CobriteDX1是一款多功能可调谐激光光源，通过易于使用的图形用户界面，使用任何PC的标准USB端口即可轻松设置。多个设备可以在一台PC上操作，即使对于高计数多通道应用也可以轻松控制。通过SCPI风格的命令进行远程操作控制，使用户能够在几分钟内设置和执行复杂的自动化任务，与我们的CobriteMX机箱系列100%兼容。设置完成后，CobritedX1将通过其内置的“设置忽略”功能，在较后一次设置时即使没有PC也能自主运行。保存较后状态功能允许恢复较后设置，包括电源循环后的开/关状态。

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CobriteDX4是一款多功能可调谐激光仪器，可通过本地显示器进行独立操作，无需安装复杂的软件。它使这个解决方案超级便携。机箱可配备1、2或4个可调激光器，以满足您的特定需求。SCPI命令控制使用户能够在几分钟内设置和执行复杂的自动化任务，与我们的CobriteMX机箱系列100%兼容。通过USB或以太网的远程操作很容易通过象形图形用户界面实现，该图形用户界面允许对所有相关参数进行控制。

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DX风冷紫外/绿光系列纳秒系列是较紧凑、较高效的风冷紫外和绿光二极管泵浦固态（DPSS）Q开关激光器。单芯片多功能一体（AIO）NS紫外和绿光激光器设计集成了较小基底面、较轻重量、较高平均功率、较短脉冲宽度等特性，可实现高峰值功率。所有这些与丰富的标准软件功能结合在一个单一的软件包中，满足了客户的需求，具有易于处理、高质量工艺优化、高产量、不打折扣的工艺质量和24/7应用的长期稳定性以及低拥有成本（COO）等优势。

Amptek很高兴提供我们改进的硅漂移探测器（SDD）系列，用于扫描电子显微镜（SEM）中的能量色散谱（EDS）。使用我们获得专利的C系列氮化硅（Si3N4）X射线窗口，我们的FAST SDD®的低能量响应可向下延伸至铍（Be）。具有高本征效率的快速SDD®适用于EDS，也称为能量色散X射线光谱（EDX或XEDS）和能量色散X射线分析（EDXA）或能量色散X射线微量分析（EDXMA）。

Rigaku NEX CG可对各种类型的样品中的主要和次要原子元素进行快速定性和定量测定-较低标准：非破坏性分析NA至non-U固体、液体、粉末和薄膜检测下限的极化激发峰重叠的新颖处理减少了误差使用Ultracarry的含水样品的ppb检测极限带EZ分析的简化用户界面用于迹级灵敏度的极化笛卡尔几何学与传统的EDXRF分析仪不同，NEX CG采用了独特的紧密耦合笛卡尔几何（CG）光学内核，大大提高了信噪比。通过使用二次目标激励代替传统的直接激励，进一步提高了灵敏度。由此产生的背景噪声的显著降低和元素峰值的同时增加，使得光谱仪即使在困难的样品类型中也能够进行常规痕量元素分析。新颖的软件减少了对标准的需求NEX CG由新的定性和定量分析软件RPF-SQX提供支持，该软件采用了Rigaku Profile Fitting（RPF）技术。该软件允许在没有标准品的情况下对几乎所有样品类型进行半定量分析，并使用标准品进行严格的定量分析。

作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造，无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中，NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力，包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育，以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制（QC）还是其更复杂的变体（如分析质量控制（AQC）、质量保证（QA）或六西格玛等统计过程控制），NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。

作为一款优质高性能、小型SPOT台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE VS通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体、浆料和RoHS材料。

Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光（EDXRF）为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术，Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析，适用于从铝（Al）到铀（thickness U）的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计，能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上，并配备有位于滚轮上方的线性横动机构，以使头-面距离恒定。需要时，可直接测量涂层的元素组成。相反，涂层重量（或涂层厚度）可以直接测量（其中元素的计数率与厚度成比例）或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量（其中计数率与厚度负相关）。长期以来，台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描，用于更严格的过程控制公差，将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材，以改变产品（如标签）或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少，或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域，则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响，或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害，从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮，则制造的辊的成本增加，降低了盈利能力，并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。

Rigaku NEX OL采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了液流和固定位置网络或线圈应用的工艺元素分析的下一次进化。NEX OL的设计涵盖了从重工业到食品级的过程测量解决方案，可配置用于分类和非分类领域。从铝（Al）到铀（₂U）的分析为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX QC高分辨率台式仪器。凭借这一成熟的技术，Rigaku NEX OL可对从铝（Al）到铀（U）的元素进行快速、无损的多元素分析——从百万分率（ppm）水平到高重量百分比（wt%）浓度。Rigaku NEX OL配备50 kV X射线管和SDD探测器，以及标准化、优化的管式过滤器套件，旨在解决广泛的过程控制应用。