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基底材料: N-BK7 偏光材料: Not Available 形状: Round 尺寸: 50mm 波长范围: 515 - 515 nm
薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在40°入射角下使用,但偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP 99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。
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最大尺寸: 5.0mm 厚度: 2.0-5.0mm 基质: UV Fused Silica 波长范围: 170 - 300 nm
eSource Optics宽带VUV至UV光学分束器(BBVUVB)是金属VUV至UV宽带分束器光学涂层,设计用于在170nm至300nm VUV-UV波长范围内提供40%至50%的平均反射率和透射率(45度入射角(Aoi)无偏振)。eSource Optics宽带VUV到UV光学分束器(BBVUVB)可提供标准25.4mm和50.8mm直径。其他尺寸可根据要求提供。eSource Optics宽带VUV到UV光学分束器(BBUVB)是金属-电介质-金属(MDM)设计的薄膜涂层,作为未安装和开面VUV-UV分束器提供。开面宽带真空紫外到紫外光学分束器(BBUVB)是使用高纯度紫外级熔融石英衬底制造的,用于真空紫外到紫外波长170nm到300nm。所有VUV至UV光学分束器(BBVUVBS)基板均高度抛光至A=40-20划痕表面质量,平行度小于5弧分。
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最大尺寸: 5.0mm 厚度: 2.0-5.0mm 基质: UV Fused Silica 波长范围: 170 - 300 nm
eSource Optics宽带VUV至UV光学分束器(BBVUVB)是金属VUV至UV宽带分束器光学涂层,设计用于在170nm至300nm VUV-UV波长范围内提供40%至50%的平均反射率和透射率(45度入射角(Aoi)无偏振)。eSource Optics宽带VUV到UV光学分束器(BBVUVB)可提供标准25.4mm和50.8mm直径。其他尺寸可根据要求提供。eSource Optics宽带VUV到UV光学分束器(BBUVB)是金属-电介质-金属(MDM)设计的薄膜涂层,作为未安装和开面VUV-UV分束器提供。开面宽带真空紫外到紫外光学分束器(BBUVB)是使用高纯度紫外级熔融石英衬底制造的,用于真空紫外到紫外波长170nm到300nm。所有VUV至UV光学分束器(BBVUVBS)基板均高度抛光至A=40-20划痕表面质量,平行度小于5弧分。
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最大尺寸: 5.0mm 厚度: 2.0-5.0mm 基质: UV Fused Silica 波长范围: 170 - 300 nm
eSource Optics宽带VUV至UV光学分束器(BBVUVB)是金属VUV至UV宽带分束器光学涂层,设计用于在170nm至300nm VUV-UV波长范围内提供40%至50%的平均反射率和透射率(45度入射角(Aoi)无偏振)。eSource Optics宽带VUV到UV光学分束器(BBVUVB)可提供标准25.4mm和50.8mm直径。其他尺寸可根据要求提供。eSource Optics宽带VUV到UV光学分束器(BBUVB)是金属-电介质-金属(MDM)设计的薄膜涂层,作为未安装和开面VUV-UV分束器提供。开面宽带真空紫外到紫外光学分束器(BBUVB)使用高纯度紫外级熔融石英基板制造,用于真空紫外到紫外波长170nm到300nm。所有VUV至UV光学分束器(BBVUVBS)基板均高度抛光至A=40-20划痕表面质量,平行度小于5弧分。
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波长: 1555nm 输出功率: 15W 光束质量: 1.1 运行模式: Continuous Wave (CW)
Keopsys Cefl-Kilo系列激光器具有无与伦比的窄谱线宽度(低至1 kHz),专为需要高精度的应用而设计,如激光雷达、原子光谱、原子冷却等。CeFL-Kilo系列是掺铒光纤激光器,具有低相位噪声和低相对强度噪声。该系统集成了一个超低噪声和窄线宽的种子激光器,然后通过我们的掺铒光纤放大器将其放大到15W。这些连续激光器具有线性或随机偏振。对于中心发射线是关键的应用,Cefl-Kilo提供了通过改变温度来调制中心发射线和调节波长的可能性。CEFL-KILO受益于Keopsys VSP技术:可靠性、坚固性和免维护。CEFL-KILO系列可在工作台上使用我们的B2V2程序进行正面控制或PC监控(RS232),也可在模块中轻松集成。
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成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL) 激发波长: Not Available 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: 400 - 700 nm, 500 - 1100 nm, Custom 光谱分辨率: Not Applicable
CHAI V-640是需要超小型、轻型、高性能高光谱成像仪的应用的优选仪器。V-640集成了全耗尽背照式CMOS图像传感器和强大的Dyson光谱仪,以实现高灵敏度的出色图像质量。V-640外形尺寸适用于多单元排列,包括并排、前视角和后视角以及不同的偏振。