• EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 -300-400nm 441-2308-M2Pd 偏振光学元件
    美国
    棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 300 - 400 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

    Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

  • EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 -300-400纳米 441-2310-M2Pd 偏振光学元件
    美国
    棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 300 - 400 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

    Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

  • EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 -300-400纳米 441-2315-M2Pd 偏振光学元件
    美国
    棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 300 - 400 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

    Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

  • EKSMA BK7 矩形薄膜激光偏振片 - 532nm 偏振光学元件
    美国
    基底材料: N-BK7 偏光材料: Not Available 形状: Rectangle 尺寸: 28.6mm 波长范围: 633 - 633 nm

    薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。

  • EKSMA BK7 矩形薄膜偏光片 - 1010-1050nm 偏振光学元件
    美国
    基底材料: N-BK7 偏光材料: Not Available 形状: Rectangle 尺寸: 28.6mm 波长范围: 1010 - 1050 nm

    薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。

  • EKSMA BK7 矩形薄膜偏光片 - 663nm 偏振光学元件
    美国
    基底材料: N-BK7 偏光材料: Not Available 形状: Rectangle 尺寸: 28.6mm 波长范围: 663 - 663 nm

    薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。

  • EKSMA BK7圆形薄膜偏光片 -780-820nm 420-0526 偏振光学元件
    美国
    基底材料: N-BK7 偏光材料: Not Available 形状: Round 尺寸: 25mm 波长范围: 780 - 820 nm

    薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。

  • EKSMA - 紧凑型翻译台 860-0010 手动台
    美国
    分类:手动台
    旅行范围: 13mm 负载能力: 3kg

    860-0010型紧凑型平移台非常适合需要在小空间内进行线性运动的实验室实验中的定位应用。滚珠轴承滚动之间的硬化,抛光钢棒提供平稳,准确的平移平台的乘坐。860-0010型载物台设计用于堆叠X-Y运动。垂直运动也可以使用810-0100型角括号添加。860-0010型载物台提供13 mm行程,分辨率为5µm,较大3公斤的装载能力。较大直线度仅为±6µm。型号860-0010配有钢制螺钉M6×0.5mm和外螺纹为M10×1mm的黄铜轴环,用于安装。此外,型号860-0010-02配有型号870-0010精密螺钉。860-0010-04选件配有带读数标记的870-0020型千分尺螺钉。

  • EKSMA交叉偏振光发电晶体 - BaF2 - 540-7110系列 晶体
    美国
    分类:晶体
    水晶类型: BaF2 传输范围: 0.135 - 15 um 高度: 10mm 宽度: 10mm 厚度: 1mm

    交叉极化波(XPW)的产生是一个非线性的三阶过程,在此过程中基波和产生的波具有相同的频率。然而,所产生的波与泵浦波偏振垂直偏振。在XPW产生过程中,相位匹配发生在大带宽上。这意味着基波和XPW具有相同的相速度和群速度。交叉偏振波(XPW)的产生过程是由晶体的三阶非线性和张量的各向异性驱动的。用于产生交叉偏振波(XPW)的典型光学材料是具有Z([001])或全息([011])晶体取向的氟化钡(BaF2)晶体。理论预测,当使用[011]切割的BaF2晶体时,较大XPW能量转换效率约为35%,伴随的脉冲缩短因子为√3,对应于纯三阶非线性过程。

  • EKSMA交叉偏振光发电晶体 - BaF2 - 540-7120系列 晶体
    美国
    分类:晶体
    水晶类型: BaF2 传输范围: 0.135 - 15 um 高度: 10mm 宽度: 10mm 厚度: 2mm

    交叉极化波(XPW)的产生是一个非线性的三阶过程,在此过程中基波和产生的波具有相同的频率。然而,所产生的波与泵浦波偏振垂直偏振。在XPW产生过程中,相位匹配发生在大带宽上。这意味着基波和XPW具有相同的相速度和群速度。交叉偏振波(XPW)的产生过程是由晶体的三阶非线性和张量的各向异性驱动的。用于产生交叉偏振波(XPW)的典型光学材料是具有Z([001])或全息([011])晶体取向的氟化钡(BaF2)晶体。理论预测,当使用[011]切割的BaF2晶体时,较大XPW能量转换效率约为35%,伴随的脉冲缩短因子为√3,对应于纯三阶非线性过程。

  • EKSMA高透光率薄膜偏光片 - 1064nm 偏振光学元件
    美国
    基底材料: Fused Silica, UVFS 偏光材料: Not Available 形状: Round 尺寸: 25.4mm 波长范围: 1064 - 1064 nm

    薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。

  • EKSMA高透光率薄膜偏光片 - 355nm 420-1252HT 偏振光学元件
    美国
    基底材料: Fused Silica, UVFS 偏光材料: Not Available 形状: Round 尺寸: 25.4mm 波长范围: 355 - 355 nm

    薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但是偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。

  • EKSMA 红外线非线性晶体GaSe - 100 晶体
    美国
    分类:晶体
    水晶类型: GaSe 相位测量类型: Type I, Type II 安装: Unmounted 平整度: Not Available 表面质量: Not Available

    GaSe在0.65和18μm处有带边,已成功地用于Co_2激光的有效倍频,脉冲Co_2和化学DF激光(λ=2.36μm)辐射的倍频;Co和CO2激光辐射到可见范围的上转换;通过钕和红外染料激光或(f)-中心激光脉冲的差频混合产生红外脉冲;OPG光产生在3.5–18μm范围内;100–1600μm范围内的高效太赫兹产生。由于材料结构(沿(001)面劈裂)限制了应用领域,因此不可能切割特定相位匹配角度的晶体。

  • EKSMA红外非线性AgGaS2晶体 AGS - 402H 晶体
    美国
    分类:晶体
    水晶类型: AgGaS2 (Silver Gallium Sulfide) 相位测量类型: Type I 安装: Unmounted 宽度: 6mm 高度: 6mm

    AgGaS2在0.53~12μm范围内透明。虽然非线性光学系数在上述红外晶体中是较低的,但其在550nm处的高短波长透过率边缘被用于Nd:YAG激光泵浦的OPO中;使用二极管、钛宝石、Nd:YAG和红外染料激光器的大量差频混频实验覆盖3–12μm范围;直接红外对抗系统与CO2激光的二次谐波

  • EKSMA - 激光线镜 - AOI-45 - 032-0400 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7 波长范围: 380 - 420 nm 入射角: 45deg 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig

    EKSMA为广泛的应用和波长提供激光线反射镜。激光线反射镜是电介质反射器,在规定的波长下提供优化的性能。高的抛光质量对于低的波前畸变、低的散射和高的损伤阈值是重要的。反射镜设计为在45°或0°下工作。更多信息,请访问我们的网站:http://eksmaoptics.com/optical-components/dielectric-mirrors/。

  • EKSMA - 激光线镜 - AOI-45 - 032-0800 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7 波长范围: 760 - 840 nm 入射角: 45deg 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig

    EksmaOptics为广泛的应用和波长提供激光线反射镜。激光线反射镜是电介质反射器,在规定的波长下提供优化的性能。高的抛光质量对于低的波前畸变、低的散射和高的损伤阈值是重要的。反射镜设计为在45°或0°下工作。更多信息,请访问我们的网站:http://eksmaoptics.com/optical-components/dielectric-mirrors/。

  • EKSMA - 激光线镜s- AOI-45 - 042-1030 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: UV Fused Silica 波长范围: 1000 - 1060 nm 入射角: 45deg 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig

    EksmaOptics为广泛的应用和波长提供激光线反射镜。激光线反射镜是电介质反射器,在规定的波长下提供优化的性能。高的抛光质量对于低的波前畸变、低的散射和高的损伤阈值是重要的。反射镜设计为在45°或0°下工作。更多信息,请访问我们的网站:http://eksmaoptics.com/optical-components/dielectric-mirrors/。

  • EKSMA - 激光线镜 - 紫外线熔融石英 - 041-0343 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: UV Fused Silica 波长范围: 333 - 353 nm 入射角: 45deg 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig

    EksmaOptics为广泛的应用和波长提供激光线反射镜。激光线反射镜是电介质反射器,在规定的波长下提供优化的性能。高的抛光质量对于低的波前畸变、低的散射和高的损伤阈值是重要的。反射镜设计为在45°或0°下工作。更多信息,请访问我们的网站:http://eksmaoptics.com/optical-components/dielectric-mirrors/。

  • EKSMA - 激光线镜 - 032-0630-i0 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: BK7 波长范围: 633 - 670 nm 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig 反射率: 99%

    EksmaOptics(www.eksmaoptics.com)为广泛的应用和波长提供激光线反射镜。激光线反射镜是电介质反射器,在规定的波长下提供优化的性能。高的抛光质量对于低的波前畸变、低的散射和高的损伤阈值是重要的。反射镜设计为在45°或0°下工作。更多信息,请访问我们的网站:http://eksmaoptics.com/optical-components/dielectric-mirrors/。

  • EKSMA - 激光线镜 - 042-0260 光学反射镜
    美国
    分类:光学反射镜
    基底材料: UV Fused Silica 波长范围: 262 - 266 nm 入射角: 45deg 平整度: lambda/10 表面质量: 20-10 scratch-dig

    EKSMA为广泛的应用和波长提供激光线反射镜。激光线反射镜是电介质反射器,在规定的波长下提供优化的性能。高的抛光质量对于低的波前畸变、低的散射和高的损伤阈值是重要的。反射镜设计为在45°或0°下工作。更多信息,请访问我们的网站:http://eksmaoptics.com/optical-components/dielectric-mirrors/。