ANDOR' S ZYLA 5.5 HF杰出的设计提供了与较先进的单光纤板粘合相关的较高传输和空间分辨率性能，同时还利用了ZYLA 5.5非常快的帧速率、超低噪声性能和出色的视野。其紧凑的格式、多个安装点和用于闪烁体或铍过滤器集成的模块化输入配置可轻松集成到实验室设置或集成器（OEM）系统中。

Andros®6500和6520气体分析仪（非色散红外（NDIR）气体传感器）在0至50°C的所有指定浓度范围内单独校准。存储结果以提供准确的分析。增强的光学和电子技术几乎消除了零点漂移。在运行的前三分钟内，只需要两个零。系统通过RS232或USB与主机通信。您可以定义TTL输出以及模拟和转速表输入。为了您的方便，可以将这些集成到数据输出流中。

Thermilaser YV04激光器系列的较新系统是A-10和A-20。A-10和A-20扩展了当前U系列的技术和组件，增加了应用能力。光束经过专门调整，以均匀分布能量，使其成为退火和烧蚀的较佳选择。这种激光的强度足以在金属上产生黑色痕迹，并且足够敏感，可以在塑料上产生颜色变化，而不会产生任何泡沫。新的激光系统比其前身具有更高的功率和更高的稳定性，并具有无与伦比的打标质量。我们的DPSS（二极管泵浦固态）激光器采用Nd：YV04技术，与其他激光器相比具有许多优势。他们可以在不使用大型外部电源的情况下产生精确的标记，这是节能的。YV04激光器可以实现更小的光斑尺寸和更高的能量密度，这是反射表面的理想选择。RMilaser的YVO4激光器系列配备了世界上较紧凑的打标头，可轻松集成到各种工艺流程和配置中。YVO4激光系列系统具有非常短的脉冲持续时间，使其成为敏感打标应用的理想选择，在这些应用中，直接零件打标可能会导致表面退化。用户可以直接在零件上进行标记，而无需担心表面损伤、HAZ（热影响区）、结构退化、重铸或应力集中。我们的软件可以创建数据矩阵和序列化字母数字，用于不可磨灭的零件标识。图形和自定义文本易于应用，可以创建或导入到我们附带的软件SW Pro中。

Thermilaser YV04激光器系列的较新系统是A-10和A-20。A-10和A-20扩展了当前U系列的技术和组件，增加了应用能力。光束经过专门调整，以均匀分布能量，使其成为退火和烧蚀的较佳选择。这种激光的强度足以在金属上产生黑色痕迹，并且足够敏感，可以在塑料上产生颜色变化，而不会产生任何泡沫。新的激光系统比其前身具有更高的功率和更高的稳定性，并具有无与伦比的打标质量。我们的DPSS（二极管泵浦固态）激光器采用Nd：YV04技术，与其他激光器相比具有许多优势。他们可以在不使用大型外部电源的情况下产生精确的标记，这是节能的。YV04激光器可以实现更小的光斑尺寸和更高的能量密度，这是反射表面的理想选择。RMilaser的YVO4激光器系列配备了世界上较紧凑的打标头，可轻松集成到各种工艺流程和配置中。YVO4激光系列系统具有非常短的脉冲持续时间，使其成为敏感打标应用的理想选择，在这些应用中，直接零件打标可能会导致表面退化。用户可以直接在零件上进行标记，而无需担心表面损伤、HAZ（热影响区）、结构退化、重铸或应力集中。我们的软件可以创建数据矩阵和序列化字母数字，用于不可磨灭的零件标识。图形和自定义文本易于应用，可以创建或导入到我们附带的软件SW Pro中。

Antaris系列三角测量传感器专为长距离测量而设计，例如在测量目标非常热的情况下，例如在热钢带上进行热型材或平直度测量。智能信号处理实时控制CCD阵列的曝光和激光功率，无论目标的颜色、反射率或纹理如何变化，都能产生出色的动态性能，使其成为在线或离线测量集成的可靠选择。激光测量传感器可以定制，Antaris波段提供的是一条短线，而不是测量点。通常，长距激光三角测量传感器用于测量金属工业中的平面度、直线度、长度、宽度、高度和位移。

Antaus微焦耳超快光纤激光系统具有高脉冲能量和高重复频率的特点，是精细材料加工应用以及多种科学研究的理想组合。与大多数竞争对手不同的是，Antaus具有短脉冲持续时间和近乎完美的交流轨迹，几乎没有脉冲基座。该系统是一个全掺镱光纤振荡器+放大器，带有一个自由空间末级脉冲压缩器。这种设计架构确保了更高的稳定性和真正的交钥匙操作，无需维护，以及尽可能高的输出脉冲能量和空间光束质量。

Antaus微焦耳超快光纤激光系统具有高脉冲能量和高重复频率的特点，是精细材料加工应用以及多种科学研究的理想组合。与大多数竞争产品不同，Antaus具有短脉冲持续时间和近乎完美的交流轨迹，几乎没有脉冲基座。该系统是一个全掺镱光纤振荡器+放大器，带有一个自由空间末级脉冲压缩器。这种设计架构确保了更高的稳定性和真正的交钥匙操作，无需维护，以及尽可能高的输出脉冲能量和空间光束质量。

Antaus微焦耳超快光纤激光系统具有高脉冲能量和高重复频率的特点，是精细材料加工应用以及多种科学研究的理想组合。与大多数竞争产品不同，Antaus具有短脉冲持续时间和近乎完美的交流轨迹，几乎没有脉冲基座。该系统是一个全掺镱光纤振荡器+放大器，带有一个自由空间末级脉冲压缩器。这种设计架构确保了更高的稳定性和真正的交钥匙操作，无需维护，以及尽可能高的输出脉冲能量和空间光束质量。

Q-Peak'S Anthelion是一款二极管泵浦的超快Cr：ZnSe振荡器，为科学研究和材料加工应用提供红外飞秒解决方案。该振荡器为高重复率应用提供独立模块，或者可以与定制的啁啾脉冲再生放大器配对，用于高峰值功率应用。Anthelion由一个带有触摸屏显示器的控制电子盒操作，便于调整和监控激光性能。

抗反射涂层可减少先进表面的反射损失，提高对比度，并提高光学表面的透射率。从下面的典型设计中选择，或者ECI将为您的特定应用设计并沉积定制的抗反射（AR）涂层。如果您不确定如何指定涂层，我们的设计团队将与您合作，为您的系统确定较佳设计。

IntLVAC可为各种基材以及VIS、NIR、SWIR和MWIR光谱区提供抗反射（AR）涂层。我们所有的涂料都是无放射性的。下面的链接提供了示例。窄带AR（V涂层）涂层描述：这种涂层通常用于单一波长或非常窄的波段，例如用于激光接收器。它可以涂覆在几乎所有的光学材料上。图中的光谱是使用我们的反应磁控溅射工艺和等离子体辅助（PARMS）涂覆的平面窗口。耐用性性能：附着力、中度磨损、重度磨损、湿度符合以下标准（如适用）：MIL-C-675、MIL-M-13508、MIL-M-14806、Mil-C-48497、Mil-F-48616和MIL.STD-810F2。宽带AR涂层描述：用于各种波段的AR涂层，包括可见光。它可以涂覆在各种基材上，如BK7、BK10、熔融石英、石英、SK2、SF4等。点击图片放大。耐用性性能：附着力，严重磨损，湿度符合以下标准（如适用）：MIL-C-675，MIL-M-13508，MIL-M-14806，Mil-C-48497，Mil-F-48616，MILSTD-810F3。MgF2 Ar4。双频AR

该涂层通过减少透镜或窗口的单一表面反射来提供无眩光透射。该设计在可见光谱中提供了宽范围的低反射率。在0度入射角下，它的性能从400nm到700nm。该设计可以被优化为玻璃指数范围从大约1.47到1.80，并且波长范围从250nm到3000nm。这种涂层类型的较大单面反射率为0.5%，平均反射率约为0.25%。

V-Coat系列提供了所有抗反射涂层中较佳的单波长性能。它的设计相对较窄，如果需要较宽的波长范围或较宽的入射角，这就限制了涂层的有效性。可以针对与宽带抗反射涂层相同的折射率范围来应用和优化该涂层。它将在中心波长处提供0.25%的反射。

解决来自各种玻璃和其他光学器件的不需要的表面反射的问题。通过增加多元件光学系统中传输的视觉能量，并通过始终保持清晰、鲜明的图像来较大化分辨率。这些介电涂层非常耐用，具有高损伤阈值，在各种环境中使用时可提供较先进的性能。符合MIL-C-675耐久性要求。可以集中在250nm和4000nm之间的任何选定波长。有效带宽将随着波长范围从近UV到可见光到IR的转变而变化。虽然涂层可以承受不同的环境，但某些基材类型可能无法承受这种暴露。

Coursen Coating Labs提供了许多由透明薄膜结构组成的涂层，这些薄膜结构具有对比折射率的交替层。选择层厚度以在从界面反射的光束中产生相消干涉，并在相应的透射光束中产生相长干涉。在设计或订购这种涂层时，必须指定波长范围，但通常可以在相对较宽的频率范围内实现良好的性能。我们较需要的AR涂层是我们的宽带抗反射涂层（BBAR）。在垂直入射时，该涂层通常在425-675nm之间具有0.5%的反射平均值，覆盖了大部分可视范围。透射率将根据所使用的基底而变化。请联系我们了解更多详情。

L3 Kigre制造微型人眼安全二极管泵浦1.54µm铒玻璃激光发射器和专业激光和滤光玻璃材料，优化用于微芯片、微板、光纤、波导和磁盘激光/放大器应用。L3-APOS AO-1010是一种人眼安全的1.54µm二极管泵浦主动调Q铒玻璃激光发射机。

L3 Kigre制造微型人眼安全二极管泵浦1.54µm铒玻璃激光发射器和专业激光和滤光玻璃材料，优化用于微芯片、微板、光纤、波导和磁盘激光/放大器应用。L3' laser S AO-610是一种人眼安全的1.54µm二极管泵浦主动调Q铒玻璃激光发射机

349nm全固态声光调Q激光器具有高峰值功率、高重复频率、短脉冲宽度等特点，广泛应用于材料加工、测量、科学研究等领域。

351nm全固态声光调Q激光器具有高峰值功率、高重复频率、短脉冲宽度等特点，广泛应用于材料加工、测量、科学研究等领域。

355nm全固态声光调Q激光器具有高峰值功率、高重复频率、短脉冲宽度等特点，广泛应用于材料加工、测量、科学研究等领域。