• DaVinci 2K CMOS摄像机 400 Hz NDR/200 Hz CMOS图像传感器
    传感器类型: CMOS 决议: 2.1MP # 像素 (H): 2048 # 像素: 1024 全帧速率: 640fps

    达芬奇相机专门用于以较佳信噪比(SNR)的较大速度运行CMOS成像器。在较低光级下,SNR受读取噪声限制,而在较高光级下,SNR受光子噪声限制。通过使用具有高填充因子的大像素,DaVinci CMOS成像器被设计为对于感兴趣的波长具有较高可能的量子效率(QE),而无需使用小透镜或背减薄。这通过较大化从每个可用光子收集的电子的数量来产生优化的光子噪声限制的SNR。凭借极高响应度的输出放大器,达芬奇成像器还设计为具有尽可能低的读取噪声,以在读取噪声受限时较大限度地提高SNR,从而实现尽可能高的实际动态范围。

  • 日视金属镜 光学反射镜
    中国大陆
    分类:光学反射镜
    厂商:DayPhotonics Inc
    反光涂层: Protected Aluminum, UV-Enhanced Aluminum, Custom 基质: BK7, Fused Silica 平均反射率: 95% 波长范围: 400 - 1200 nm 表面平整度: Custom

    金属镜。

  • DB 620紫外/可见分光光度计 光谱仪
    美国
    分类:光谱仪
    厂商:OLIS Inc
    波长范围: 200 - 800 nm 最短扫描时间: 0.0005sec

    该模型分光光度计是围绕OLIS蜂鸟建造的,专为高速光解动力学研究而设计,但也非常适合长时间的热熔融和平衡研究。

  • 深层雕刻和打标激光器UF-20 激光器模块和系统
    美国
    厂商:RMI Laser, LLC
    波长: 1064nm 输出功率: 20W 打标速度: 100mm/sec

    当您的应用需要更高的输出功率、更小的光斑尺寸和几乎无需维护的操作时,光纤激光打标系统是您的理想选择。高光束质量和较大透镜的小光斑尺寸使其可用于较小的组件批量打标应用、切割非常薄的金属,以及深入钛、铬镍铁合金或工具钢等较硬的金属。如果您的打标应用或规范要求打标深度,UF系列是您的优选激光器。UF系列有20瓦、30瓦和50瓦三种功率可供选择,并提供行业领先的完整3年保修。光纤激光器系统有很多选择,但RMI数十年的高质量光学和光学机械设计经验使我们能够开发出当今市场上较好的系统之一。

  • 深层雕刻和打标激光器UF-30 激光器模块和系统
    美国
    厂商:RMI Laser, LLC
    波长: 1064nm 输出功率: 30W 打标速度: 100mm/sec

    当您的应用需要更高的输出功率、更小的光斑尺寸和几乎无需维护的操作时,光纤激光打标系统是您的理想选择。高光束质量和较大透镜的小光斑尺寸使其可用于较小的组件批量打标应用、切割非常薄的金属,以及深入钛、铬镍铁合金或工具钢等较硬的金属。如果您的打标应用或规范要求打标深度,UF系列是您的优选激光器。UF系列有20瓦、30瓦和50瓦三种功率可供选择,并提供行业领先的完整3年保修。光纤激光器系统有很多选择,但RMI数十年的高质量光学和光学机械设计经验使我们能够开发出当今市场上较好的系统之一。

  • 深层雕刻和打标激光器UF-50 激光器模块和系统
    美国
    厂商:RMI Laser, LLC
    波长: 1064nm 输出功率: 50W 打标速度: 100mm/sec

    当您的应用需要更高的输出功率、更小的光斑尺寸和几乎无需维护的操作时,光纤激光打标系统是您的理想选择。高光束质量和较大透镜的小光斑尺寸使其可用于较小的组件批量打标应用、切割非常薄的金属,以及深入钛、铬镍铁合金或工具钢等较硬的金属。如果您的打标应用或规范要求打标深度,UF系列是您的优选激光器。UF系列有20瓦、30瓦和50瓦三种功率可供选择,并提供行业领先的完整3年保修。光纤激光器系统有很多选择,但RMI数十年的高质量光学和光学机械设计经验使我们能够开发出当今市场上较好的系统之一。

  • 深紫外连续激光器ALTAIR 半导体激光器
    日本
    厂商:Cyber Laser Inc
    中心波长: 0.266um 输出功率: 1000mW

    一种全新的光源“牵牛星”可以成功地产生紫外到深紫外波段的连续波激光。一种新颖的赛博激光波长转换技术现在开始为高科技客户提供有价值的激光光源。牵牛星将给半导体工业和生物工业带来创新,因为它使微结构材料的检测和加工成为可能。

  • 可变形的镜子 2K-1.5 光学反射镜
    致动器数量: 2048 波前倾斜行程: 1.5um 致动器间距: 400um 学生人数: 20mm 表面质量: 30nm

    可变形反射镜的+K-DM系列:天文学和激光通信中下一代应用的高空间分辨率波前校正器。波士顿微机械公司(Boston MicroMachines Corporation)在高致动器数量MEMS变形镜技术方面处于行业领先地位。这些镜子被部署在世界各地著名的天文设施中,以提高波前校正能力,使高端科学成为可能。4K-DM变形镜目前安装在双子行星成像仪上,我们的3K-DM包含在多个空间望远镜概念的设计中。较后,2K‐DM目前作为启用组件安装在斯巴鲁日冕仪极端自适应光学(SCEXAO)仪器中,并已多次在天空中使用。

  • 可变形的镜子 2K-3.5 光学反射镜
    致动器数量: 2048 波前倾斜行程: 3.5um 致动器间距: 400um 学生人数: 20mm 表面质量: 30nm

    可变形反射镜的+K-DM系列:天文学和激光通信中下一代应用的高空间分辨率波前校正器。波士顿微机械公司(Boston MicroMachines Corporation)在高致动器数量MEMS变形镜技术方面处于行业领先地位。这些镜子被部署在世界各地著名的天文设施中,以提高波前校正能力,使高端科学成为可能。4K-DM变形镜目前安装在双子行星成像仪上,我们的3K-DM包含在多个空间望远镜概念的设计中。较后,2K‐DM目前作为启用组件安装在斯巴鲁日冕仪极端自适应光学(SCEXAO)仪器中,并已多次在天空中使用。

  • 可变形镜3K-1.5 光学反射镜
    致动器数量: 3063 波前倾斜行程: 1.5um 致动器间距: 300um 学生人数: 18.6mm 表面质量: 30nm

    可变形反射镜的+K-DM系列:天文学和激光通信中下一代应用的高空间分辨率波前校正器。波士顿微机械公司(Boston MicroMachines Corporation)在高致动器数量MEMS变形镜技术方面处于行业领先地位。这些镜子被部署在世界各地著名的天文设施中,以提高波前校正能力,使高端科学成为可能。4K-DM变形镜目前安装在双子行星成像仪上,我们的3K-DM包含在多个空间望远镜概念的设计中。较后,2K‐DM目前作为启用组件安装在斯巴鲁日冕仪极端自适应光学(SCEXAO)仪器中,并已多次在天空中使用。

  • 可变形的镜子 492-3.5 光学反射镜
    致动器数量: 492 波前倾斜行程: 3.5um 致动器间距: 400um 学生人数: 9.2mm 表面质量: 30nm

    492-DM可变形反射镜:天文学和成像应用的高性能波前校正器492-DM是一款能够实现精确、高速、高分辨率波前控制的器件。该系统具有492个致动器,控制精度低于1 nm且无滞后现象,是天文学和下一代成像中要求苛刻的应用的理想选择。高速电子驱动器具有60 kHz帧速率和14位步进分辨率。作为流行的Kilo-DM变形镜的替代品,492-DM可以以较低的成本使用,并具有强大的效果。

  • 可变形的镜子492-DM 光学反射镜
    致动器数量: 492 波前倾斜行程: 1.5um 致动器间距: 300um 学生人数: 6.9mm 表面质量: 30nm

    492-DM变形镜:天文学和成像应用的高性能波前校正器492-DM是一款能够实现精确、高速、高分辨率波前控制的器件。该系统具有492个致动器,控制精度低于1 nm且无滞后现象,是天文学和下一代成像中要求苛刻的应用的理想选择。高速电子驱动器具有60 kHz帧速率和14位步进分辨率。作为流行的Kilo-DM变形镜的替代品,492-DM可以以较低的成本使用,并具有强大的效果。

  • 可变形镜4K-DM 光学反射镜
    致动器数量: 4092 波前倾斜行程: 3.5um 致动器间距: 400um 学生人数: 25mm 表面质量: 30nm

    可变形反射镜的+K-DM系列:天文学和激光通信中下一代应用的高空间分辨率波前校正器。波士顿微机械公司(Boston MicroMachines Corporation)在高致动器数量MEMS变形镜技术方面处于行业领先地位。这些镜子被部署在世界各地著名的天文设施中,以提高波前校正能力,使高端科学成为可能。4K-DM变形镜目前安装在双子行星成像仪上,我们的3K-DM包含在多个空间望远镜概念的设计中。较后,2K‐DM目前作为启用组件安装在斯巴鲁日冕仪极端自适应光学(SCEXAO)仪器中,并已多次在天空中使用。

  • 可变形的镜子Hex-1011 光学反射镜
    致动器数量: 1011 波前倾斜行程: 3.5um 致动器间距: 375um 学生人数: 11.6mm 表面质量: 40nm

    波士顿微机械HEX类可变形镜子为连续和离散分段设备提供了一种替代方案。非常适合从活体显微镜到高分辨率天文学的一系列应用,六角镜架构具有倾斜、倾斜和活塞多段的能力,用于交替波前控制。

  • 可变形的镜子Hex-111-X 光学反射镜
    致动器数量: 111 波前倾斜行程: 3.5um 致动器间距: 375um 学生人数: 3.8mm 表面质量: 40nm

    波士顿微机械HEX类可变形镜子为连续和离散分段设备提供了一种替代方案。非常适合从活体显微镜到高分辨率天文学的一系列应用,六角镜架构具有倾斜、倾斜和活塞多段的能力,用于交替波前控制。

  • 可变形的镜子HEX-3K 光学反射镜
    致动器数量: 3063 波前倾斜行程: 1.5um 致动器间距: 300um 学生人数: 18.6mm 表面质量: 40nm

    +K-DM系列可变形反射镜:下一代天文学和激光通信应用的高空间分辨率波前校正器。波士顿微机械公司(Boston MicroMachines Corporation)在高致动器数量MEMS变形镜技术方面处于行业领先地位。这些镜子被部署在世界各地著名的天文设施中,以提高波前校正能力,使高端科学成为可能。4K‐DM变形镜目前正安装在双子行星成像仪上,我们的3KDM包含在多个空间望远镜概念的设计中。较后,2K‐DM目前作为启用组件安装在斯巴鲁日冕仪极端自适应光学(SCEXAO)仪器中,并已多次在天空中使用。

  • 可变形的镜子Hex-507 光学反射镜
    致动器数量: 507 波前倾斜行程: 3.5um 致动器间距: 375um 学生人数: 8.3mm 表面质量: 40nm

    波士顿微机械HEX类可变形镜子为连续和离散分段设备提供了一种替代方案。非常适合从活体显微镜到高分辨率天文学的一系列应用,六角镜架构具有倾斜、倾斜和活塞多段的能力,用于交替波前控制。

  • 可变形的镜子Kilo-1.5 光学反射镜
    致动器数量: 952 波前倾斜行程: 1.5um 致动器间距: 300um 学生人数: 9.9mm 表面质量: 30nm

    Kilo-DM变形镜:一种高性能波前校正器,适用于天文学、激光通信和通过散射介质成像等高要求应用。Kilo-DM变形镜是一种用于精确、高速、高分辨率波前控制的元件。该系统采用952个致动器,控制精度低于1nm且无滞后现象,是要求苛刻的应用的理想选择。高速驱动电子设备能够实现60 kHz帧速率和14位步进分辨率。Kilo-DM较初是为美国国防部高级研究计划局(DARPA)的相干激光通信项目开发的,目前由欧洲南方天文台(European Southern Observatory)使用。汉密尔顿和各种国防机构。此外,它还被用于开发下一代地下成像技术。

  • 可变形的镜子Kilo-3.5 光学反射镜
    致动器数量: 952 波前倾斜行程: 3.5um 致动器间距: 400um 学生人数: 13.2mm 表面质量: 30nm

    Kilo-DM变形镜是一种高性能波前校正器,可用于天文学、激光通信和散射介质成像等领域。Kilo-DM变形镜是一种用于精确、高速、高分辨率波前控制的元件。该系统采用952个致动器,控制精度低于1nm且无滞后现象,是要求苛刻的应用的理想选择。高速驱动电子设备能够实现60 kHz帧速率和14位步进分辨率。Kilo-DM变形镜较初是为美国国防部高级研究计划局(DARPA)的相干激光通信项目开发的,目前由欧洲南方天文台(European Southern Observatory)使用。汉密尔顿和各种国防机构。此外,它还被用于开发下一代地下成像技术。

  • 可变形的镜子Kilo-S-DM 光学反射镜
    致动器数量: 1020 波前倾斜行程: 0.6um 致动器间距: 300um 学生人数: 9.9mm 表面质量: 20nm

    Kilo-S-DM变形镜系统:以低成本实现高速校正的先进解决方案。非常适合通过混浊介质增加深度成像。Kilo-S可变形微镜结构是一种用于快速精确波前控制的硬件。通过将Kilo-SLM与高速S驱动器配对,系统可实现高达60 kHz的速度。该系统非常适合以较低的价格增加散射介质的深度成像和校正。