• FDL-780-1W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.780um 输出功率: 1000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近1000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-780-2W-TA用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.780um 输出功率: 2000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近2000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-785-1W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.785um 输出功率: 1000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近1000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-785-2W-TA用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.785um 输出功率: 2000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近2000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-800-0.5W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.800um 输出功率: 500mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近500mW的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-850-2W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.850um 输出功率: 2000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近2000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-850-2W-TAL 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.850um 输出功率: 2000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近2000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-850-3W-TA 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.850um 输出功率: 3000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。在10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近3000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-860-3W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.860um 输出功率: 3000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。在10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近3000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-870-1.5W-TA 锥形放大器用于MOPA 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.870um 输出功率: 1500mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。在10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近1500W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-890-2W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.890um 输出功率: 2000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近2000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-890-3W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.890um 输出功率: 3000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。在10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近3000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-920-1W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.920um 输出功率: 1000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。在10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近1000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱学。

  • FDL-920-2W-TA用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.920um 输出功率: 2000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近2000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-950-2W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.950um 输出功率: 2000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近2000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-976-2W-TA 用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.976um 输出功率: 2000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近2000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FDL-976-3W-TA用于MOPA的锥形放大器 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.976um 输出功率: 3000mW

    GaAs基锥形放大器用于现有种子激光器的放大。在10mW和30mW之间的种子功率可以被放大到接近3000W的衍射极限功率值。这种设置称为MOPA(主振荡器功率放大器)。后端面和前端面都具有小于0.01%的抗反射涂层,以避免放大器芯片本身的激光作用。具有锥形放大器的MOPA装置的应用实例是光学冷却、高分辨率吸收的光阱或拉曼光谱。

  • FemtoRose 100 MDC Compact/NoTouch 激光器模块和系统
    匈牙利
    模式锁定电源: 500mW 脉冲持续时间: 150fs 带宽: 6nm 重复频率: 76 - 76 MHz 脉冲能量: 7nJ

    Femtorose 100 MDC Compact/NoTouch将532 nm泵浦激光器和我们的专利镜面色散控制锁模钛宝石振荡器集成到一个集成盒中。这是我们的Femtorose 20 MDC激光器的固定波长版本,工作波长约为800 nm。激光器的中心波长(通常设置为820nm)由双折射滤波器元件(BRF)设置。泵浦功率和腔端镜可以通过RS232接口由计算机设置。无触摸版本包括一个电子控制单元,可实现真正的免提操作。当由内置532nm激光器的4W泵浦时,该激光器提供高达450mW的锁模输出功率。

  • FemtoRose 20 MDC Compact 激光器模块和系统
    匈牙利
    模式锁定电源: 450mW 脉冲持续时间: 100fs 重复频率: 80 - 80 MHz 脉冲能量: 6nJ 中心波长: 810 - 810 nm

    Femtorose 20 MDC Compact将532 nm泵浦激光器和我们的专利反射镜色散控制锁模钛宝石振荡器集成到一个集成盒中。这是工作在800nm左右的Femtorose 20MDC的固定波长版本。它有2 W和4 W泵浦版本。在该配置中,4mm厚的增益介质的材料色散由没有腔内棱镜对的低损耗负色散介电镜压缩器补偿。当由内置532nm激光器的4W泵浦时,该激光器提供高达550mW的锁模输出功率。

  • 飞秒激光微机械加工工作站FemtoFAB 激光器模块和系统
    立陶宛
    波长: 1028nm 工作距离: 18.4mm 处理区: > 50 mm^2 最大峰值功率: 1kW 最大线性处理速度: 350mm/sec

    飞秒激光微加工系统FemtoFab是一种为特定工业过程设计的交钥匙激光加工系统。根据特定的激光微加工应用来选择和仔细调整配置。系统由1级等效激光安全外壳保护,并通过高级SCA工程师软件窗口进行控制。