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水晶类型: Nd:Ce:YAG AR 涂层: One side
Nd:Ce:YAG是一种优良的激光材料,广泛应用于无水冷却和微型激光器系统。在双掺Nd:Ce:YAG晶体中,Ce被选作Nd~(3+)离子的敏化剂,这是因为Ce在闪光灯泵浦下在紫外光谱区有强吸收,并且能有效地将能量转移到Nd~(3+)激发态。结果表明,在相同抽运条件下,Nd:Ce:YAG的热畸变较小,输出激光能量较Nd:YAG大。因此,有可能实现具有良好光束质量的高功率激光器。Nd:Ce:YAG晶体的激光波长为1064nm,激光损伤阈值和热导率与Nd:YAG晶体相同。它是风冷激光器中较理想的激光材料,适用于不同工作模式(脉冲、调Q、锁模)和高平均功率的激光器。
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水晶类型: Nd:YVO4 水晶直径: 4mm 水晶长度: 18mm AR 涂层: One side, Both sides, Uncoated
掺钕钒酸钇(Nd:YVO4-Nd:YVO4-YP)是目前二极管泵浦固体激光器中较有效的激光晶体之一。与Nd:YAG相比,Nd:YVO_4激光晶体具有对半导体激光器泵浦波长和温度控制的依赖性小、吸收带宽、斜率效率高、激射阈值低、线偏振发射和单模输出等优点。在要求紧凑设计和单频输出的应用中,Nd:YVO4与其他常用激光晶体相比具有独特的优势。二极管泵浦的Nd:YVO4小型激光器及其倍频的绿色、红色或蓝色激光已用于机械加工、材料处理、光谱学、晶片检测、光秀、医疗诊断、激光打印。
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传感器类型: CCD # 像素(宽度): 1024 # 像素(高度): 255 像素大小: 26um 峰值量子效率: 95%
这一高端USB2.0 Newton CCD系列将Andor的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却结合在一起,并辅以Andor的UltraVac™技术,该技术在科学和工业领域具有无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1,600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱(或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术!)的理想工具,例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素,用于较高UV至VIS分辨率光谱,而920系列及其26 X 26μm为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个>6.6 mm高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。
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传感器类型: EMCCD # 像素(宽度): 1600 # 像素(高度): 200 像素大小: 16um 峰值量子效率: 97%
EM技术使来自每个像素的电荷在读出之前在传感器上倍增,从而提供单光子灵敏度。Newton EM平台结合了1600 X 200(或1600 X 400)16μm像素阵列、低至-100°C的热电冷却(暗电流可忽略不计)、3MHz读出和USB 2.0即插即用连接,为光谱应用提供无与伦比的性能。双输出放大器允许在传统的高灵敏度或电子倍增输出之间进行软件选择,以适应广泛的光子状态条件。这使得Newton EMCCD成为超快化学成像应用的理想选择,例如SERS、TERS或发光成像。
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测量类型: Elemental analysis
Rigaku NEX CG可对各种类型的样品中的主要和次要原子元素进行快速定性和定量测定-较低标准:非破坏性分析NA至non-U固体、液体、粉末和薄膜检测下限的极化激发峰重叠的新颖处理减少了误差使用Ultracarry的含水样品的ppb检测极限带EZ分析的简化用户界面用于迹级灵敏度的极化笛卡尔几何学与传统的EDXRF分析仪不同,NEX CG采用了独特的紧密耦合笛卡尔几何(CG)光学内核,大大提高了信噪比。通过使用二次目标激励代替传统的直接激励,进一步提高了灵敏度。由此产生的背景噪声的显著降低和元素峰值的同时增加,使得光谱仪即使在困难的样品类型中也能够进行常规痕量元素分析。新颖的软件减少了对标准的需求NEX CG由新的定性和定量分析软件RPF-SQX提供支持,该软件采用了Rigaku Profile Fitting(RPF)技术。该软件允许在没有标准品的情况下对几乎所有样品类型进行半定量分析,并使用标准品进行严格的定量分析。
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测量类型: Elemental analysis
作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造,无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中,NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力,包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育,以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制(QC)还是其更复杂的变体(如分析质量控制(AQC)、质量保证(QA)或六西格玛等统计过程控制),NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。
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测量类型: Chemical identification
Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光(EDXRF)为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术,Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析,适用于从铝(Al)到铀(thickness U)的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计,能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上,并配备有位于滚轮上方的线性横动机构,以使头-面距离恒定。需要时,可直接测量涂层的元素组成。相反,涂层重量(或涂层厚度)可以直接测量(其中元素的计数率与厚度成比例)或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量(其中计数率与厚度负相关)。长期以来,台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描,用于更严格的过程控制公差,将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材,以改变产品(如标签)或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少,或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域,则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响,或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害,从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮,则制造的辊的成本增加,降低了盈利能力,并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。