EOS系列高光谱成像仪采用了Photon ETC公司基于体布拉格光栅（VBG）的专利滤波技术。这项技术是高光谱成像的理想选择。微视场和宽视场平台都是为发光（光致发光或电致发光）和反射测量而设计的，并且可以适应宽带或单色光源。我们的过滤技术允许快速获取光谱分辨的高分辨率图像。基于色散光谱仪的推扫式（线扫描）系统一次采集一条线，而基于VBG的设备允许全局成像。这意味着使用基于VBG的技术，可以一次获取完整的单色图像，而不是逐行（或逐点）获取。由于相机捕获视场中的整个区域，因此可以实时收集光谱和空间信息，并可以记录光谱分辨的视频。V-EOS™在可见光谱上提供一系列单色图像，避免了繁琐的X-Y或线扫描。该系统通过提供光谱特征的大规模分布来进行前所未有的分析，无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化。我们的S-EOS™宽场高光谱成像仪集成了我们的新型Zephir相机，现在覆盖了高达2.5μm的短波红外光谱区域。该系统通过提供光谱特征的大规模分布，无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化，都可以进行前所未有的分析。Grand-EOS高光谱成像仪将高光谱显微镜系统与高光谱广域成像平台相结合，提供了VNIR（400-100 nm）和SWIR（900-2500 nm）光谱范围的微观和宏观模态。

光学GE窗口：为什么使用GE窗口？锗是一种用于制造的高指数材料用于光谱学的衰减全反射棱镜。它的折射指数表明锗使其有效自然50%分束器，无需涂层。锗（Ge）光学元件在许多地方使用红外（IR）应用程序或系统，包括热成像、光谱学或单色光源例如QuantumCascadelasers。德语（GE）光学元件光学元件设计用于高在红外（IR）光谱中的性能，而不使用红外（IR）防反射涂层锗（780）大约是镁的两倍氟化物，为需要的红外应用制造钛Ruggedoptics.锗易受热失控的影响，这意味着传输降低了温度增加。因此，应该使用GermaniumWindows温度低于100°C。锗的高密度（5.33g/cm3）在设计重量敏感系统时应予以考虑。Windows通常可用于各种尺寸，请联系美国的可用性。通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com联系我们|BZ-optical.com

消色差柱面透镜在设计和功能上与标准柱面透镜相似，但具有减少像平面上的球面像差和色差的附加优点。当与单色光源（如激光二极管）一起使用时，根据透镜的数值孔径，消色差柱面透镜将产生小50–90%的光斑。当与宽带光源一起使用时，镜头将较大限度地减少色差，产生具有较少颜色分离的聚焦线，或者将产生明亮的变形图像。正柱面透镜非常适合于只需要在一个维度上放大的应用。当球面透镜对称地聚焦入射光时，柱面透镜以相同的方式起作用，但仅在一个维度上起作用。典型的应用包括用激光二极管产生线，将发散光束聚焦到线性检测器阵列上，或者使用一对柱面透镜来准直和圆化激光二极管的输出。消色差柱面透镜是一种双合透镜，由粘合在一起的正低折射率（皇冠）元件和负高折射率（弗林特）元件组成。这两种材料被设计成协同工作以减少球面像差和色差。通过使用成对设计所提供的额外设计自由度允许性能的进一步优化。因此，与直径和焦距相当的单透镜相比，消色差透镜具有明显的优势。