Cr4+：YAG在0.9-1.2微米光谱范围内提供了大的吸收截面，这使其成为掺钕激光器被动调Q开关的一个有吸引力的选择。所得到的器件是固态的、紧凑的和低成本的。Cr：YAG具有高损伤阈值、良好的导热性、良好的化学稳定性、抗紫外线辐射，并且易于加工。它正在取代更传统的Q开关材料，比如氟化物和有机染料。所使用的掺杂剂水平在0.5%和3%（摩尔）之间。Cr：YAG可用于工作波长在1000和1200nm之间的激光器的被动调Q，例如基于Nd：YAG、Nd：YLF、Nd：YVO4和Yb：YAG的激光器。Cr：YAG本身也可用作激光增益介质，产生输出在1350和1550nm之间可调的可调谐激光器。Cr：YAG激光器在Nd：YAG激光器的1064nm泵浦下，可以产生飞秒量级的超短脉冲。

这些高性能光学元件是利用先进的CNC设备制造的。Zygo'的GPI-XP干涉仪用于确保这些光学器件的表面精度和性能。UV级镜片采用研究级合成熔融石英精密制造。除了提供优异的透射特性和更高的工作温度外，合成熔融石英镜片还具有优异的夹杂物规格和化学纯度。这些透镜是许多激光和成像应用的较佳选择，特别是那些涉及紫外线波长的应用。宽带抗反射涂层可用于优化紫外光谱中的吞吐量。

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简洁基础+2µm超快脉冲激光器系列

Brevityλ+是一款在2.1µm处发射的交钥匙飞秒光纤激光器。非常高的峰值功率（100 kW）允许在广泛的科学应用中使用该激光器，例如非线性光学（超连续产生、高次谐波产生）或泵浦/探测测量。基于专利种子源，该光纤激光器发射脉冲持续时间低于100 FS且PER大于10 dB的转换限制脉冲。

EUV光刻机面临的较大问题是解决RLS权衡：同时提高分辨率、线宽粗糙度（LWR）和光敏性。AL412旋涂辅助层材料已经显示出降低线边缘粗糙度（LER）和图案塌陷、平坦化形貌、保护下面的层免受高能EUV光子损伤、改善粘附性以及改善图案转移蚀刻选择性。

纳米薄膜_EP4BAM是EP4成像椭偏平台的一种特殊配置。是一种理想的薄膜成像系统，可升级为成像椭偏仪。这是一个完全无需动手的计算机控制系统，使用专有的电机控制电路。Nanofilm_EP4BAM可直接在显示器上显示样品的实时图像，并具有重要的图像处理功能。物镜扫描仪为整体聚焦图像提供了扩展的景深。高功率绿色激光器和出色的物镜相结合，可实现1微米的横向分辨率，这是目前CCD光学探测器的极限。强大的软件使操作变得简单方便。作为一个完整的解决方案，该系统包括计算机、电子设备和所有必要的软件，用于在您现有的槽上或使用我们的集成槽之一开始测量。水槽是一个单独的项目，不包括在标准中。

中等精度就足够的经济型准直激光器。LaserGlow'的点生成激光模块将为您提供任何校准应用的快速参考点。Brightline系列红点生成激光模块是一种经济的解决方案，适用于需要中等精度的任务。

具有可调焦距和其他专业功能的高精度校准激光器LaserGlow'的点生成激光模块将为您提供任何校准应用的快速参考点。Brightline Pro红点生成激光模块集成了焦点可调光学器件，大大提高了需要更高精度或更大工作距离的任务的精度。

这些分束器立方体使用混合（金属/电介质）分束器涂层，以在宽光谱范围内实现显著程度的均匀性，同时限制金属膜的偏振趋势。它们通常用于低功率应用，其中薄膜的少量吸收不会引起问题。

这些薄膜分束器被设计成在45度入射下工作，并在宽波长范围内在透射和反射光束之间提供相等的分离。

这些粘合的偏振分束器立方体被涂上涂层，以便能够在宽波长范围内工作。偏振分离非常出色，无论波长如何，透射光束和反射光束都彼此相差90°。

eSource Optics宽带VUV至UV光学分束器（BBVUVB）是金属VUV至UV宽带分束器光学涂层，设计用于在170nm至300nm VUV-UV波长范围内提供40%至50%的平均反射率和透射率（45度入射角（Aoi）无偏振）。eSource Optics宽带VUV到UV光学分束器（BBVUVB）可提供标准25.4mm和50.8mm直径。其他尺寸可根据要求提供。eSource Optics宽带VUV到UV光学分束器（BBUVB）是金属-电介质-金属（MDM）设计的薄膜涂层，作为未安装和开面VUV-UV分束器提供。开面宽带真空紫外到紫外光学分束器（BBUVB）是使用高纯度紫外级熔融石英衬底制造的，用于真空紫外到紫外波长170nm到300nm。所有VUV至UV光学分束器（BBVUVBS）基板均高度抛光至A=40-20划痕表面质量，平行度小于5弧分。

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