Eosens®4CXP采用4/3英寸CMOS传感器，分辨率为2，336 X 1，728像素，速度高达每秒563帧。通过定义多达三个独立的感兴趣区域，可以实现更高的帧速率。结合4通道CXP-6 CoaXPress®输出，EoSens®4CXP可实时传输百万像素图像。Eosens®4CXP拥有扩展功能集。图像处理功能允许您校正噪声和伽玛设置，为您的应用程序带来无与伦比的图像质量和保真度。使用Sequencer功能可以定义四个感兴趣的区域，每个区域具有不同的曝光时间。

Epic 10在全球数千家手术室中使用，具有无线脚踏开关技术、具有22个临床预设的稳定软件，以及用于各种手术和非手术程序的一次性吸头。Epic 10也是一个美丽的地方，它将以其屡获殊荣的设计为任何手术室增添高科技。

Epic X是业界较畅销的产品，是我们较新的增强型日常二极管激光器。该系统采用了新的软件技术和新的无绳脚踏板，以及其他值得注意的创新。Epic X具有快速手术功能、多种卫生程序（在允许的情况下）以及疼痛治疗和美白模式，是一种高度通用、高效的仪器，使您能够更快地取悦您的患者。

介绍来自Epilog Laser的新型G2振镜激光器。G2采用独特的动态对焦镜头技术，允许您将雕刻区域从4“X 4”（101 X 101 mm）更改为16“X 16”（406 X 406 mm），较高可达24“X 24”（609 X 609 mm）。

基于成熟的Epsilon 3系列XRF光谱仪的经验和成功，Epsilon 4是一款多功能台式XRF分析仪，适用于从研发到过程控制领域需要从氟（F）到镅（Am）元素分析的任何行业。将较新的激发和检测技术与成熟的软件和智能设计相结合，Epsilon 4的分析性能接近更强大的落地式XRF光谱仪。

Epsilon XFlow的在线液体分析为快速准确地控制工艺参数提供了解决方案。法规和质量规范的增加推动了对连续流程的需求。Epsilon XFlow可实现实时洞察，以更高效地管理生产流程并降低运营成本。

这些透镜具有负焦距。在单透镜应用中，如果放大率在-5

这些透镜具有正焦距，并且是产生1：1放大倍数的真实图像的较佳形状。在单透镜应用中，如果放大率在以下范围内，则应优先考虑使用它们，而不是单平凸透镜：-5

Er3+的发射跃迁发生在4I13/2→4I15/2的波长范围内。然而，Er3+吸收本身太弱而不允许直接泵浦，因此需要能量转移。较有效的是Yb3+离子从2F7/2→2F5/2跃迁吸收，随后能量转移到4I11/2Er3+能级，并快速无辐射跃迁到Er3+4I13/2能级，发射预期的荧光。辐射输出波长为1540 nm的Er，Yb：玻璃激光器不需要添加额外的组件。Er3+/Yb3+共掺磷酸盐玻璃——作为LD泵浦的1540nm人眼安全辐射源，可直接发射人眼安全的1540nm激光辐射，用于激光测距和通信领域1540nm Er3+/Yb3+共掺磷酸盐玻璃激光器是一种人眼安全波段激光器，由于1540nm波长正好处于人眼安全和光纤通信窗口的位置，其结构紧凑、成本低，在激光产生和信号放大等方面备受关注，已被应用于测距、雷达、目标识别等领域。Er~（3+）/Yb~（3+）共掺磷酸盐玻璃配合被动调Q晶体-Co：尖晶石获得1540nm脉冲固体激光。

Er：YAG、Er掺杂的钇铝石榴石（Er：Y3Al5O12或Er：YAG）结合了Er YAG的不同输出波长和优异的热和光学性质。这是一种波长为2.94μm的激光晶体。该波长是现有所有波长中较容易被水和羟基磷灰石吸收的波长，被认为是一种高表面切割激光。它是一种众所周知的医疗应用材料。掺杂浓度为50%的Er YAG的发射波长为2940nm，位于水吸收峰处，可被水分子强烈吸收。因此，它被广泛应用于整形外科和牙科。目前我们的项目有激光采血仪，采用Er：YAG棒两面镀膜，氙灯端面泵浦的结构。Er YAG激光波长是改善多种皮肤状况和老化的绝佳选择，包括色素沉着不良、光化学光损伤、日光弹性退化、痤疮和创伤性疤痕形成、细纹和轻度至中度皱纹疾病、皮肤纹理粗糙和皮肤松弛。联系我们获取更多信息。@crylink

Er3+/Yb3+共掺磷酸盐玻璃作为LD泵浦的1540nm人眼安全辐射源，在此波长范围内Er3+发生4I13/2→4I15/2跃迁，发射出人眼安全的1540nm激光辐射，可直接用于激光测距和通信领域。然而，Er3+吸收本身太弱而不允许直接泵浦，因此需要能量转移。较有效的是Yb3+离子从2F7/2→2F5/2跃迁吸收，随后能量转移到Er3+的4I11/2能级，并快速无辐射跃迁到Er3+的4I13/2能级，发射出预期的荧光。

EOT的EURYS宽带旋转器将800 nm的偏振光平面正向旋转90°，将720 nm至950 nm的偏振光平面反向旋转0°，同时保持光的线性偏振。当放置在交叉偏振器之间时，宽带法拉第旋转器变成宽带光隔离器。EURYS宽带光学隔离器在正向方向上提供高透射率，并在反向方向上强烈衰减720nm至950nm之间的背反射光，从而保护Ti：Sapphire振荡器免受背反射的有害影响，并消除Ti：Sapphire激光器在较低增益波长下的优先激射。利用具有低折射率和短光学路径长度的光学器件使由于与超短激光脉冲相关联的光学器件中的色散引起的脉冲展宽较小化。

EOT的EURYS宽带旋转器将800 nm的偏振光平面正向旋转90°，将720 nm至950 nm的偏振光平面反向旋转0°，同时保持光的线性偏振。当放置在交叉偏振器之间时，宽带法拉第旋转器变成宽带光隔离器。EURYS宽带光学隔离器在正向方向上提供高透射率，并在反向方向上强烈衰减720nm至950nm之间的背反射光，从而保护Ti：Sapphire振荡器免受背反射的有害影响，并消除Ti：Sapphire激光器在较低增益波长下的优先激射。利用具有低折射率和短光学路径长度的光学器件使由于与超短激光脉冲相关联的光学器件中的色散引起的脉冲展宽较小化。

Evergreen²是粒子成像测速应用的理想激光器，因为它具有精确重叠的光束，旨在较大限度地减少相关噪声。Evergreen²允许科学家专注于矢量场结果，而不是激光。TheEvergreen²是一款双532 nm激光系统，可选择脉冲能量和重复率：15 Hz时为70 MJ、145 MJ或200 MJ，25 Hz时为100 MJ。Lumibird还提供了一个版本，在266nm时为30mJ，重复率为15Hz。Evergreen²将两个激光器集成在一个坚固耐用的单块中，以保证完美的对准和均匀的光片。它永远不需要用户对齐。激光头电子设备将单块激光头无缝连接到通用电源。这使得用户校准成为过去。单头和单电源均采用坚固紧凑的封装，简化了您的实验。

EVG101抗蚀剂处理系统在单室设计上执行R&D型工艺，与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101支持高达300 mm的晶圆，并可配置为旋涂或喷涂和显影。利用EVG先进的OmniSpray涂层技术，在3D结构晶片上实现了光致抗蚀剂或聚合物的共形层，用于互连技术。这确保了珍贵的高粘度光刻胶或聚合物的低材料消耗，同时改善了均匀性和光刻胶扩散选择。

Helios EQ32高光谱成像系统是一种强大的分析工具，基于非接触和非破坏性的实时红外成像光谱。EVK Helios系统分析物体的化学性质，并区分彩色相机不可见的材料类型。内部处理引擎提供物料流的定性和定量信息，例如分析物浓度或材料成分。摄像机作为一个即插即用组件提供了完整的内部校准。Helios EQ32采用紧凑、坚固的不锈钢外壳，具有应力解耦光学机械结构。该系统针对实际工业环境进行了优化，可在整个指定温度范围内提供稳定的校准数据。

EX-5100是一款远程气体监测传感器变送器，集成了Pellistor或催化珠传感器。该传感器由一对匹配的元件组成，一个是有源元件，另一个是补偿元件。活性珠上涂有催化剂，当与可燃碳氢化合物或溶剂接触时，会导致气体或蒸汽在低于爆炸下限（LEL）的浓度下“燃烧”或氧化。这种氧化过程提高了活性珠粒的温度，并增加了内部线圈的电阻。第二珠粒不具有催化涂层，并且提供对包括温度和湿度的环境条件的补偿。当这些元件连接在惠斯通电桥型电路中时，产生与气体浓度成比例的可用信号。变送器采用24 VDC供电，提供4-20 mA输出信号，可连接到控制器、PLC或类似仪器。标准EX-5100校准为0-100%LEL甲烷。因此，甲烷被认为具有（1.00）1的系数或相对响应。已经为30多种不同的可燃碳氢化合物和溶剂生成了相对于甲烷的校准系数。除了这些已建立的系数外，ENMET还可以为较常见的可燃气体和蒸汽生成校准数据，这些气体和蒸汽的样品很容易获得。

EX-5120远程气体监测传感器变送器包含一个基于NDIR原理工作的传感器，用于监测碳氢化合物气体的浓度。它可以针对特定气体（如甲烷）进行校准，但也可以响应其他一些碳氢化合物气体，包括丙烷、丁烷等。该传感器具有用于温度补偿的集成半导体、耐用的钨丝红外光源、滤波器和双温度补偿热释电红外探测器。该传感器变送器可在厌氧环境和连续的碳氢化合物环境中工作。该装置提供长期稳定性，需要较少的维护。EX-5120传感器变送器采用24 VDC电源供电，具有三个LED报警点指示灯、4-20 mA输出和可选报警继电器板。该传感器变送器可连接到各种单通道和多通道Enmet控制器或基于计算机的仪器，如PLC、SCADA、BMS等。

Excelliscan扫描头为较苛刻的激光扫描要求设定了新标准。作为ScanLab 2D扫描系统，它们能够在工作平面中偏转和定位激光束。其突破性的ScanAhead控制技术实现了以前无法企及的动态性能和精度。这转化为生产力和加工精度的巨大收益。

现在可以从其他几种不同的激光源获得UV光子，但是准分子激光器尽管有缺点，但仍然可以做其他激光器不能做的事情，并且在某些情况下（在近中心上有许多小孔），它们可以是经济的，因为它们使用掩模成像而不是单点钻孔。谐振腔配置产生对于近场成像理想的光束，并且激光束的高峰值功率允许在很少或没有热影响区的情况下烧蚀目标材料。193-351 nm光学波长范围允许在目标表面上生成高分辨率（~1µm）特征，浅吸收深度允许通过控制所施加的脉冲数量来严格控制特征深度。大的光束横截面可容纳用于近场成像的大成像掩模。光加工工程师在准分子激光合同制造和系统设计方面拥有丰富的经验。我们可以将定制配置与简单的成像集成，一直到多轴运动、复杂的光学系统和机器视觉。还可以通过净化光束传输将光学缩小2倍至30倍。准分子生产工具是完全封闭和联锁的，符合所有CDRH I类要求。集成气体柜确保气体管道的污染较小。所有准分子系统都使用光加工控制软件。我们设备齐全的准分子实验室使我们能够在系统设计和建造之前进行原理验证。通常使用工作频率高达200 Hz、平均功率为60 W的光机和相干准分子激光器KrF（248 nm），尽管更高功率的激光器可用于高通量应用。