Nd：GdVO4晶体是优良的激光晶体。它们具有良好的物理、光学和机械性能，是二极管泵浦固体微小型激光器理想的激光基质材料。它们比Nd：YAG晶体具有更高的斜率效率，比Nd：YVO4晶体具有更好的热导率和更高的功率输出，因此它们是高功率输出DPSS激光器的良好选择。使用先进的生长技术，CASIX提供了Nd掺杂从0.1atm%到4.0atm%的高等级Nd：GdVO4晶体。此外，还可提供各种尺寸和涂层的晶体组件。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

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作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造，无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中，NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力，包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育，以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制（QC）还是其更复杂的变体（如分析质量控制（AQC）、质量保证（QA）或六西格玛等统计过程控制），NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。

作为一款优质高性能、小型SPOT台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE VS通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体、浆料和RoHS材料。

基于Windows®的EDXRF用于快速元素分析作为一款优质的低成本台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，Rigaku NEX QC+Quantez通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体和泥浆。野外、工厂或实验室的元素分析NEX QC+Quantez系列专为重工业应用而设计，无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中，其卓越的分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增添了广泛的吸引力，包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育，以及工业和生产监控应用。无论需要的是基本质量控制（QC）还是其更复杂的变体（如分析质量控制（AQC）、质量保证（QA）或六西格玛等统计过程控制），NEX QC+Quantez系列都是常规元素分析的可靠选择。

日亚紫405nm-450nm激光二极管NDV4632特点：光输出功率：250mW（@TC=25℃）单一模式CAN类型：5.6，带光电二极管。绝对较大额定值：光输出功率（@TC=25℃）*：250mWLD反向电压：2V储存温度：-40~90℃工作环境温度：-10~80℃初始电/光特性（TC=25℃）光输出功率：100 MW峰值波长：410nm阈值电流：60mA工作电流：130mA坡度效率：1.9W/a工作电压：5.5V

日亚紫405nm-450nm激光二极管NDV4B16特点：光输出功率：连续波300mW（@TC=25℃）峰值波长：405nmCAN类型：5.6浮动安装，带光电二极管和齐纳二极管。绝对较大额定值：光输出功率（@TC=25℃）*：360mW允许反向电流：85mAPD反向电压：5V储存温度：-40~85℃工作环境温度：0~70℃初始电/光特性（TC=25℃）光输出功率：300 MW峰值波长：410nm阈值电流：35mA工作电流：250mA坡度效率：1.9W/a工作电压：5.8V

总统的选择！这台NIRQUEST512-2.2近红外光谱仪是我们较喜欢的NIRQUEST装置，大范围，高灵敏度，较佳价值。可租可买！按周或按月租用NirQuest512-2.2，在购买之前验证您的应用程序和系统性能！租赁费用的50%可用于购买新设备（较高为销售价格的50%）。小尺寸光纤USB光谱仪采用冷却增强型InGaAs 512元素探测器阵列，用于900–2200nm波长范围内的光谱测量。25微米狭缝产生5nm量级FWHM的光学分辨率，包括SpectraSuite软件和电源。强大–深热电冷却低至-20°C，实现低暗电流快速–非常适合使用化学计量模型的应用模块化–可配置一系列光源、光纤和配件，以满足您的特定应用

EKSPLA的NL120系列Q开关Nd：YAG激光器。NL120系列电光Q开关纳秒Nd：YAG激光器每脉冲输出高达1600 MJ，具有出色的稳定性。创新的二极管泵浦自种子主振荡器设计实现了单纵模（SLM）输出

NL120系列电光调Q纳秒Nd：YAG激光器每脉冲输出高达10 J，具有出色的稳定性。创新的二极管泵浦自籽晶主振荡器设计实现了单纵模（SLM）输出，无需使用外部昂贵的窄线宽籽晶二极管和腔锁定电子器件。与使用不稳定激光腔的更常见的设计不同，稳定的主振荡器腔产生TEM空间模式输出，其在放大级之后产生极好的光束特性。NL120系列调Q纳秒激光器是许多应用的绝佳选择，包括OPO、OPCPA或染料激光泵浦、全息摄影、LIF光谱、遥感、光学测试和其他任务。对于需要平滑且尽可能接近高斯光束轮廓的任务，可以使用具有改进的高斯拟合的模型。光脉冲相对于Q开关触发脉冲的低抖动允许激光器和外部设备之间的可靠同步。可选的二次（SH）（用于532nm）、三次（TH）（用于355nm）和四次（FH）（用于266nm）谐波发生器提供对较短波长的访问。激光器由提供的上网本PC通过USB端口控制，并带有适用于Windows™操作系统的应用程序。此外，还可以通过辅助遥控板控制激光器的主要设置。遥控板采用背光显示屏，即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。

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NL740系列的主要特点是基于时间驱动的CW二极管激光器种子和放大级，输出超稳定的可调谐持续时间（2–10 ns）窄带宽纳秒脉冲。系统的起点是具有时间输出功率调制器的单模DFB激光器。这样的前端确保SLM模式的可靠生成，这对于低时间调制超稳定脉冲的形成是非常有益的。然后，光在二极管泵浦的再生放大器中被放大，以便达到足以在二极管泵浦的放大器中放大的能量。功率放大器是二过一放大器链，其中脉冲以100Hz的重复率被放大到100mJ的能量。在放大之前，采用空间光束整形，以便在输出处获得平顶形状。谐波发生器基于放置在加热器中的角度调谐非线性晶体。全二极管泵浦设计，确保系统在高重复率下可靠运行，维护简单方便。

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Onyx Optics，Inc.推出用于高效率和高光束质量非线性光学（NLO）频率转换的无粘合剂键合（AFB®）准非临界相位匹配（QNCPM）和准相位匹配（QPM）。AFB®QNCPM和QPM设备完全补偿了空间走离和扩大的角度接受度。与非临界相位匹配（NCPM）器件类似，它们对轻微的激光失准不敏感，但可以针对所有临界相位匹配（CPM）波长进行设计。因此，在需要高效率和高光束质量的情况下，AFB®QNCPM和QPM器件是当前CPM NLO器件的理想替代品。