• Ерсский Харский Харский 科学和工业相机
    界面: Other 通道数量: Up to 4

    Euresys Picolo是一款单视频数字转换器,低成本PCI采集卡,针对单摄像机应用进行了优化,PAL视频每秒25帧。超性能特性可增强安全应用或工业应用(如质量控制和生产监控)。

  • 用于ATLSXA212D的评估板 ATLS212EV1.0 半导体激光器配件

    ATLSXA212D是一系列高效率恒流激光驱动器,用于驱动一个或多个激光二极管阵列。它具有高可靠性,零EMI(电磁干扰),并采用小型DIP封装。激光驱动器系列包括ATLS1A212D、ATLS2A212D和ATLS3A212D。欲了解更多详情或报价电子邮件:yan.yan@analogti.com。

  • EVERESTnano 1 µm脉冲光纤激光器 激光器模块和系统
    美国
    波长: 1030nm 平均输出功率: 100W 脉宽: 1 - 5 ns 最大脉冲重复率: 500kHz

    EverestNano 1µm脉冲光纤激光器适用于激光打标、切割和烧蚀。它产生5ns的脉冲,平均功率高达100W,重复频率高达500kHz。1030nm自由空间输出光束的光束质量因子低于1.3

  • EVERESTnano 2μm脉冲光纤激光器 激光器模块和系统
    美国
    波长: 1950nm 平均输出功率: 5W 脉宽: 1 - 5 ns 最大脉冲重复率: 100kHz

    EverestNano 2µm脉冲光纤激光器适用于激光打标、切割和烧蚀。它产生5 ns脉冲,平均功率高达100 W,重复率高达500 kHz。在1950nm处的自由空间输出光束表现出低于1.3的光束质量因子

  • EVERESTnano绿色脉冲激光器 激光器模块和系统
    美国
    波长: 515nm 平均输出功率: 50W 脉宽: 1 - 5 ns 最大脉冲重复率: 500kHz

    埃弗里斯特纳米绿脉冲激光器适用于激光打标、切割和烧蚀。它产生5 ns脉冲,平均功率高达50 W,重复率高达500 kHz。在1030nm处的自由空间输出光束表现出低于1.2的光束质量因子

  • EVERESTpico 1 μm Picosecond Fiber Laser (AP-1030P) 激光器模块和系统
    美国
    波长: 1030nm 重复频率: 1MHz 输出功率: 100W 脉冲持续时间: 15000fs

    AdValue Photonics提供EverestPico 1μm皮秒光纤激光器(AP-1030P),不同型号可在准直自由空间光束中提供平均功率为15W、30W、60W或100W的50 PS脉冲,具有出色的光束质量。脉冲重复率可高达1MHz。

  • EVERESTpico绿色皮秒激光器(AP-515P)。 激光器模块和系统
    美国
    波长: 515nm 重复频率: 1MHz 输出功率: 30W 脉冲持续时间: 0.05fs

    EverestPico绿色皮秒激光器适用于各种材料的激光切割、钻孔和划线等应用。不同的型号可以提供平均功率高达30W的50ps脉冲和出色的光束质量。

  • EverGreen ² (70-200 mJ @ 532 nm) 激光器模块和系统
    法国
    厂商:Lumibird
    波长: 266 - 532nm 平均值功率: 39,9 - 79,8W 重复频率: 0.15 - 0.25 kHz 冷却: N/A

    Evergreen²是粒子成像测速应用的理想激光器,因为它具有精确重叠的光束,旨在较大限度地减少相关噪声。Evergreen²允许科学家专注于矢量场结果,而不是激光。TheEvergreen²是一款双532 nm激光系统,可选择脉冲能量和重复率:15 Hz时为70 MJ、145 MJ或200 MJ,25 Hz时为100 MJ。Lumibird还提供了一个版本,在266nm时为30mJ,重复率为15Hz。Evergreen²将两个激光器集成在一个坚固耐用的单块中,以保证完美的对准和均匀的光片。它永远不需要用户对齐。激光头电子设备将单块激光头无缝连接到通用电源。这使得用户校准成为过去。单头和单电源均采用坚固紧凑的封装,简化了您的实验。

  • EVG101高级抗蚀剂处理系统 光学类生产设备
    奥地利
    厂商:EV Group (EVG)
    印刷技术: Grayscale Lithography

    EVG101抗蚀剂处理系统在单室设计上执行R&D型工艺,与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101支持高达300 mm的晶圆,并可配置为旋涂或喷涂和显影。利用EVG先进的OmniSpray涂层技术,在3D结构晶片上实现了光致抗蚀剂或聚合物的共形层,用于互连技术。这确保了珍贵的高粘度光刻胶或聚合物的低材料消耗,同时改善了均匀性和光刻胶扩散选择。

  • EVK HELIOS EQ32 0.9-1.7µm高光谱成像系统 光谱仪
    奥地利
    分类:光谱仪
    成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: Custom 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: 900 - 1700 nm 光谱分辨率: <2.5 nm

    Helios EQ32高光谱成像系统是一种强大的分析工具,基于非接触和非破坏性的实时红外成像光谱。EVK Helios系统分析物体的化学性质,并区分彩色相机不可见的材料类型。内部处理引擎提供物料流的定性和定量信息,例如分析物浓度或材料成分。摄像机作为一个即插即用组件提供了完整的内部校准。Helios EQ32采用紧凑、坚固的不锈钢外壳,具有应力解耦光学机械结构。该系统针对实际工业环境进行了优化,可在整个指定温度范围内提供稳定的校准数据。

  • EVK HELIOS NIR G2-320 0.9-1.7µm高光谱成像系统 光谱仪
    奥地利
    分类:光谱仪
    成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: 900 nm 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: 900 - 1700 nm 光谱分辨率: Custom

    EVK Helios超光谱成像相机是一个强大的分类系统,基于非接触和非破坏性红外成像光谱。Helios NIR G2-320提供分类数据流,用于分析和监控在线和在线应用程序。由于太阳神系统分析物体的化学性质,并对彩色相机不可见的材料类型进行区分。内部分类引擎提供物料流的定性和定量信息。

  • Evolve 128 EMCCD 科学和工业相机
    美国
    传感器类型: EMCCD # 像素(宽度): 128 # 像素(高度): 128 像素大小: 24um 峰值量子效率: 97%

    Photometrics Evolve 128是一款先进的深冷背薄型EMCCD相机。多年的工程专业知识使光度学能够完善Evolve 128的每一个元素。Evolve 128为生命科学研究人员提供了世界上先进个专为EMCCD相机和低光生物成像应用设计的高级功能集。Evolve相机的每一项革命性功能都可以由相机用户通过软件控制轻松启用或禁用。这种复杂的功能增强了相机的定量特性,同时允许研究人员专注于获取与其工作相关的图像数据。

  • Evolve 512 Delta EMCCD 科学和工业相机
    美国
    传感器类型: EMCCD # 像素(宽度): 512 # 像素(高度): 512 像素大小: 16um 峰值量子效率: 97%

    NewPhotometrics Evolve 512 Delta是一款先进的深冷背薄型EMCCD相机。多年的工程专业知识使光度学能够完善Evolve 128的每一个元素。Evolve 128为生命科学研究人员提供了世界上先进个专为EMCCD相机和低光生物成像应用设计的高级功能集。Evolve相机的每一项革命性功能都可以由相机用户通过软件控制轻松启用或禁用。这种复杂的功能增强了相机的定量特性,同时允许研究人员专注于获取与其工作相关的图像数据。

  • Evolve 512 EMCCD 科学和工业相机
    美国
    传感器类型: EMCCD # 像素(宽度): 512 # 像素(高度): 512 像素大小: 16um 峰值量子效率: 97%

    Photometrics Evolve 512是一款先进的深冷背薄型EMCCD相机。多年的工程专业知识使Photometrics能够完善Evolve 512的每一个元素。Evolve 512为生命科学研究人员提供了世界上先进个专为EMCCD相机和低光生物成像应用设计的高级功能集。Evolve相机的每一项革命性功能都可以由相机用户通过软件控制轻松启用或禁用。这种复杂的功能增强了相机的定量特性,同时允许研究人员专注于获取与其工作相关的图像数据。

  • EX-5120红外碳氢化合物传感器 气体分析
    美国
    分类:气体分析
    厂商:ENMET
    化合物类型: Hydrogen, Methane, CO2 (Carbon Dioxide), CO (Carbon Monoxide) 检测技术: Not Specified

    EX-5120远程气体监测传感器变送器包含一个基于NDIR原理工作的传感器,用于监测碳氢化合物气体的浓度。它可以针对特定气体(如甲烷)进行校准,但也可以响应其他一些碳氢化合物气体,包括丙烷、丁烷等。该传感器具有用于温度补偿的集成半导体、耐用的钨丝红外光源、滤波器和双温度补偿热释电红外探测器。该传感器变送器可在厌氧环境和连续的碳氢化合物环境中工作。该装置提供长期稳定性,需要较少的维护。EX-5120传感器变送器采用24 VDC电源供电,具有三个LED报警点指示灯、4-20 mA输出和可选报警继电器板。该传感器变送器可连接到各种单通道和多通道Enmet控制器或基于计算机的仪器,如PLC、SCADA、BMS等。

  • excelliSCAN高级扫描头 激光器模块和系统
    德国
    厂商:SCANLAB AG

    Excelliscan扫描头为较苛刻的激光扫描要求设定了新标准。作为ScanLab 2D扫描系统,它们能够在工作平面中偏转和定位激光束。其突破性的ScanAhead控制技术实现了以前无法企及的动态性能和精度。这转化为生产力和加工精度的巨大收益。

  • 准分子激光系统 激光器模块和系统
    美国
    厂商:PhotoMachining
    波长: 351nm 空间分辨率: 1um 处理区: Not Specified 最大峰值功率: 1 - 100kW

    现在可以从其他几种不同的激光源获得UV光子,但是准分子激光器尽管有缺点,但仍然可以做其他激光器不能做的事情,并且在某些情况下(在近中心上有许多小孔),它们可以是经济的,因为它们使用掩模成像而不是单点钻孔。谐振腔配置产生对于近场成像理想的光束,并且激光束的高峰值功率允许在很少或没有热影响区的情况下烧蚀目标材料。193-351 nm光学波长范围允许在目标表面上生成高分辨率(~1µm)特征,浅吸收深度允许通过控制所施加的脉冲数量来严格控制特征深度。大的光束横截面可容纳用于近场成像的大成像掩模。光加工工程师在准分子激光合同制造和系统设计方面拥有丰富的经验。我们可以将定制配置与简单的成像集成,一直到多轴运动、复杂的光学系统和机器视觉。还可以通过净化光束传输将光学缩小2倍至30倍。准分子生产工具是完全封闭和联锁的,符合所有CDRH I类要求。集成气体柜确保气体管道的污染较小。所有准分子系统都使用光加工控制软件。我们设备齐全的准分子实验室使我们能够在系统设计和建造之前进行原理验证。通常使用工作频率高达200 Hz、平均功率为60 W的光机和相干准分子激光器KrF(248 nm),尽管更高功率的激光器可用于高通量应用。

  • 防爆型网络摄像机 DH-EPC230U 科学和工业相机
    中国大陆
    厂商:Dahua Technology
    传感器类型: CMOS # 像素(宽度): 1920 # 像素(高度): 1080 全帧速率: 30fps

    大华防爆相机系列采用强大的光学变焦镜头和坚固耐用的设计,符合ATEX和IECEx标准。该相机系列使用1/2.8英寸。带有30倍光学变焦镜头的StarVis™CMOS成像器,并为在关键环境中捕捉远距离视频监控提供一体化解决方案。这个Camera使用H.265视频压缩标准来提高编码效率,同时保留高质量视频。防爆不锈钢摄像机旨在防止点燃周围的气体或可燃性粉尘,是石油生产、管道、炼油、化工和粮食储存行业的理想监控解决方案。

  • 加长型高度桌8060 光学平台
    美国
    分类:光学平台
    厂商:Data Optics, Inc
    表格材料: Aluminum 孔型: 1/4inch holes separated by 1inch 工作台长度: 152.4mm 工作台宽度: 152.4mm 工作台厚度: 12.7mm

    8060扩展高度工作台为安装组件或组件提供了一个坚固的固定高度工作台。桌子为6英寸×6英寸,由0.50英寸厚的黑色阳极氧化铝工装板制成。顶板上有各种1⁄4-20螺纹孔,用于安装部件。底板有5个沉孔,可容纳1⁄4-20内六角螺钉,用于安装到光学台或试验板上。支撑杆为0.750不锈钢,可用于任何高度。如有要求,可提供其他工作台尺寸和孔型。

  • 极端多V线涂层633纳米 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 193 - 633 nm

    我们的V涂层提供了一些业内较高效的抗激光特性。它们被设计为在一个或多个离散线上提供低反射,或者作为宽带和离散波长的组合。在我们的标准生产中,我们有许多单波段、双波段和多波段AR涂层。微加工、光刻系统和各种医疗设备使用发射波长为193、248和360 nm的紫外激光器。此外,这些系统中的大多数都需要633nm的可见激光进行校准。通过针对四V涂层设计,我们消除了客户对三个独立UV窗口的需求。