• Nd:YAG激光线反射镜 051-6306 50.8mm 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7, Fused Silica, UV Fused Silica 波长范围: 633 - 1064 nm 入射角: 45deg 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig

    激光线反射镜设计为45°或0°入射角。具有高抛光质量、低散射和高损伤阈值的特点,使介质反射器能够为Nd:YAG激光器提供完美的光束控制。

  • Nd:YAG激光线反射镜 051-6306 76.2mm 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7, Fused Silica, UV Fused Silica 波长范围: 633 - 1064 nm 入射角: 45deg 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig

    激光线反射镜设计为45°或0°入射角。具有高抛光质量、低散射和高损伤阈值的特性,使介质反射器能够为Nd:YAG激光器提供完美的光束控制。

  • Nd:YAG激光线反射镜 051-6306-i0 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7, Fused Silica, UV Fused Silica 波长范围: 633 - 1064 nm 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig 反射率: 99.8%

    激光线反射镜设计为45°或0°入射角。具有高抛光质量、低散射和高损伤阈值的特性,使介质反射器能够为Nd:YAG激光器提供完美的光束控制。

  • Nd:YAG激光线反射镜 051-6306-i0 25.4mm 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7, Fused Silica, UV Fused Silica 波长范围: 633 - 1064 nm 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig 反射率: 99.8%

    激光线反射镜设计为45°或0°入射角。具有高抛光质量、低散射和高损伤阈值的特性,使介质反射器能够为Nd:YAG激光器提供完美的光束控制。

  • Nd:YAG激光线反射镜 051-6306-i0 50.8mm 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7, Fused Silica, UV Fused Silica 波长范围: 633 - 1064 nm 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig 反射率: 99.8%

    激光线反射镜设计为45°或0°入射角。具有高抛光质量、低散射和高损伤阈值的特性,使介质反射器能够为Nd:YAG激光器提供完美的光束控制。

  • Nd:YAG激光线反射镜 051-6306-i0 76.2mm 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7, Fused Silica, UV Fused Silica 波长范围: 633 - 1064 nm 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig 反射率: 99.8%

    激光线反射镜设计为45°或0°入射角。具有高抛光质量、低散射和高损伤阈值的特点,使介质反射器能够为Nd:YAG激光器提供完美的光束控制。

  • Nd:YAG激光线镜041-0530-i0 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7, Fused Silica, UV Fused Silica 波长范围: 527 - 532 nm 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig 反射率: 99.8%

    激光线反射镜设计为45°或0°入射角。具有高抛光质量、低散射和高损伤阈值的特性,使介质反射器能够为Nd:YAG激光器提供完美的光束控制。

  • Nd:YAG激光线反射镜042-1060HHR 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7, Fused Silica, UV Fused Silica 波长范围: 1047 - 1064 nm 入射角: 45deg 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig

    激光线反射镜设计为45°或0°入射角。具有高抛光质量、低散射和高损伤阈值的特性,使介质反射器能够为Nd:YAG激光器提供完美的光束控制。

  • Crytur的Nd:YAG棒 激光晶体
    捷克
    分类:激光晶体
    厂商:Crytur Ltd.
    水晶类型: Er:YAG 水晶直径: 12mm 水晶长度: 160mm AR 涂层: One side, Both sides

    Crytur使用Czochralski生长方法生长掺钕的钇铝石榴石(Nd:YAG)晶体。在晶体生长和生长后退火过程中使用的特殊保护气氛使我们的晶体具有非常好的激光效率。我们的生产线涵盖了晶体生长,机械加工和涂层技术。

  • CASTON的Nd:YAG棒、盘、板、棱镜 激光晶体
    中国大陆
    分类:激光晶体
    厂商:Caston Inc.
    水晶类型: Nd:YAG AR 涂层: Uncoated

    卡斯顿制造和供应多种形状、尺寸和客户规格的Nd:YAG产品,用于多功能激光源。主营产品:灯泵浦激光器的棒用于二极管泵浦激光器的圆盘用于稳定和/或高功率激光器的平板用于超稳定和/或环形激光器的棱镜

  • Crytur的Nd:YAP棒 激光晶体
    捷克
    分类:激光晶体
    厂商:Crytur Ltd.
    水晶类型: Other AR 涂层: One side, Both sides, Uncoated

    我们的Nd:YAP激光棒的标准生产包括Nd/Y的0.25%至1.1%的Nd掺杂浓度。具有0.7at.%Nd/Y的Nd:YAP激光棒通常用于CW,具有0.9at.%Nd/Y的Nd:YAP激光棒通常用于脉冲激光器,两者都具有“B”取向。1079nm的Nd:YAP的阈值和斜率效率与1064nm的Nd:YAG的阈值和斜率效率相当。沿“B”轴切割的杆适用于大多数应用。线性偏振、无热双折射和易于产生1.3µm波长是该材料的主要优点。与Nd:YAG的1319nm发射波长相比,Nd:YAP的1340nm发射波长在水和体液中具有更高的吸收。

  • Cryslaser的Nd:YLF晶体 激光晶体
    中国大陆
    分类:激光晶体
    厂商:Cryslaser Inc.
    水晶类型: Nd:YLF 水晶直径: 8mm 水晶长度: 120mm AR 涂层: One side, Both sides

    提拉法生长的Nd:YLF晶体具有弱的热透镜效应、相对较宽的荧光线宽和自然偏振振荡等优点,是一种优良的锁模晶体。高质量晶体生长起始材料的使用,整体晶体的干涉测量,以及He-Ne激光对晶体中散射颗粒的精确检测,保证了每一块晶体都能正常生长。

  • ND:YVO4 BY DeLn OPTICS 激光晶体
    水晶类型: Nd:YVO4 AR 涂层: One side, Both sides

    Nd:YVO4是目前商用较有前途的二极管泵浦固体激光材料之一。Nd∶YVO4晶体在激射波段具有大的受激发射截面,在泵浦波段具有高的吸收系数和宽的吸收带宽,高的激光损伤阈值,以及良好的物理、光学和机械性能,使其成为高功率、高稳定性、高性价比二极管泵浦固体激光器的理想工作晶体。Nd:YVO_4可以通过较小的不同设置产生红外绿光和蓝光激光。中心位于808nm的宽吸收带和良好的机械性能使Nd:YVO4非常适合用于紧凑、高效、高功率的二极管泵浦激光器。自然双折射在1064.3和1342nm产生高偏振输出。

  • HG Optronics的Nd:YVO4晶体 激光晶体
    中国大陆
    分类:激光晶体
    水晶类型: Nd:YVO4 水晶直径: 40mm 水晶长度: 60mm AR 涂层: Both sides

    Nd:YVO4是目前商用较有前途的二极管泵浦固体激光材料之一。它具有高的激光损伤阈值和良好的机械性能以及光学性能。其大的受激发射截面和对泵浦激光的高吸收使其成为小型激光器的合适晶体。Nd:YVO_4可以通过较小的不同设置产生红外绿光和蓝光激光。中心位于808nm的宽吸收带和良好的机械性能使Nd:YVO4非常适合用于紧凑、高效、高功率的二极管泵浦激光器。自然双折射在1064.3和1342nm处产生高偏振输出。

  • 光城的Nd:YVO4激光晶体 激光晶体
    美国
    分类:激光晶体
    厂商:OptoCity
    水晶类型: Nd:YVO4 水晶直径: 4mm 水晶长度: 18mm AR 涂层: One side, Both sides, Uncoated

    掺钕钒酸钇(Nd:YVO4-Nd:YVO4-YP)是目前二极管泵浦固体激光器中较有效的激光晶体之一。与Nd:YAG相比,Nd:YVO_4激光晶体具有对半导体激光器泵浦波长和温度控制的依赖性小、吸收带宽、斜率效率高、激射阈值低、线偏振发射和单模输出等优点。在要求紧凑设计和单频输出的应用中,Nd:YVO4与其他常用激光晶体相比具有独特的优势。二极管泵浦的Nd:YVO4小型激光器及其倍频的绿色、红色或蓝色激光已用于机械加工、材料处理、光谱学、晶片检测、光秀、医疗诊断、激光打印。

  • 近红外脉冲测量 脉冲诊断器件
    设备类型: FROG 可测量的脉冲宽度: 4 - 500 fs 波长范围: 700 - 1100 nm 输入极化: Any

    作为AFROG设备,Grenouille产生脉冲强度和相位。时间和频谱以及频谱具有很高的准确性和可靠性,不需要对脉冲进行任何假设。它测量的是实际脉冲,而不是相干性。此外,Grenouillealsome测量了光束的空间分布。更重要的是,它还同时产生了其他难以测量的时空失真,即空间啁啾和脉冲前倾斜,这在大多数超短脉冲中都会发生,但实际上大多数都从未测量过。Grenouille是先进一种商业上可用的设备,可以测量这些失真和较准确的脉冲前倾斜诊断。它也产生了近似的脉冲绝对波长。值得注意的是,GrenouilleneedsnoAlignment——永远!即使把它放在梁上也是非常容易的。Grenouilletellsyoumoreaboutyourpulse用比想象中更少的努力!重量只有1公斤,轻便小巧,AFootPrint比AFoot更小!

  • 扫描仪 光谱分析仪
    埃及
    分类:光谱分析仪
    厂商:Si-Ware Systems
    标准测量范围: 7407.41 - 4000.0 cm-1 最大分辨率: 625000.0cm-1

    NeoSpectra扫描仪是一种便携式和手持式光谱传感设备,可用于各种材料传感应用。该扫描仪能够在各种行业中开发现场材料分析应用。该扫描仪集成了NeoSpectra传感器,可在NIR(1,350–2,500 nm)的宽光谱范围内工作,提供较佳的材料鉴定和量化。

  • Newton DU920P CCD相机 科学和工业相机
    英国
    厂商:牛津仪器
    传感器类型: CCD # 像素(宽度): 1024 # 像素(高度): 255 像素大小: 26um 峰值量子效率: 95%

    这一高端USB2.0 Newton CCD系列将Andor的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却结合在一起,并辅以Andor的UltraVac™技术,该技术在科学和工业领域具有无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1,600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱(或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术!)的理想工具,例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素,用于较高UV至VIS分辨率光谱,而920系列及其26 X 26μm为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个>6.6 mm高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。

  • NEX DE能量色散型X射线荧光光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造,无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中,NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力,包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育,以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制(QC)还是其更复杂的变体(如分析质量控制(AQC)、质量保证(QA)或六西格玛等统计过程控制),NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。

  • NEX LS工艺能量色散型XRF(EDXRF)光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Chemical identification

    Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光(EDXRF)为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术,Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析,适用于从铝(Al)到铀(thickness U)的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计,能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上,并配备有位于滚轮上方的线性横动机构,以使头-面距离恒定。需要时,可直接测量涂层的元素组成。相反,涂层重量(或涂层厚度)可以直接测量(其中元素的计数率与厚度成比例)或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量(其中计数率与厚度负相关)。长期以来,台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描,用于更严格的过程控制公差,将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材,以改变产品(如标签)或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少,或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域,则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响,或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害,从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮,则制造的辊的成本增加,降低了盈利能力,并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。