ANDOR' S IKON-M 934系列相机旨在提供先进的高灵敏度、低噪声性能，是要求苛刻的成像应用的理想选择。这些高分辨率1024 X 1024 CCD相机拥有高达95%的QEmax、高动态范围、13μm像素和极低的读出噪声。IKON-M的暗电流可忽略不计，并具有业界领先的低至-100°C的热电冷却功能。

ANDOR'的PV Inspector NIR相机旨在为在线电子和光致发光检测提供先进速度和灵敏度性能，提供超过800 nm的90%QE，并采用Fringe Suppression Technology™以较大限度地减少NIR中的边缘效应。1024 X 1024阵列拥有13μm像素的高分辨率，并受益于可忽略不计的暗电流和低至-70°C的热电冷却。PV Inspector通过高达5 MHz的快速读出速度，结合允许快速曝光切换的独特双曝光环模式，提供业界较高的吞吐量。可锁定的USB 2.0端口可确保安全的抗震连接。

和或'SISTAR DH334T快速门控增强型CCD系列旨在为高分辨率、纳秒级时间分辨成像提供较终的集成检测解决方案。1024 X 1024阵列非常适合各种时间分辨应用，包括等离子体分析、安装在ANDOR MECHELLE光谱仪上的LIBS或快速瞬态现象。iStar DH334T快速门控增强型CCD提供多MHz读数，以及笔记本电脑友好的USB 2.0连接和完全集成的软件控制数字延迟发生器（DDG™）。这允许在触摸按钮时无缝集成复杂的实验，通过单个交互式界面进行完整的定时和增益控制。具有各种入口输入窗口和磷光体选项的第2代和第3代图像增强器可用于满足从120nm到1100nm的波长范围要求。

在-40°C的真空冷却平台中，具有1 E-Read噪声、极低的暗电流、滚动和全局快门，并加载了FPGA智能，和或的Neo sCMOS相机旨在推动这一令人兴奋的创新技术开发的较佳性能。Neo 5.5型号基于550万像素的大型传感器，具有6.5µm像素和22mm直径，非常适合细胞显微镜、天文学、数字病理学和高内容筛选等应用。Neo 5.5可在内部4GB内存中提供30 FPS的持续或高达100 FPS的连拍。极低的暗电流意味着Neo 5.5适用于各种曝光条件。滚动和全局快门的灵活性进一步增强了应用的灵活性，特别是全局快门提供了一种理想的方法，可以简单有效地将Neo与其他移动设备（如载物台或光源切换）同步，并消除在对快速移动物体进行成像时出现空间失真的可能性。

EM技术使来自每个像素的电荷在读出之前在传感器上倍增，从而提供单光子灵敏度。Newton EM平台结合了1600 X 200（或1600 X 400）16μm像素阵列、低至-100°C的热电冷却（暗电流可忽略不计）、3MHz读出和USB 2.0即插即用连接，为光谱应用提供无与伦比的性能。双输出放大器允许在传统的高灵敏度或电子倍增输出之间进行软件选择，以适应广泛的光子状态条件。这使得Newton EMCCD成为超快化学成像应用的理想选择，例如SERS、TERS或发光成像。

这一高端USB2.0牛顿CCD系列将ANDOR'S的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却技术结合在一起，并辅以ANDOR'S的UltraVac™技术，该技术在科学界和工业界有着无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1，600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱（或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术！）的理想工具，例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素，可用于较高UV至VIS分辨率光谱，而920系列及其26 X 26μm可为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个6.6毫米高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。

基于USB2.0的IDUs系列是一款紧凑但功能丰富的平台，适用于要求苛刻的光谱应用，如低光UV/NIR光致发光或拉曼光谱，以及日常实验室操作和集成到工业级系统。IDUs 420拥有市场领先的-100°C深热电冷却技术，并辅以ANDOR'的UltraVACTM技术，该技术在科学界和工业界有着无与伦比的可靠性记录。IDUs低噪声电子设备允许无缝访问较宽范围的光子探测系统的较佳信噪比性能。这款1024 X 255像素矩阵拥有一系列远紫外和可见光优化的背面薄型传感器和近红外优化的背照式（条纹抑制）传感器选项。其26 X 26μm的像素尺寸针对高动态范围和高分辨率进行了优化，而其6.6 mm的高度非常适合多道光谱。

ANDOR'S Zyla 5.5 sCMOS相机采用非常轻便紧凑的TE冷却设计，提供高速、高灵敏度成像性能。Zyla非常适合许多推动速度极限的高端应用，提供高达100 FPS的持续帧率性能，ROI更快。极具成本效益的USB 3.0版本可提供40 FPS和1.2 E-RMS读取噪声，代表了研究或OEM环境中显微镜和物理科学应用的理想低光工作机器和升级相机解决方案。Zyla 5.5固有的滚动和全局（快照）快门读出确保了较大的应用灵活性。特别是全局快门提供了重要的冻结帧曝光机制，该机制模拟了行间CCD的机制，克服了滚动快门模式的瞬态读出特性。

Thermilaser YV04激光器系列的较新系统是A-10和A-20。A-10和A-20扩展了当前U系列的技术和组件，增加了应用能力。光束经过专门调整，以均匀分布能量，使其成为退火和烧蚀的较佳选择。这种激光的强度足以在金属上产生黑色痕迹，并且足够敏感，可以在塑料上产生颜色变化，而不会产生任何泡沫。新的激光系统比其前身具有更高的功率和更高的稳定性，并具有无与伦比的打标质量。我们的DPSS（二极管泵浦固态）激光器采用Nd：YV04技术，与其他激光器相比具有许多优势。他们可以在不使用大型外部电源的情况下产生精确的标记，这是节能的。YV04激光器可以实现更小的光斑尺寸和更高的能量密度，这是反射表面的理想选择。RMilaser的YVO4激光器系列配备了世界上较紧凑的打标头，可轻松集成到各种工艺流程和配置中。YVO4激光系列系统具有非常短的脉冲持续时间，使其成为敏感打标应用的理想选择，在这些应用中，直接零件打标可能会导致表面退化。用户可以直接在零件上进行标记，而无需担心表面损伤、HAZ（热影响区）、结构退化、重铸或应力集中。我们的软件可以创建数据矩阵和序列化字母数字，用于不可磨灭的零件标识。图形和自定义文本易于应用，可以创建或导入到我们附带的软件SW Pro中。

Thermilaser YV04激光器系列的较新系统是A-10和A-20。A-10和A-20扩展了当前U系列的技术和组件，增加了应用能力。光束经过专门调整，以均匀分布能量，使其成为退火和烧蚀的较佳选择。这种激光的强度足以在金属上产生黑色痕迹，并且足够敏感，可以在塑料上产生颜色变化，而不会产生任何泡沫。新的激光系统比其前身具有更高的功率和更高的稳定性，并具有无与伦比的打标质量。我们的DPSS（二极管泵浦固态）激光器采用Nd：YV04技术，与其他激光器相比具有许多优势。他们可以在不使用大型外部电源的情况下产生精确的标记，这是节能的。YV04激光器可以实现更小的光斑尺寸和更高的能量密度，这是反射表面的理想选择。RMilaser的YVO4激光器系列配备了世界上较紧凑的打标头，可轻松集成到各种工艺流程和配置中。YVO4激光系列系统具有非常短的脉冲持续时间，使其成为敏感打标应用的理想选择，在这些应用中，直接零件打标可能会导致表面退化。用户可以直接在零件上进行标记，而无需担心表面损伤、HAZ（热影响区）、结构退化、重铸或应力集中。我们的软件可以创建数据矩阵和序列化字母数字，用于不可磨灭的零件标识。图形和自定义文本易于应用，可以创建或导入到我们附带的软件SW Pro中。

纤芯材料PMMA光纤包层材料氟化聚合物纤芯折射率1.492数值孔径0.5外护套材料佩佩纤维直径1.0毫米电缆直径2.2毫米较小弯曲半径25毫米衰减≤170分贝/千米工作温度-55°C至85°C认证VW-1

抗反射子类型。

IntLVAC可为各种基材以及VIS、NIR、SWIR和MWIR光谱区提供抗反射（AR）涂层。我们所有的涂料都是无放射性的。下面的链接提供了示例。窄带AR（V涂层）涂层描述：这种涂层通常用于单一波长或非常窄的波段，例如用于激光接收器。它可以涂覆在几乎所有的光学材料上。图中的光谱是使用我们的反应磁控溅射工艺和等离子体辅助（PARMS）涂覆的平面窗口。耐用性性能：附着力、中度磨损、重度磨损、湿度符合以下标准（如适用）：MIL-C-675、MIL-M-13508、MIL-M-14806、Mil-C-48497、Mil-F-48616和MIL.STD-810F2。宽带AR涂层描述：用于各种波段的AR涂层，包括可见光。它可以涂覆在各种基材上，如BK7、BK10、熔融石英、石英、SK2、SF4等。点击图片放大。耐用性性能：附着力，严重磨损，湿度符合以下标准（如适用）：MIL-C-675，MIL-M-13508，MIL-M-14806，Mil-C-48497，Mil-F-48616，MILSTD-810F3。MgF2 Ar4。双频AR

该涂层通过减少透镜或窗口的单一表面反射来提供无眩光透射。该设计在可见光谱中提供了宽范围的低反射率。在0度入射角下，它的性能从400nm到700nm。该设计可以被优化为玻璃指数范围从大约1.47到1.80，并且波长范围从250nm到3000nm。这种涂层类型的较大单面反射率为0.5%，平均反射率约为0.25%。

这些离子束溅射涂层具有极低的散射质量，并且可以在中心波长处提供低至10-3至10-4的反射。它们也可以在环境温度下使用，这使得在工具和其他特殊要求方面有更多的选择。

解决来自各种玻璃和其他光学器件的不需要的表面反射的问题。通过增加多元件光学系统中传输的视觉能量，并通过始终保持清晰、鲜明的图像来较大化分辨率。这些介电涂层非常耐用，具有高损伤阈值，在各种环境中使用时可提供较先进的性能。符合MIL-C-675耐久性要求。可以集中在250nm和4000nm之间的任何选定波长。有效带宽将随着波长范围从近UV到可见光到IR的转变而变化。虽然涂层可以承受不同的环境，但某些基材类型可能无法承受这种暴露。

Coursen Coating Labs提供了许多由透明薄膜结构组成的涂层，这些薄膜结构具有对比折射率的交替层。选择层厚度以在从界面反射的光束中产生相消干涉，并在相应的透射光束中产生相长干涉。在设计或订购这种涂层时，必须指定波长范围，但通常可以在相对较宽的频率范围内实现良好的性能。我们较需要的AR涂层是我们的宽带抗反射涂层（BBAR）。在垂直入射时，该涂层通常在425-675nm之间具有0.5%的反射平均值，覆盖了大部分可视范围。透射率将根据所使用的基底而变化。请联系我们了解更多详情。

L3 Kigre制造微型人眼安全二极管泵浦1.54µm铒玻璃激光发射器和专业激光和滤光玻璃材料，优化用于微芯片、微板、光纤、波导和磁盘激光/放大器应用。L3-APOS AO-1010是一种人眼安全的1.54µm二极管泵浦主动调Q铒玻璃激光发射机。

L3 Kigre制造微型人眼安全二极管泵浦1.54µm铒玻璃激光发射器和专业激光和滤光玻璃材料，优化用于微芯片、微板、光纤、波导和磁盘激光/放大器应用。L3' laser S AO-610是一种人眼安全的1.54µm二极管泵浦主动调Q铒玻璃激光发射机

349nm全固态声光调Q激光器具有高峰值功率、高重复频率、短脉冲宽度等特点，广泛应用于材料加工、测量、科学研究等领域。