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直径: 6.51mm 材料: H-LAK54 有效焦距: 7.50mm 数值孔径: 0.30 波长范围: 350 - 2000 nm
传统上,透镜表面是球面的一部分。对于许多应用,这使得球面像差成为如此产生的任何图像的主要缺陷,使用非球面透镜来校正这些图像缺陷,对此的一种解决方案是具有一个或两个表面,偏离球面形状。非球面透镜可以非常有效地聚焦或准直激光束。非球面透镜被抛光到良好的表面光洁度,但表面不是球形的,并且被成形以减少来自单个轴上点的像差。这些精密级非球面透镜将在可见光谱和近红外应用中提供出色的性能。玻璃非球面透镜在高折射率火石玻璃上涂有单层AR涂层,在规定波长下实现98%的高透射率(典型的V涂层设计为550nm)。
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直径: 9.94mm 材料: D-LaK6 有效焦距: 8.00mm 数值孔径: 0.50 波长范围: 350 - 2000 nm
传统上,透镜表面是球面的一部分。对于许多应用,这使得球面像差成为如此产生的任何图像的主要缺陷,使用非球面透镜来校正这些图像缺陷,对此的一种解决方案是具有一个或两个表面,偏离球面形状。非球面透镜可以非常有效地聚焦或准直激光束。非球面透镜被抛光到良好的表面光洁度,但表面不是球形的,并且被成形以减少来自单个轴上点的像差。这些精密级非球面透镜将在可见光谱和近红外应用中提供出色的性能。玻璃非球面透镜在高折射率火石玻璃上涂有单层AR涂层,在规定的波长下实现98%的高透射率(典型的V涂层设计为550nm)。
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直径: 7.20mm 材料: H-LAK54 有效焦距: 9.64mm 数值孔径: 0.30 波长范围: 350 - 2000 nm
传统上,透镜表面是球面的一部分。对于许多应用,这使得球面像差成为如此产生的任何图像的主要缺陷,使用非球面透镜来校正这些图像缺陷,对此的一种解决方案是具有一个或两个表面,偏离球面形状。非球面透镜可以非常有效地聚焦或准直激光束。非球面透镜被抛光到良好的表面光洁度,但表面不是球形的,并且被成形以减少来自单个轴上点的像差。这些精密级非球面透镜将在可见光谱和近红外应用中提供出色的性能。玻璃非球面透镜在高折射率火石玻璃上涂有单层AR涂层,在规定的波长下实现98%的高透射率(典型的V涂层设计为550nm)。
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直径: 6.50mm 材料: H-LAK54 有效焦距: 15.29mm 数值孔径: 0.16 波长范围: 350 - 2000 nm
传统上,透镜表面是球面的一部分。对于许多应用,这使得球面像差成为如此产生的任何图像的主要缺陷,使用非球面透镜来校正这些图像缺陷,对此的一种解决方案是具有一个或两个表面,偏离球面形状。非球面透镜可以非常有效地聚焦或准直激光束。非球面透镜被抛光到良好的表面光洁度,但表面不是球形的,并且被成形以减少来自单个轴上点的像差。这些精密级非球面透镜将在可见光谱和近红外应用中提供出色的性能。玻璃非球面透镜在高折射率火石玻璃上涂有单层AR涂层,在规定波长下实现98%的高透射率(典型的V涂层设计为550nm)。
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直径: 6.50mm 材料: H-LAK54 有效焦距: 18.40mm 数值孔径: 0.15 波长范围: 350 - 2000 nm
传统上,透镜表面是球面的一部分。对于许多应用,这使得球面像差成为如此产生的任何图像的主要缺陷,使用非球面透镜来校正这些图像缺陷,对此的一种解决方案是具有一个或两个表面,偏离球面形状。非球面透镜可以非常有效地聚焦或准直激光束。非球面透镜被抛光到良好的表面光洁度,但表面不是球形的,并且被成形以减少来自单个轴上点的像差。这些精密级非球面透镜将在可见光谱和近红外应用中提供出色的性能。玻璃非球面透镜在高折射率火石玻璃上涂有单层AR涂层,在规定的波长下实现98%的高透射率(典型的V涂层设计为550nm)。
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印刷技术: Grayscale Lithography 最小 XY 特征尺寸: 1000nm
LithoScale系统采用EV Group的MLE™无掩模曝光技术,通过结合强大的数字处理功能,实现实时数据传输和即时曝光、高结构分辨率和吞吐量可扩展性,从而解决传统瓶颈问题。其无掩模方法消除了与掩模相关的耗材,而带有可调固态激光源的曝光系统设计具有高冗余度和长寿命稳定性,并具有独特的自动校准功能,无需维护。强大的实时数字处理功能可实现从设计文件到基板的即时曝光,从而避免每个数字掩模布局的数小时转换时间。LithoScale具有整个基板表面的高分辨率(<2µm L/s)、动态芯片级可寻址曝光,可实现灵活的无耗材处理和低拥有成本(COO)。LithoScale系统集成了全晶圆顶部和背面对准,利用具有可见近红外功能的专用物镜和专有卡盘设计,可适应高达300 mm的晶圆尺寸。该系统具有自动聚焦的动态对准模式,以适应基板材料和表面变化。精细控制聚焦水平位置的能力保持侧壁陡峭以及抗蚀剂的期望3D轮廓,同时防止边缘顶部和底部。大工作距离和自动自适应聚焦确保整个曝光表面的图案均匀性。它还提供个性化的模具加工,同时快速全场定位和动态对准可实现各种基板尺寸和形状的高可扩展性。
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相机类型: Industrial, Scientific, Military 阵列类型: InGaAs 光谱带: 0.9 - 1.7 um # 像素(高度): 320 # 像素(宽度): 256
Sensors Unlimited Micro-SWIR 320CSX相机采用320x256像素、高灵敏度、稳定的InGaAs快照成像器,并利用Sensors Unlimited的图像增强算法在所有光照条件下生成较高质量的图像。该相机在短波红外(SWIR)波长光谱中提供实时日光到微光成像,用于包括工业过程监控、增强视觉和持续监视在内的一系列应用。板载自动增益控制(AGC)可在白天和夜间成像场景中优化相机的图像。Camera Link®数字输出可提供即插即用视频和12位图像,用于数字图像处理或传输。模块化输出允许额外的行业标准接口。重量轻、体积小、功耗低,非常适合集成到工业过程监控应用中。可选的NIR/SWIR技术可将传感器的灵敏度扩展到0.9μm以下,提供近红外(NIR)和短波红外波长响应的优势。
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相机类型: Industrial, Scientific, Military 阵列类型: InGaAs 光谱带: 0.9 - 1.7 um # 像素(高度): 640 # 像素(宽度): 512
Sensors Unlimited Micro-SWIR 640CSX相机采用640x512像素、高灵敏度、稳定的InGaAs快照成像器,并利用Sensors Unlimited的高级图像增强算法在所有光照条件下生成较高质量的图像。该相机在短波红外(SWIR)波长光谱中提供实时日光到微光成像,用于包括工业过程监控、增强视觉和持续监视在内的一系列应用。板载自动增益控制(AGC)可优化摄像机在白天和夜间成像场景中的动态响应。Camera Link®数字输出为即插即用视频提供12位数字图像输出。重量轻、体积小、功耗低,非常适合集成到商业系统和工业过程监控应用中。可选的NIR/SWIR技术可将640CSX的灵敏度扩展到0.9μm以下,提供近红外(NIR)和短波红外波长响应的优势。
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相机类型: Industrial, Scientific, Security 阵列类型: InGaAs 光谱带: 0.9 - 1.7 um # 像素(高度): 640 # 像素(宽度): 512
紧凑型传感器Unlimited Micro-SwirTM 640CSX是下一代短波红外摄像机,专为需要小尺寸、重量和功率(SWAP)的应用而设计,并且不受ITAR限制。它采用640 X 512像素、高灵敏度、稳定的InGaAs快照成像仪,并使用我们先进的图像增强算法,在所有照明条件下产生较高质量的图像。该相机在短波红外(SWIR)波长光谱中提供实时日光到低光成像,适用于一系列应用,包括工业过程监控、增强视觉和持续监控。板载自动增益控制(AGC)可优化摄像机在白天和夜间成像场景中的动态响应。Camera Link®数字输出提供即插即用视频和12位数字图像输出。重量轻、体积小、功耗低,非常适合集成到商业系统和工业过程监控应用中。可选的NIR/SWIR技术可将640CSX的灵敏度扩展到0.9μm以下,提供近红外(NIR)和短波红外波长响应的优势。
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传感器类型: CCD # 像素(宽度): 1360 # 像素(高度): 1024 像素大小: 6.45um 峰值量子效率: 60%
长期以来,Proline、Microline和Hyperion相机为科学CCD成像设定了性价比标准。ProLines提供双数字化通道,可在低速和高速下实现较低噪声。它们还为我们的配件(如滤光轮和调焦器)提供电源和USB。微线相机体积小,重量轻,但在冷却,噪音,帧质量和数字化位深度方面具有非凡的性能。MicroLines和Hyperions在不同形状的外壳中共享电子设备,以满足客户的间距要求。高量子效率和极低的读取噪声使MLX285的灵敏度从可见光到近红外低至微勒克斯。