 系统中投入生产。该系统还采用了新的机器学习技术,通过减少校准和气体刷新事件来提高可用性,同时通过降低功耗和气体消耗来实现可持续发展。

  • XLR 700ix 激光器模块和系统
    美国
    厂商:Cymer
    波长: 193 nm 功率: 60-90 W

    基于 XLR 平台的循环环技术,700ix 在带宽、波长和能量稳定性方面都有所改进,为先进的芯片制造提供了更高的扫描仪吞吐量和工艺稳定性。 XLR 700ix 为芯片制造商提供了更严格的带宽控制(晶圆平均带宽为 300 +/- 5 fm),从根本上消除了带宽作为晶圆性能工艺变化源的问题。Cymer 的技术在逐个脉冲的基础上应用高速闭环控制,从而实现极其稳定的性能。

  • XLA 105 激光器模块和系统
    美国
    厂商:Cymer
    波长: 193 nm 功率: 45 W

    氩氦射线干式光刻技术在芯片制造过程中至关重要。ArF 干法光刻光源(如赛默公司的 XLA 105)可对晶片上的大量中间关键层进行图案化,同时延长模块寿命并加强关键尺寸 (CD) 控制。 随着 CD 的不断缩小,以及对最关键层更精细分辨率的需求,ArF 干光刻工具也开始对非关键层进行图案化,而这些非关键层历来是由 KrF 光源进行图案化的。赛默公司的干式光刻光源具有可靠性和成本效益,是大批量生产的理想选择。

  • GT65A 激光器模块和系统
    日本
    厂商:Gigaphoton
    波长: 193 nm 功率: ≥60 W

    GT65A作为采用注入锁定方式的第7代平台,引入了先进的技术,通过光谱带宽(E95)可变及稳定性提高实现的“曝光性能改善”、组件寿命延长实现的“高劳动效率”及无氦实现的“减轻环境负荷”,帮助客户进一步实现生产率(晶元输出)的提高。

  • GT66A 激光器模块和系统
    日本
    厂商:Gigaphoton
    波长: 193 nm 功率: 60-90 W

    先进产品制造目前仍继续应用摩尔定律,技术节点日益微细化。这些尖端产品对转印到晶圆上的曝光图案、特别是EPE(Edge Placement Error)具有很高的要求。作为光源通过降低直接影响EPE的CD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness),为提高批量生产现场的成品率提供帮助。 新型浸没式曝光光源“GT66A”通过新开发的光学模块成功地将散斑对比度降低30%,减少了LER/LWR。还通过引入新的高度耐用零件,将模块的维护周期延长30%。由此实现进一步改善工序成品率、提高光源的可用性,为尖端节点批量生产的高生产性提供帮助。

  • GT45A 激光器模块和系统
    日本
    厂商:Gigaphoton
    波长: 193 nm 功率: 45-90 W

    GT45A是一款基于先进的ArF浸没式光刻光源GT65A平台,具备高功能扩展性的机型。 通过搭载新型模块实现的“高运转率”、继承当前机型GT40A的“无氦气”技术,可以在提高生产率的同时,减轻环境负荷。 通过光谱宽度的稳定性改善、可变光谱技术、最高可达90W的高输出功率,满足客户的多样化需求。