GeolasBluebird系列激光器发射440nm的激光，专门设计用于取代浮雕全息图母版制作过程中的CW激光器。相干长度大于3米的SLM，峰值功率可达300kW，持续功率可达450MW，维护成本低。蓝知更鸟是HECD连续激光器的可靠替代品。由于只有50ns的激光脉冲持续时间，没有振动会影响您的全息图记录。此外，我们的较新研究表明，光刻胶对脉冲辐射比对连续波辐射更敏感，因此曝光相同的感光材料面积所需的功率要小得多。

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EVG101抗蚀剂处理系统在单室设计上执行R&D型工艺，与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101支持高达300 mm的晶圆，并可配置为旋涂或喷涂和显影。利用EVG先进的OmniSpray涂层技术，在3D结构晶片上实现了光致抗蚀剂或聚合物的共形层，用于互连技术。这确保了珍贵的高粘度光刻胶或聚合物的低材料消耗，同时改善了均匀性和光刻胶扩散选择。

我们专有的光刻工艺使用各种液体和干光刻胶薄膜，在尺寸从非常小到非常大的基板上以极高的分辨率定义图案。我们的添加光刻工艺通过将带正电的金属溅射到带负电的基底上来创建电路线，然后，如果需要，进行电镀以构建具有精确高度和宽度的导电迹线。您可以获得更一致的迹线定义、更薄且因此更灵活的电路（在需要的地方）以及更均匀的电路线（即，顶部和底部宽度相同）。

衍射光栅是衍射光谱器件中的色散元件。它是一种金属或透明材料的光学表面，是以某种方式沉积的一种或另一种沟槽，在相干光束上分割入射光波的前沿，并改变其振幅和相位。这些相干光束的干涉决定了所产生的辐射能量在空间中的分布和光栅的光谱特性。较近，在光谱设备中仅使用刻划衍射光栅，其凹槽在具有金刚石刀具的特殊机器的帮助下切割。这些光栅是以相等距离间隔的平行凹槽；横截面的形状由金刚石刀具的切削刃轮廓决定。凹槽的形式可能不同，但光栅元件——凹槽——以严格相等的间隔重复，称为光栅周期。较近，通过在光刻胶中形成激光辐射的干涉图案，开发了一种新的衍射光栅制造技术。这些被称为全息衍射光栅。如果光栅沉积在一个平面上，这样的光栅被称为平面。如果凹槽显示为凹球面，则这种凹面光栅。它们具有聚焦效应。在现代光谱设备中，平面衍射光栅和凹面衍射光栅都有使用，JSC在制造全息衍射光栅时使用了自己开发的独特的无机光刻胶。该光致抗蚀剂具有低的光散射水平和高的分辨率。基于使用这种光致抗蚀剂的技术允许产生具有各种形状和表面曲率的准正弦槽轮廓全息衍射光栅（其中一个轮廓在下图中）。目前，全息光栅正开展利用离子刻蚀技术获得预定三角形槽形和矩形槽形全息衍射光栅的研究。