800G【参数，厂家，图片，选型】-光电查

产品选型就用光电查

用于化合物半导体的AIX 2800G4-TM IC2沉积系统

德国
分类：材料类生产设备

厂商：AIXTRON SE

基底尺寸: 203.2 - 152.4 mm 工艺类型: Pulsed Laser Deposition (PLD)

AIX 2800G4-TM，用于基于GaAs/InP的光电子学和P-HEMT/HBT器件。

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