窄扫描脉冲染料激光器系列基于一种新的谐振器设计，具有非常窄的线宽（<0.04 cm-1），激光专家多年来已对其设计和规格进行了优化，现在可用于短至4 ns的泵浦激光脉冲。该激光器具有非常坚固的中板和侧板，确保振荡器和前置放大器具有非常高的稳定性。

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Yb：KGW是较有前途的激光活性材料之一。Yb离子简单的二能级电子结构避免了上转换、激发态吸收和浓度猝灭等不必要的损耗过程。与常用的Nd：YAG晶体相比，Yb：KGW晶体具有更大的吸收带宽，在同类介质中的发射寿命是Nd：YAG晶体的3~4倍，更大的存储容量和更低的量子亏损。它比传统的Nd掺杂系统更适合二极管泵浦。斯托克斯位移越小，加热越少，激光效率越高。与其他掺镱激光晶体如Yb：YAG和Yb：YCOB相比，Yb：KGW具有较高的吸收截面（13-17倍）、较低的量子亏损（~4%）、较高的发射截面、较宽的发射带、高的非线性折射率和较高的斜率效率（87%）。Yb：KGW晶体具有这些性能优势，有望在高功率二极管泵浦激光系统中取代Nd：YAG和Yb：YAG晶体。Yb：KGW在制造高功率、短脉冲飞秒激光器及其广泛应用方面也具有巨大的前景。联系我们@crylink

Nd：YAP的化学式为Nd3+：YAlO3，结构为畸变钙钛矿，属于斜六方晶系，空间群为Pbnm，a、B、C轴相互垂直，属于负单轴晶体，具有各向异性。在众多的掺钕激光晶体中，Nd：YAP晶体不仅具有较高的热导率，而且在4F3/2–4I13/2跃迁处具有较大的受激发射截面。它们是目前已知的用于1.3mm高功率运转的较有效的激光晶体之一，该晶体主要由LD泵浦。1.3mm激光器广泛应用于医学、光纤通信和军事领域。更重要的是，水分子在这个激光波段有很好的吸收。这使得它具有很好的止血能力，并广泛应用于激光治疗中，如止血、神经外科手术、切除病变组织和除皱等。此外，Nd：YAP晶体具有天然的双折射特性，对克服激光的热退偏和非线性频率变换非常有利。联系我们@crylink

高损伤阈值晶体采用高光电技术。我们做定制工作，以满足客户的需求。可以制造各种尺寸的非线性晶体。这些Nd：YAG晶体在基波TEM00模式下工作良好。

Crytur使用Czochralski生长方法生长掺钕的钇铝石榴石（Nd：YAG）晶体。在晶体生长和生长后退火过程中使用的特殊保护气氛使我们的晶体具有非常好的激光效率。我们的生产线涵盖了晶体生长，机械加工和涂层技术。

Nd：YVO4是目前商用较有前途的二极管泵浦固体激光材料之一。Nd∶YVO4晶体在激射波段具有大的受激发射截面，在泵浦波段具有高的吸收系数和宽的吸收带宽，高的激光损伤阈值，以及良好的物理、光学和机械性能，使其成为高功率、高稳定性、高性价比二极管泵浦固体激光器的理想工作晶体。Nd：YVO_4可以通过较小的不同设置产生红外绿光和蓝光激光。中心位于808nm的宽吸收带和良好的机械性能使Nd：YVO4非常适合用于紧凑、高效、高功率的二极管泵浦激光器。自然双折射在1064.3和1342nm产生高偏振输出。

Nd：YVO4是目前商用较有前途的二极管泵浦固体激光材料之一。它具有高的激光损伤阈值和良好的机械性能以及光学性能。其大的受激发射截面和对泵浦激光的高吸收使其成为小型激光器的合适晶体。Nd：YVO_4可以通过较小的不同设置产生红外绿光和蓝光激光。中心位于808nm的宽吸收带和良好的机械性能使Nd：YVO4非常适合用于紧凑、高效、高功率的二极管泵浦激光器。自然双折射在1064.3和1342nm处产生高偏振输出。

Nd：YVO_4晶体具有高增益、低阈值和高吸收的特点，这主要是由于Nd：YVO_4的吸收和发射特性优于二极管泵浦的Nd：YAG晶体，是目前商用激光晶体中较受欢迎的二极管泵浦激光晶体。Nd：YVO4晶体已经与高非线性光学系数晶体（LBO、BBO或KTP）结合，以将输出从近红外频移到绿、蓝甚至紫外。

作为AFROG设备，Grenouille产生脉冲强度和相位。时间和频谱以及频谱具有很高的准确性和可靠性，不需要对脉冲进行任何假设。它测量的是实际脉冲，而不是相干性。此外，Grenouillealsome测量了光束的空间分布。更重要的是，它还同时产生了其他难以测量的时空失真，即空间啁啾和脉冲前倾斜，这在大多数超短脉冲中都会发生，但实际上大多数都从未测量过。Grenouille是先进一种商业上可用的设备，可以测量这些失真和较准确的脉冲前倾斜诊断。它也产生了近似的脉冲绝对波长。值得注意的是，GrenouilleneedsnoAlignment——永远！即使把它放在梁上也是非常容易的。Grenouilletellsyoumoreaboutyourpulse用比想象中更少的努力！重量只有1公斤，轻便小巧，AFootPrint比AFoot更小！

使用Bitflow的Neon-CLB简化您的工业、医疗或半导体成像应用，这是较易于使用且较可靠的Base/POCL Camera Link图像采集卡，可在任何地方使用。Neon-CLB以相机的较高帧/数据速率捕捉图像，精确的图像采集适用于较苛刻的应用。Neon-CLB专为需要PCI Express总线的性能、BitFlow著名的工业质量和行业中较低的价格点之一的OEM而设计。Neon-CLB可以从所有基础CL摄像机获取数据，并具有足够的工业I/O来处理较复杂的同步任务。使用我们的SDK将Neon-CLB添加到您的应用程序非常简单，它支持32位和64位操作系统。SDK为复杂的缓冲区管理提供高级API，并为快速定制控制提供对主板的低级直接访问。如果您需要较简单、较可靠、性能较佳的Base Camera Link和POCL图像采集卡，请立即致电Bitflow，获取我们的OEM定价Neon-CLB，这是Bitflow的第四代强大的工业Camera Link成像产品。

Nephrolux®是Pranalytica的氨传感器，用于对人类患者的肾脏疾病和功能障碍进行非侵入性诊断。当个体患有肾脏疾病时，个体血液中的尿素氮和肌酸酐水平升高。测定血尿素氮和肌酐的传统技术包括从患者抽取血样并随后进行实验室分析，这可能需要长达24-48小时。Pranalytica的Nephrolux®传感器可测量人体呼出气体中的氨浓度，该浓度已被证明与血液尿素氮和肌酐浓度具有一对一的相关性。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

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许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。高反射器纽波特薄膜实验室在制造用于紫外、可见和红外应用的高反射涂层方面拥有丰富的经验。较高的总反射率（R>99.9%）可以用相对窄带的电介质反射器来实现，该电介质反射器可以针对任何给定的性能带进行优化。然而，可以为几乎任何应用制造非常高的反射器，包括多波段和宽波段。

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